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2021年將是3nm工藝大戰(zhàn)的序幕

如意 ? 來源:半導體行業(yè)觀察 ? 作者:暢秋 ? 2021-01-27 10:17 ? 次閱讀
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上周,業(yè)內最受關注的新聞,非三星計劃在美國德克薩斯州奧斯汀建設一個價值100億美元的晶圓廠莫屬了。這被認為是其追趕臺積電發(fā)展步伐的又一舉措。實際上,三星在美國建新晶圓廠已經(jīng)不是什么新聞了,該公司在這方面早有想法,特別是去年臺積電宣布在美國亞利桑那州投資120億美元新建5nm晶圓廠以后,三星希望在其美國原有晶圓廠的基礎上,更上一層樓,不被臺積電甩在遠處。

在5nm制程方面,三星已經(jīng)趕上了臺積電的腳步,于2020年實現(xiàn)了量產(chǎn)。但在3nm上,三星似乎還是落后于臺積電的,據(jù)報道,臺積電已經(jīng)為其3nm工藝的晶圓廠投資了200億美元。為了縮短差距,有報道稱,三星將完全跳過4nm制程節(jié)點,直接上3nm。

由于3nm制程工藝的難度極大,如果三星美國工廠計劃生產(chǎn)3nm制程芯片的話,按照正常進度,目前還處于初步計劃階段的德克薩斯州奧斯汀的晶圓工廠,在2023年前難以開展生產(chǎn)。而臺積電的3nm制程工藝將于今年進行試產(chǎn),2022年量產(chǎn)。這對于力求趕超臺積電的三星來說,壓力還是很大。不過,相信三星3nm制程的主陣地應該還是在韓國本土的。

同5nm一樣,全球半導體業(yè)具備且正在3nm制程上進行競爭的產(chǎn)商,依然只有臺積電和三星這兩家。由于3nm工藝更加高精尖,這種“塔尖上”的競爭會更加激烈,因為能夠給這兩大晶圓廠提供相關設備、工具、材料、服務等的上游企業(yè)更少了,這對于上游供應商來說是個好消息,因為它們的競爭者很少,但對于下游的臺積電和三星來說,可選擇的上游供應鏈余量更有限了,特別是對于三星來講,難度恐怕會更大。

晶圓廠建設

臺積電方面,該公司董事長劉德音曾經(jīng)表示,在3nm制程上,于南科廠的累計投資將超過 2萬億元新臺幣,目標是3nm量產(chǎn)時,12英寸晶圓月產(chǎn)能超過60萬片。60萬片的月產(chǎn)能,這是一個非常驚人的數(shù)字,不過,在量產(chǎn)初期是達不到的,需要一個過程。據(jù)Digitimes報道,臺積電3nm芯片在2022年下半年開始量產(chǎn),單月產(chǎn)能5.5萬片起,2023年,將達到10.5萬片。

臺積電在臺南科學園區(qū)有3座晶圓廠,分別是晶圓十四廠、晶圓十八廠和晶圓六廠,其中前兩座是12英寸晶圓廠,后一座是8英寸晶圓廠。晶圓十八廠是5nm制程工藝的主要生產(chǎn)基地。而除了5nm工藝,臺積電3nm制程工藝的工廠,也建在臺南科學園區(qū)內,他們在2016年就公布了建廠計劃,工廠靠近5nm制程工藝的主要生產(chǎn)基地晶圓十八廠。

2020年11月,臺積電舉行了南科晶圓十八廠3nm廠新建工程上梁典禮,預計今年裝機,并于年底試產(chǎn)。

三星方面,2020年初,有外媒報道稱,三星已開始其新建的V1晶圓工廠的大規(guī)模生產(chǎn),成為業(yè)內首批完全使用6LPP和7LPP制造工藝的純極紫外光刻(EUV)生產(chǎn)線。而該工廠還被認為是三星3nm制程的主陣地。

據(jù)悉,三星V1晶圓廠位于韓國華城、毗鄰 S3。三星于2018年2月開始建造V1,并于2019 下半年開始晶片的測試生產(chǎn)。目前,該公司還在擴大V1晶圓廠的產(chǎn)能規(guī)模,也在緊鑼密鼓地為3nm量產(chǎn)做著準備。

設備

為了如期量產(chǎn)3nm制程芯片,臺積電一直在加大投資力度,2021年全年投資預估達到了280億美元,預計超過150億美元會用于3nm制程。其中,很大一部分都要用于購買半導體設備,涉及的廠商主要有ASML、KLA、應用材料等,他們供應的光刻機、蝕刻機等都是制造3nm制程芯片的重要設備。

全球排名前五的半導體設備供應商在臺積電采購中占比達75%,其中,ASML占比1/3,是第一大設備供應商。據(jù)統(tǒng)計,2019年臺積電設備采購中,ASML光刻機等設備金額約為34億美元,占臺積電總采購額的33%,其次是應用材料,采購額約為17億美元,占比16%,TEL約12億美元,占11%,Lam Research為10億美元,占臺積電采購額的9%,迪恩士占5%,KLA占4%。

對于3nm這樣尖端地制程工藝來說,光刻機地重要性愈加突出,而能提供EUV設備的,只有ASML一家,因此,該公司對于臺積電和三星的重要性也愈加突出,雙方都在盡可能地從ASML那里多獲得一些最先進地EUV設備。

不久前,ASML CEO Peter Wennink在財報會上指出,5nm制程采用的EUV光罩層數(shù)將超過10層,3nm制程采用的EUV光罩層數(shù)會超過20層,隨著制程微縮EUV光罩層數(shù)會明顯增加,并取代深紫外光(DUV)多重曝光制程。

1月20日,ASML公布了2020全年財報,數(shù)據(jù)顯示,2020年,該公司累計交付了258臺光刻機,其中EUV光刻機31臺。按照交付地區(qū)劃分,中國臺灣地區(qū)排名第一,占比36%;韓國排名第二,占比31%;中國大陸排名第三,占比18%。顯然,臺積電和三星獲得了ASML絕大部分的EUV光刻機。

封測

近些年,臺積電一直在布局先進封測廠。目前,該公司旗下有4座先進封測廠,分別是先進封測一廠、先進封測二廠、先進封測三廠和先進封測五廠,它們位于竹科、中科、南科、龍?zhí)兜鹊?,苗栗竹南封測基地將是其第五座先進封測廠。該廠預計投資3000億元新臺幣,位于竹南科學園區(qū)周邊特定區(qū)、大埔范圍。

目前來看,該公司7nm制程芯片封測工作已經(jīng)能夠自給自足了,5nm的也在不斷擴充之中。面向3nm的封測產(chǎn)線也在建設當中。

為了滿足5nm及更先進制程的需求,臺積電已建立了整合扇出型(InFO)及CoWoS等封測產(chǎn)能支持,完成了3D IC封裝技術研發(fā),包括晶圓堆疊晶圓(WoW)及系統(tǒng)整合單芯片(SoIC)等技術,預計竹南廠將以3D IC封裝及測試產(chǎn)能為主,計劃今年量產(chǎn)。

人才

對于3nm制程而言,人才更加稀缺,而臺積電在這方面具有更多優(yōu)勢,基于此,可以優(yōu)中選優(yōu),挑選出更合適的人才,特別是領軍人物。

2020年5月,臺積電一項副總級的調動,引起了業(yè)內關注。資深副總秦永沛和王建光的職掌內容交換,原負責所有晶圓廠營運的王建光,轉任企業(yè)規(guī)劃組織,主要負責產(chǎn)品訂價及產(chǎn)品開發(fā);王建光原職掌項目由秦永沛負責,接手所有晶圓廠制造及營運。

兩位資深副總的職掌交換,被視為不同業(yè)務的歷練,一位負責接單,一位統(tǒng)管晶圓廠,就像過去創(chuàng)辦人張忠謀對現(xiàn)任董事長劉德音與總裁魏哲家的安排類似,而時間點又正值將進入3nm制程階段,引起接班梯隊的聯(lián)想。

據(jù)悉,秦永沛在臺積電過去推進先進制程的過程中,無役不與。這次的調度時機正好是在臺積電5nm量產(chǎn),即將進入3nm之際,兩個先進技術的生產(chǎn)重心都落在最先進的晶圓十八廠,就是由他負責。因此,秦被視為是臺積電3nm最主要的操盤手。

在3nm技術研發(fā)方面,現(xiàn)在是由研發(fā)資深副總米玉杰領軍。米玉杰是臺積電7nm、5nm的研發(fā)大將,接下來的3nm及2nm也是由他主導,他是目前臺積電兩位研發(fā)資深副總之一,另一位是羅唯仁。米玉杰的研究成果,會決定臺積電生產(chǎn)的表現(xiàn),他的研究結果再交給羅唯仁的團隊,負責研發(fā)出如何量產(chǎn)的技術,兩人是研發(fā)的火車頭。

此外,臺積電在先進制程可以一直領先對手的關鍵就是封裝。封裝技術是臺積電拿下蘋果訂單的決勝武器。半導體產(chǎn)業(yè)面對物理極限挑戰(zhàn),為了能在同一顆芯片里裝進更多晶體管,于是有了先進封測計劃。三星就是因為沒有這樣的技術,所以才與蘋果單失之交臂。

臺積電在封裝領域的靈魂人物是余振華與廖德堆兩位副總。余振華是臺積電聞名世界銅制程技術的重要推手,也是臺積電目前后段封測的研發(fā)推手;廖德堆2002年加入臺積電之前曾在特許半導體及應用材料任職過,曾任晶圓六廠的廠長和后段技術暨服務處資深處長,現(xiàn)負責管理后段技術與營運。

客戶

上周,據(jù)國外媒體報道,由于芯片制程工藝領先,還有更多的廠商在尋求獲得臺積電產(chǎn)能的支持,目前已知英偉達高通正在尋求獲得臺積電3nm芯片制程工藝的產(chǎn)能支持。

此前有報道稱,臺積電共為3nm工藝準備了4波產(chǎn)能,首波產(chǎn)能中的大部分會留給多年的大客戶蘋果,后3波將被高通、賽靈思、英偉達、AMD等廠商預訂。

具體來看,有報道稱,臺積電3nm制程的初期訂單,已被蘋果的Mac臺式機/筆記本芯片、iPhone/iPad所用的A17芯片,以及英特爾的最先進CPU包下。

除了蘋果A17、英特爾訂單外,包括AMD、NVIDIA,以及2020年轉向擁抱三星5nm的高通等芯片大廠,據(jù)稱也都已經(jīng)預定了臺積電3nm制程在2024年的產(chǎn)能。

此外,2020年底,臺積電又宣布,將會在2023年推出3nm工藝的增強版,命名為“3nm Plus”,首發(fā)客戶是蘋果。如果蘋果繼續(xù)一年一代芯片,那么到2023年使用3nm Plus工藝的,將會是“A17”。臺積電沒有透露3nm Plus相比于3nm有何變化,但是顯然會有更高的晶體管密度、更低的功耗、更高的運行頻率。

結語

有報道稱,三星的3nm制程也將定在2022年量產(chǎn),就是要與臺積電一較高下。目前已進入2021年,按照臺積電的計劃,今年就要進行3nm制程的風險試產(chǎn),明年量產(chǎn),而三星也在加快進度。這兩大晶圓代工廠的3nm制程爭奪戰(zhàn)已進入倒計時階段,在接下來的一年多時間里,兩家前進和追趕的步伐將呈現(xiàn)出更快的節(jié)奏。
責編AJX

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