chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

成熟制程工藝有哪些?淺談成熟制程的優(yōu)勢

lhl545545 ? 來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 ? 作者:暢秋 ? 2021-02-04 09:48 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

本周,Counterpoint Research給出了按成熟制程(節(jié)點≥40nm)產(chǎn)能排序的全球晶圓代工廠商Top榜單,如下圖所示。

成熟制程工藝有哪些?淺談成熟制程的優(yōu)勢

可以看出,排名前四的廠商分別為:臺積電(市占率28%),聯(lián)電(13%),中芯國際(11%),三星(10%)。

成熟制程在2020年非常火爆,產(chǎn)能嚴(yán)重短缺,這給各大晶圓代工廠帶來了巨大的商機。而從2021年的產(chǎn)業(yè)發(fā)展形勢來看,這種短缺狀況在近期內(nèi)還難以緩解。對此,Counterpoint Research認(rèn)為,2021年,排名靠前的代工廠的成熟制程僅會分配給特定應(yīng)用。

舉例來說,即便8英寸晶圓需求強勁,聯(lián)電(UMC)宣布,2021年8英寸晶圓產(chǎn)能僅擴充1%-3%。占全球成熟制程產(chǎn)能約10%的中芯國際由于受到美國禁令制約,在產(chǎn)能擴充上也充滿不確定性。整體而言,這波產(chǎn)能短缺屬于結(jié)構(gòu)性問題,要等到2022年所有供應(yīng)鏈都重建好庫存后才能緩解。

制程工藝不是越先進越好

目前來看,半導(dǎo)體制程工藝發(fā)展呈現(xiàn)出兩大趨勢:,一是繼續(xù)追求先進制程,典型代表是臺積電、三星、英特爾、中芯國際;二是聚焦特色工藝,滿足多樣化需求,代表廠商有聯(lián)電、格芯、世界先進、華虹宏力等。

而與成熟制程相比,先進制程有短板。一是上游IC設(shè)計費用越來越高,先進制程可以為芯片提供良好的功耗比,但是其代際設(shè)計費用增速越來越高,例如,設(shè)計7nm芯片的成本超過 3億美元,華為麒麟980芯片就是用臺積電7nm工藝制造的,麒麟980是由超過1000名工程師組成的團隊歷時3年時間、經(jīng)歷超過5000次的工程驗證才成功應(yīng)用的。

據(jù)IBS的測算,如果基于3nm開發(fā)英偉達(dá)GPU,成本將高達(dá)15億美元。從芯片設(shè)計經(jīng)濟效益方面來看,7nm是長期存在的節(jié)點,5nm/3nm的PPA和成本難以達(dá)到平衡點,除非有超量的出貨來均攤成本。

成熟制程的優(yōu)勢

成熟制程主要用來制造中小容量的存儲芯片、模擬芯片、MCU、電源管理PMIC)、模數(shù)混合、傳感器、射頻芯片等。在應(yīng)用層面,云計算、5G射頻器件需求的快速增長為成熟制程提供了強勁動力。

晶圓代工業(yè)正在向更加細(xì)分方向發(fā)展,不同于臺積電和三星追逐先進制程,UMC、格芯、 TowerJazz、世界先進、華虹宏力等更多關(guān)注于各自擅長的特色工藝,通過在已有成熟工藝方面的投入,提升產(chǎn)品性價比及競爭力。

從需求側(cè)來看,特色工藝的市場應(yīng)用前景廣闊,具備吸納更多企業(yè)在各自特色領(lǐng)域內(nèi)做精做強的基礎(chǔ)。目前來看,MCU、模擬電路和分立器件這三大類芯片占整體市場的份額接近 50%,且其發(fā)展更加穩(wěn)健,為特色工藝應(yīng)用提供了基礎(chǔ)。更加值得關(guān)注的是,與先進工藝相比,特色工藝在晶圓代工業(yè)務(wù)模式上滲透率相對較低,傳統(tǒng)邏輯器件方面,除了英特爾外,主要廠商基本采用“設(shè)計-代工-封測”的分工合作模式,而在模擬器件、MCU、分立器件領(lǐng)域,仍然以IDM自家生產(chǎn)為主。這使得成熟制程工藝代工業(yè)務(wù)的拓展有了更大的空間。

另外,特色工藝的供應(yīng)商在盈利能力方面的波動性相對較小,一方面,需求端的穩(wěn)定性使廠商在經(jīng)營管理方面的可預(yù)期性更強,另一方面,由于制程的成熟度相對較高,在設(shè)備支出和研發(fā)投入規(guī)模方面,特色工藝廠商相對較小,使其在成本控制方面具備優(yōu)勢。

成熟制程工藝有哪些呢?具體來看,主要包括以下幾種。

驅(qū)動IC:隨著OLED面板滲透率上升,OLED廠商市占率提高,而傳統(tǒng)OLED DDIC以80nm及以上制程為主,其訂單量上升提高了更高制程節(jié)點的產(chǎn)能。

電源管理芯片:受益于5G推進,手機搭載的數(shù)量大幅增長,且快充芯片的使用量也逐步提升。此外,TWS耳機等新品的推出也拉動了電源管理芯片和NOR Flash需求。傳統(tǒng)PMIC制程節(jié)點為0.18μm /0.11μm,市場需求上漲為該成熟制程和相應(yīng)的特色工藝需求提供了動力。

傳感器:手機攝像頭數(shù)量不斷提升,其中配套的低像素CIS帶動0.18μm等制程節(jié)點需求提升,普通高像素CIS也只需55nm制程節(jié)點,進一步拉動了成熟制程代工需求。指紋識別方面,手機領(lǐng)域的屏下光學(xué)電容側(cè)邊、超聲波等逐步滲透到智能家居、金融、汽車等領(lǐng)域,該類產(chǎn)品多采用0.11μm/0.18μm制程,相應(yīng)的成熟制程和特色工藝平臺越來越受歡迎。

代表企業(yè)

在市場需求的帶動下,掌握成熟制程的晶圓代工廠能依靠產(chǎn)能的調(diào)整和擴張?zhí)嵘姓悸?,特別是在以中國為代表的東亞地區(qū),需求增長最快。中芯國際、聯(lián)電、世界先進、TowerJazz等以成熟制程代工為主的廠商,基本以分立器件、驅(qū)動IC、PMIC和eNVM等為主。

此外,雖然臺積電和三星以先進制程為主,但由于這兩家的體量很大,且同時兼顧成熟制程,使得它們在成熟制程市場的占比同樣占據(jù)優(yōu)勢地位,特別是臺積電,無論是全球晶圓代工總體排名,還是成熟制程榜單,該公司都處于龍頭地位。

中芯國際方面,成熟制程是該公司的主要收入來源。以2020上半年為例,0.15μm /0.18μm、 55nm/65nm和40nm/45nm分別貢獻(xiàn)了其營收的33.4%、32.6%和14.9%。

中芯國際開發(fā)了多種特色工藝平臺,如電源/模擬、高壓驅(qū)動、eNVM、混合信號/射頻、圖像傳感器等。其中,電源/模擬技術(shù)基于現(xiàn)有的低功耗邏輯工藝平臺,可提供模塊架構(gòu),可提供中壓和高壓器件,高壓驅(qū)動技術(shù)平臺涵蓋 0.15μm、55nm、40nm等;eNVM技術(shù)平臺涵蓋0.35μm至40nm技術(shù)節(jié)點,具有低功耗、耐久性突出的特點。

臺積電方面,從該公司2020年第4季度財報可以看出,40nm/45nm營收占總營收的8%,65nm占5%,90nm占2%,0.11μm/0.13μm占3%,0.15μm/0.18μm占7%,0.25μm及以上占1%。這樣,臺積電在該季度成熟制程的合并營收占總營收的26%,還是很可觀的數(shù)字。

從歷史發(fā)展來看,臺積電于2004年開始從以0.11μm+制程為主的低端晶圓制造過渡到以40nm-90nm的更先進制程工藝為主的晶圓制造,并于2011年底開始從以中低端為主的晶圓制造過渡到以28nm及更先進制程工藝為主的晶圓制造。

三星方面,目前有四條產(chǎn)線,包括三條12英寸和一條8英寸的,12英寸晶圓代工線分布在韓國和美國,主要針對相對高端的制程工藝,包括65nm、45nm、32/28nm HKMG、14nm FinFET工藝。8英寸晶圓代工線于2016年開放,涵蓋180nm到65nm節(jié)點,主要用于eFlash、功率器件、CIS,以及高壓制程等。

聯(lián)電方面,由于驅(qū)動IC、PMIC、RF、IoT應(yīng)用等代工訂單持續(xù)涌入,聯(lián)電8英寸晶圓產(chǎn)能滿載。不僅如此,據(jù)悉,其2021上半年的產(chǎn)能也已經(jīng)全面滿載。

聯(lián)電是業(yè)內(nèi)首家對外宣布放棄10nm及更先進制程工藝的晶圓代工廠。2017年7月,該公司啟用了雙CEO制度,那之后的一年內(nèi),他們就對市場做了縝密的調(diào)研,并在一年后,也就是2018年7月,對外宣布聚焦在成熟制程,而不再對10nm及更先進制程進行研發(fā)投入。

具體來看,無論是8英寸,還是12英寸晶圓廠,聯(lián)電都聚焦在了各種新的特殊制程工藝上,尤其是針對物聯(lián)網(wǎng)、5G和汽車電子這些在未來具有巨大市場和發(fā)展前景的應(yīng)用領(lǐng)域,如聯(lián)電的汽車電子業(yè)務(wù),過去幾年的年增長率都超過了30%。包括RF、MEMS、LCD驅(qū)動芯片、OLED驅(qū)動芯片等領(lǐng)域,聯(lián)電都有目標(biāo)性的強化技術(shù),并一直在提升市占率。

在特殊工藝方面,市場對LCD驅(qū)動芯片、OLED驅(qū)動芯片需求量很大,多數(shù)采用的是80nm、40nm工藝,在此基礎(chǔ)上,聯(lián)電將這些芯片制造導(dǎo)入到了28nm上,而在MCU的特殊工藝方面,聯(lián)電也在持續(xù)發(fā)展。

穩(wěn)健且光明的發(fā)展前景

市場對成熟制程工藝需求迫切,各大晶圓代工廠也都很重視這塊業(yè)務(wù),行業(yè)普遍看好其發(fā)展前景。

IC Insights發(fā)布的《2020-2024年全球晶圓產(chǎn)能》報告認(rèn)為,隨著芯片特征尺寸微縮速度持續(xù)放緩,芯片設(shè)計人員發(fā)現(xiàn)越來越難以證明較高的成本能得到合理的回報。因此,先進與成熟制程之間的利弊愈加明確,不同公司所采用的制程也愈加有針對性。這就使得各種制程都有展現(xiàn)各自優(yōu)勢的空間。

在這樣的發(fā)展趨勢下,按照IC Insights的統(tǒng)計和預(yù)測,各種半導(dǎo)體制程的市占率正向著相對更加均衡的方向發(fā)展,如下圖所示。

成熟制程工藝有哪些?淺談成熟制程的優(yōu)勢

從圖中可以看出,40nm及以上成熟制程的比例在這些年當(dāng)中沒有出現(xiàn)明顯變化,且市場規(guī)模很可觀。

40nm以上的成熟制程,無論是180nm以下,還是180nm以上的,市占率都很穩(wěn)定。這也正是諸多晶圓代工廠長期專注于成熟工藝,而不向先進制程投入過多資本和精力的底氣所在,同時,也是格芯和聯(lián)電放棄最先進制程的主要原因。無論先進制程如何發(fā)展,未來,成熟制程工藝的市場依然會很廣闊,依然具有很好的投資價值。
責(zé)任編輯:pj

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 英特爾
    +關(guān)注

    關(guān)注

    61

    文章

    10301

    瀏覽量

    180427
  • 中芯國際
    +關(guān)注

    關(guān)注

    27

    文章

    1450

    瀏覽量

    67978
  • 三星電子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    34

    文章

    15894

    瀏覽量

    183111
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    53

    文章

    5408

    瀏覽量

    132280
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    淺談制程芯片去層核心分析方法

    在半導(dǎo)體芯片失效分析(FA)領(lǐng)域,鋁制程芯片的去層分析是解鎖芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)、定位失效根源的核心技術(shù),更是集成電路、汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域從業(yè)者的必備技能。目前仍有大量成熟制程的鋁制程
    的頭像 發(fā)表于 03-03 09:27 ?274次閱讀
    <b class='flag-5'>淺談</b>鋁<b class='flag-5'>制程</b>芯片去層核心分析方法

    全球半導(dǎo)體短缺下,海翔科技的二手射頻電源如何激活成熟制程產(chǎn)能?

    電源作為半導(dǎo)體刻蝕、薄膜沉積等核心工藝的“動力源”,直接影響產(chǎn)能穩(wěn)定性與良率,但其市場長期被美日企業(yè)壟斷,國產(chǎn)化率不足12%,全新設(shè)備采購成本高昂且交貨周期漫長,成為制約成熟制程產(chǎn)能擴張的瓶頸。在此背景下,海翔科技深
    的頭像 發(fā)表于 03-02 11:02 ?67次閱讀
    全球半導(dǎo)體短缺下,海翔科技的二手射頻電源如何激活<b class='flag-5'>成熟</b><b class='flag-5'>制程</b>產(chǎn)能?

    晶圓工藝制程清洗方法

    晶圓工藝制程清洗是半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié),直接決定芯片良率與器件性能,需針對不同污染物(顆粒、有機物、金屬離子、氧化物)和制程需求,采用物理、化學(xué)、干法、復(fù)合等多類技術(shù),適配從成熟
    的頭像 發(fā)表于 02-26 13:42 ?169次閱讀
    晶圓<b class='flag-5'>工藝</b><b class='flag-5'>制程</b>清洗方法

    濕法清洗和干法清洗,哪種工藝更適合先進制程的硅片

    在先進制程的硅片清洗工藝中,濕法清洗與干法清洗各有技術(shù)特性,適配場景差異顯著,并不存在絕對的“最優(yōu)解”,而是需要結(jié)合制程節(jié)點、結(jié)構(gòu)復(fù)雜度、污染物類型等核心需求綜合判斷。以下從技術(shù)特性、制程
    的頭像 發(fā)表于 02-25 15:04 ?127次閱讀
    濕法清洗和干法清洗,哪種<b class='flag-5'>工藝</b>更適合先進<b class='flag-5'>制程</b>的硅片

    芯片代工價格戰(zhàn)會來嗎?

    廠商仍有強勢定價權(quán),車規(guī)、工控類成熟工藝也因供需緊繃價格堅挺。全面價格戰(zhàn)短期難現(xiàn),但若消費電子寒冬持續(xù),成熟制程領(lǐng)域可能出現(xiàn)局部激烈價格競爭,行業(yè)正處于動態(tài)平衡調(diào)整期。
    的頭像 發(fā)表于 01-30 10:50 ?239次閱讀

    半導(dǎo)體測試制程介紹

    作把關(guān)。然而一般所指的半導(dǎo)體測試則是指晶圓制造與IC封裝之后,以檢測晶圓及封裝后IC的電信功能與外觀而存在的測試制程。以下即針對「半導(dǎo)體測試制程」中之各項制程技術(shù)
    的頭像 發(fā)表于 01-16 10:04 ?323次閱讀
    半導(dǎo)體測試<b class='flag-5'>制程</b>介紹

    1.4nm制程工藝!臺積電公布量產(chǎn)時間表

    供應(yīng)一度面臨緊張局面。為應(yīng)對市場激增的訂單,臺積電已啟動新建三座工廠的擴產(chǎn)計劃,旨在進一步提升產(chǎn)能,保障客戶供應(yīng)鏈的穩(wěn)定交付。 ? 與此同時,臺積電在更尖端的1.4nm工藝研發(fā)上同樣進展迅猛。公司正全力加速推進1.4nm制程
    的頭像 發(fā)表于 01-06 08:45 ?6338次閱讀

    淺談SOI晶圓制造技術(shù)的四大成熟工藝體系

    SOI晶圓片制造技術(shù)作為半導(dǎo)體領(lǐng)域的核心分支,歷經(jīng)五十年技術(shù)沉淀與產(chǎn)業(yè)迭代,已形成以SIMOX、BSOI、Eltran及Smart Cut為核心的四大成熟工藝體系,并在2025年展現(xiàn)出顯著的技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)化擴展趨勢。
    的頭像 發(fā)表于 12-26 15:15 ?581次閱讀
    <b class='flag-5'>淺談</b>SOI晶圓制造技術(shù)的四大<b class='flag-5'>成熟</b><b class='flag-5'>工藝</b>體系

    NORDIC 54系列相比52系列的優(yōu)勢哪些?

    ①成本優(yōu)勢,貨源穩(wěn)定 ②功耗降低30%-50%,工藝制程采用22nm,主頻由64M升級到128M。且54系列是M33的核。 ③54系列支持藍(lán)牙6.0 ,支持channelsounding功能,52系列不支持。 ④54系列支持最新
    發(fā)表于 12-24 11:09

    佳能9月啟用新光刻機工廠,主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用

    7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報道,日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,為全球芯片封裝
    的頭像 發(fā)表于 08-04 17:39 ?880次閱讀

    光阻去除屬于什么制程

    光阻去除(即去膠工藝)屬于半導(dǎo)體制造中的光刻制程環(huán)節(jié),是光刻技術(shù)流程中不可或缺的關(guān)鍵步驟。以下是其在整個制程中的定位和作用:1.在光刻工藝鏈中的位置典型光刻流程為:涂膠→軟烘→曝光→硬
    的頭像 發(fā)表于 07-30 13:33 ?1254次閱讀
    光阻去除屬于什么<b class='flag-5'>制程</b>

    臺積電引領(lǐng)全球半導(dǎo)體制程創(chuàng)新,2納米制程備受關(guān)注

    在全球半導(dǎo)體行業(yè)中,先進制程技術(shù)的競爭愈演愈烈。目前,只有臺積電、三星和英特爾三家公司能夠進入3納米以下的先進制程領(lǐng)域。然而,臺積電憑借其卓越的技術(shù)實力,已經(jīng)在這一領(lǐng)域占據(jù)了明顯的領(lǐng)先地位,吸引了
    的頭像 發(fā)表于 07-21 10:02 ?1063次閱讀
    臺積電引領(lǐng)全球半導(dǎo)體<b class='flag-5'>制程</b>創(chuàng)新,2納米<b class='flag-5'>制程</b>備受關(guān)注

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準(zhǔn)測量對確保 ARRAY 制程
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?865次閱讀
    用于 ARRAY <b class='flag-5'>制程</b><b class='flag-5'>工藝</b>的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    半導(dǎo)體制冷機chiller在半導(dǎo)體工藝制程中的高精度溫控應(yīng)用解析

    在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,工藝制程對溫度控制的精度和響應(yīng)速度要求嚴(yán)苛。半導(dǎo)體制冷機chiller實現(xiàn)快速升降溫及±0.5℃精度控制。一、半導(dǎo)體制冷機chiller技術(shù)原理與核心優(yōu)勢半導(dǎo)體制冷機chiller
    的頭像 發(fā)表于 05-22 15:31 ?1783次閱讀
    半導(dǎo)體制冷機chiller在半導(dǎo)體<b class='flag-5'>工藝</b><b class='flag-5'>制程</b>中的高精度溫控應(yīng)用解析