EUV光刻機，一直是中國芯片制造無法進一步升級的掣肘。去年9月份，時任中國科學院院長白春禮公開表態(tài)稱，將集中精力攻克光刻機難題。不到半年時間，中國科學家就在這一“卡脖子”技術取得了關鍵性突破。

據(jù)最新報道，我國清華大學工程物理系教授唐傳祥研究組、來自亥姆霍茲柏林材料與能源研究中心（HZB）、德國聯(lián)邦物理技術研究院（PTB）的合作團隊在國際權威雜志《自然》上發(fā)表了一篇研究論文。

該研究成果首次用實驗驗證了新型粒子加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”（SSMB）的原理，而清華工物系2015級博士生鄧秀杰為第一作者。唐傳祥教授指出，大功率的EUV光源是EUV光刻機的核心基礎。SSMB的EUV光源有望解決自主研發(fā)光刻機中最核心的“卡脖子”難題。

要知道，在芯片制造鏈的所有環(huán)節(jié)中，光刻機負責最復雜和關鍵的工藝步驟。而EUV光刻機是高端芯片制造必不可少的精密設備。目前，荷蘭的ASML是全球唯一的EUV光刻機供應商，每臺EUV光刻機售價超過1億美元。

日經(jīng)亞洲評論此前報道，中國芯片制造行業(yè)龍頭中芯國際曾于2018年向ASML購買了一臺EUV光刻機，總價值高達1.2億美元（約合人民幣7.7億元），然而由于受到干擾，一直到限制仍無法到貨。

不過，清華SSMB研究組已向國家發(fā)改委提交“穩(wěn)態(tài)微聚束極紫外光源研究裝置”的項目建議書，申報“十四五”國家重大科技基礎設施。相信隨著科學家們的深度研發(fā)，我國將有望加速自主研發(fā)、制造EUV光刻機，為國產(chǎn)芯片業(yè)注入更強的活力。
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