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ASML研發(fā)更先進(jìn)光刻機(jī) 高數(shù)值孔徑極紫外光刻設(shè)計(jì)基本完成

工程師鄧生 ? 來(lái)源:快科技 ? 作者:雪花 ? 2020-12-29 11:06 ? 次閱讀
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對(duì)于阿斯麥(ASML)來(lái)說(shuō),他們正在研發(fā)更先進(jìn)的***,這也是推動(dòng)芯片工藝?yán)^續(xù)前行的重要?jiǎng)恿Α?/p>

ASML是全球目前唯一能制造極紫外***的廠商,其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C這兩款極紫外***之后,還在研發(fā)更先進(jìn)、效率更高的極紫外***。

從外媒的報(bào)道來(lái)看,除了NXE:3600D,阿斯麥還在研發(fā)高數(shù)值孔徑的極紫外***NXE:5000系列,設(shè)計(jì)已經(jīng)基本完成。

外媒在報(bào)道中也表示,雖然阿斯麥NXE:5000高數(shù)值孔徑極紫外***的設(shè)計(jì)已基本完成,但商用還需時(shí)日,預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始商用。

作為一款高數(shù)值孔徑的極紫外***,NXE:5000系列的數(shù)值孔徑,將提高到0.55,阿斯麥目前已推出的TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C這兩款極紫外***,數(shù)值孔徑為0.33。

在不久前舉辦的線上活動(dòng)中,歐洲微電子研究中心IMEC首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove在線上演講中表示,在與ASML公司的合作下,更加先進(jìn)的***已經(jīng)取得了進(jìn)展。

Luc Van den hove表示,IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得***競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場(chǎng),目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)***產(chǎn)能,近年來(lái),IMEC一直在與ASML研究新的EUV***,目前目標(biāo)是將工藝規(guī)??s小到1nm及以下。

責(zé)任編輯:PSY

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