光刻機是我國芯片制造業(yè)一大痛點，目前，在EUV光刻機賽道中，僅有ASML一個玩家。

然而，受到《瓦爾森協(xié)定》的約束，ASML無法向中國大陸出售EUV光刻機?？梢哉f，光刻機的短缺狠狠卡住了中國芯片的脖子。

為了實現(xiàn)國產(chǎn)芯片自主可控，不少研究機構開始探索一種繞開光刻機的方法。西湖大學研發(fā)的冰式光刻機，便是其中之一。

冰刻機工作原理及過程

冰刻機的物理依據(jù)十分簡單：在零下將近140°的真空環(huán)境中，水可以直接凝結(jié)成冰。冰刻機便是依據(jù)水遇冷凝結(jié)的原理，來實現(xiàn)光刻機的功能。

據(jù)冰刻機研究人員介紹，在樣品放入真空設備后，首先要進行降溫處理，之后便會注入水蒸氣，使得樣品上凝華出薄冰，形成一層“冰膠”。

這層“冰膠”，便代替了傳統(tǒng)芯片制造中光刻膠的作用。值得注意的是，冰刻膠并不是普通冰，而是兼具光刻膠與冰特性的新型化學合成冰。

被電子束打到的冰會瞬間氣化，從而直接雕刻出冰膜板。再經(jīng)過一系列加工步驟，由冰刻而成的芯片便成功亮相。

冰刻機優(yōu)勢

與光刻機相比，冰刻機的優(yōu)勢頗多。

一是，冰刻機解決了光刻膠的多項短板。

在傳統(tǒng)芯片制造過程中，第一步便是要將光刻膠均勻涂抹在樣品之上。這一過程一旦做不好，生產(chǎn)過程中就容易出問題。

而且，光刻膠對所涂抹樣品的材質(zhì)、面積都有要求，不能太小或太脆弱。

而冰刻膠則要“隨意”許多。水蒸氣可以包裹在任意形狀的表面，而且其十分輕盈，不會對加工材料造成影響。

另外，使用冰刻膠還能直接省去化學試劑清洗形成的模具的步驟，不會出現(xiàn)因光刻膠殘留，致使良品率低下的問題。

二是，冰刻技術更加清潔。

在傳統(tǒng)芯片生產(chǎn)過程中，需要多次用化學試劑對光刻膠進行沖洗，而冰刻技術則不需要這一點。

因為，冰在融化或成為水蒸氣后，便會消失的無影無蹤。如此一來，便能夠大大降低洗膠造成的污染。

如今，西湖大學納米光學與儀器技術實驗室負責人仇旻及其團隊，已經(jīng)在該領域攻克8年之久，諸多成績已經(jīng)逐漸顯現(xiàn)。

在Nano Letter、Nanoscale等期刊上，團隊發(fā)布了一系列研究成果。

如今，其已經(jīng)研發(fā)出我國首臺“冰刻”系統(tǒng)已經(jīng)；目前，冰刻系統(tǒng)2.0也在全力研發(fā)之中。未來，在三位維納加工上，冰刻技術或有更廣泛的應用。

仇旻及其團隊用一次次實驗證明，冰刻技術并不是異想天開，而是切實可行。

冰刻技術能否繞開光刻機？

那么，冰刻技術有這么多優(yōu)勢，能否助力國產(chǎn)芯片繞開光刻機呢？

答案是還不能，目前冰刻機還處在實驗室階段，距離商用道路漫漫。而且，冰刻機還有兩大難題需要攻克。

第一，生產(chǎn)效率難提升。

冰刻機采用電子束加工，需要逐幀對晶圓表面進行雕刻。與光刻機相比，在效率上有明顯的落后。

第二，確保雕刻精度難題。

冰刻機工作原理聽起來雖然簡單，但實際操作起來卻有許多棘手難題，忽略任何一個小細節(jié)，都會對雕刻的精度產(chǎn)生影響。僅注入水蒸氣這一步，研究團隊就進行了無數(shù)次試驗。

因而，在冰刻機商業(yè)化這條道路上，還有些不少的阻礙需要解決。

寫在最后

如今，全球僅有兩家做冰刻的實驗室，其中一家便在西湖大學。沒有前人經(jīng)驗作為指導，冰刻機的研發(fā)只能摸著石頭過河，十分艱難。

這注定是一條孤獨的道路，而且前路冰刻機前路究竟如何，還是一片未知。

即便如此，仇旻仍對冰刻技術抱有極大熱情，他表示這是項令人激動的新技術。他認為，冰刻技術將解決光刻無法解決的難題，并開辟出全新的科學交叉和研究方向。

冰刻機的前路究竟如何，就讓我們拭目以待。
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