chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

ASML完成第100臺EUV光刻機(jī)出貨

? 來源:互聯(lián)網(wǎng) ? 作者:未知 ? 2021-01-03 00:28 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

臺積電和三星均已投入5nm工藝的量產(chǎn),前者代工的產(chǎn)品包括蘋果A14、M1、華為麒麟9000等,后者則包括Exynos 1080、驍龍888等。其實(shí)從7nm開始,臺積電和三星就開始引入EUV光刻,但過程層數(shù)較少。按照ASML(阿斯麥)的說法,迭代到5nm后,EUV的層數(shù)達(dá)到了10~14層,包括但不限于觸點(diǎn)、過孔以及關(guān)鍵金屬層等過程。未來的3nm、2nm,對EUV的依賴將更甚。

根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示,ASML在12月中完成了第100臺EUV***的出貨。更加利好的消息是,業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年(2021年)的EUV***產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺的規(guī)模。

畢竟,2019年ASML僅出貨了26臺,去年三季度后全年累計(jì)出貨23臺(全年預(yù)估35臺),可謂少得可憐。

另外,ASML定于明年中旬交付最新一代EUV***TWINSCAN NXE:3600D,生產(chǎn)效率提升18%、機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度改進(jìn)為1.1nm,單臺價(jià)格或高于老款的1.2億歐元(約合9.5億元人民幣)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 臺積電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    44

    文章

    5787

    瀏覽量

    174785
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1196

    瀏覽量

    48737
  • ASML
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    734

    瀏覽量

    43343
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)!

    其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例,這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進(jìn)制程芯片 時代,不僅需要EUV光刻機(jī),更需要
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?5852次閱讀

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機(jī)路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?9394次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>路線圖,挑戰(zhàn)<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飆升!ASML光刻機(jī)直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝(FOPLP)技術(shù)為何會獲得積電、三星等代工大廠的青睞?比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備,尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同?能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問題? 針對2nm、3nm芯片制造
    的頭像 發(fā)表于 07-24 09:29 ?7265次閱讀
    AI需求飆升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠

    近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司(簡稱“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠,標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
    的頭像 發(fā)表于 10-10 17:36 ?744次閱讀

    全球市占率35%,國內(nèi)90%!芯上微裝500步進(jìn)光刻機(jī)交付

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡稱:芯上微裝,英文簡稱:AMIES)500步進(jìn)光刻機(jī)成功交付,并舉辦了500
    發(fā)表于 08-13 09:41 ?1775次閱讀
    全球市占率35%,國內(nèi)90%!芯上微裝<b class='flag-5'>第</b>500<b class='flag-5'>臺</b>步進(jìn)<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>交付

    光刻機(jī)實(shí)例調(diào)試#光刻機(jī) #光學(xué) #光學(xué)設(shè)備

    光刻機(jī)
    jf_90915507
    發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57

    ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?1828次閱讀

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來機(jī)會

    【2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機(jī)的需求持續(xù)增長,尤其是在先
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?1145次閱讀

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1898次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?971次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?2279次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?5754次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)介紹

    納米級別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟,負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源,但隨著技術(shù)的進(jìn)步,目前多采用深紫外(DUV)或極紫外(
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?4168次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    日本首臺EUV光刻機(jī)就位

    本月底完成。 Rapidus 計(jì)劃 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片,于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機(jī)器結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù),可形成超精細(xì)電路圖案。該系統(tǒng)體積小,不易受到振動和其他干擾。
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?1414次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位