chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

ASML完成第100臺EUV光刻機(jī)的出貨

lhl545545 ? 來源:快科技 ? 作者:萬南 ? 2021-01-04 10:29 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

臺積電和三星均已投入5nm工藝的量產(chǎn),前者代工的產(chǎn)品包括蘋果A14、M1、華為麒麟9000等,后者則包括Exynos 1080、驍龍888等。

其實(shí)從7nm開始,臺積電和三星就開始引入EUV光刻,但過程層數(shù)較少。按照ASML(阿斯麥)的說法,迭代到5nm后,EUV的層數(shù)達(dá)到了10~14層,包括但不限于觸點(diǎn)、過孔以及關(guān)鍵金屬層等過程。未來的3nm、2nm,對EUV的依賴將更甚。

根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示,ASML在12月中完成了第100臺EUV***的出貨。更加利好的消息是,業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年(2021年)的EUV***產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺的規(guī)模。

畢竟,2019年ASML僅出貨了26臺,去年三季度后全年累計(jì)出貨23臺(全年預(yù)估35臺),可謂少得可憐。

另外,ASML定于明年中旬交付最新一代EUV***TWINSCAN NXE:3600D,生產(chǎn)效率提升18%、機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度改進(jìn)為1.1nm,單臺價(jià)格或高于老款的1.2億歐元(約合9.5億元人民幣)。
責(zé)任編輯:pj

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 三星電子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    34

    文章

    15888

    瀏覽量

    182347
  • 臺積電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    44

    文章

    5755

    瀏覽量

    169791
  • ASML
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    729

    瀏覽量

    42301
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3402次閱讀

    ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?1262次閱讀

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1024次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?492次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1355次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?2525次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    納米級別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟,負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源,但隨著技術(shù)的進(jìn)步,目前多采用深紫外(DUV)或極紫外(
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?2228次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    日本首臺EUV光刻機(jī)就位

    本月底完成。 Rapidus 計(jì)劃 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片,于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機(jī)器結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù),可形成超精細(xì)電路圖案。該系統(tǒng)體積小,不易受到振動(dòng)和其他干擾。
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?914次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位

    用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2454次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽(yù)為芯片制
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5855次閱讀

    一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件技術(shù)

    ,光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件技術(shù)展開介紹。 一、光刻機(jī)發(fā)展歷程
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?4606次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的結(jié)構(gòu)及雙工件<b class='flag-5'>臺</b>技術(shù)

    光刻機(jī)巨頭拋出重磅信號 阿斯麥(ASML)股價(jià)大幅上漲

    在2024年投資者會議上,光刻機(jī)巨頭拋出重磅利好;緊接著ASML股價(jià)開始大幅拉升;一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會議上宣布,預(yù)計(jì)2030年的銷售額將在440億歐元至600億歐元之間
    的頭像 發(fā)表于 11-15 19:48 ?5856次閱讀

    今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)

    光刻機(jī)售價(jià)約3.5億美元(約合人民幣25億元),遠(yuǎn)高于ASML標(biāo)準(zhǔn)EUV系列的1.8億~2億美元。High NA系統(tǒng)具有8
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?1045次閱讀

    光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 ASML股價(jià)暴跌16.26%創(chuàng)最大的單日跌幅

    在當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公布了一份不及預(yù)期的第三季度業(yè)績報(bào)告;訂單量環(huán)比下降53%,?業(yè)績爆雷第一時(shí)間反應(yīng)到ASML公司的股價(jià)暴跌。 在美股市場,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML
    的頭像 發(fā)表于 10-16 16:49 ?1264次閱讀