chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

扇出式封裝的工藝流程

長電科技 ? 來源:長電科技 ? 作者:長電科技 ? 2021-10-12 10:17 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

Chip First工藝

自從Fan-Out封裝問世以來,經(jīng)過多年的技術(shù)發(fā)展,扇出式封裝已經(jīng)形成了多種封裝流程、封裝結(jié)構(gòu)以適應(yīng)不同產(chǎn)品需要,根據(jù)工藝流程,可以分為先貼芯片后加工RDL的Chip First工藝和先制作RDL后貼裝芯片的Chip Last工藝兩大類,其中,結(jié)構(gòu)最簡單的是采用Chip First工藝的eWLB,

其工藝流程如下:

1

將切割好的芯片Pad面向下粘貼在帶臨時鍵合膠的載片上;

2

從芯片背面對載片進行灌膠塑封;

3

移除臨時載片形成塑封后的二次晶圓(扇出式晶圓);

4

去除Pad上的殘留膠并在Pad面形成RDL層;

5

在RDL層上植球并切割成單個成品。

此技術(shù)的優(yōu)勢是制程相對簡單,成本優(yōu)勢明顯。但由于移除載片后,扇出晶圓的翹曲難以控制,對RDL線路的生長技術(shù)提出了挑戰(zhàn),難以制作高密度的RDL,因此該技術(shù)主要應(yīng)用于布線密度較低的中低端的產(chǎn)品。

真正讓Chip First扇出式封裝成為行業(yè)熱點的原因無疑是因為臺積電(TSMC)在2016年在I-phone7中使用了InFOTM結(jié)構(gòu)。

其工藝流程如下:

1

在晶圓Pad上制作一層預(yù)制銅柱;

2

將切割好的芯片Pad面向上粘貼在帶臨時鍵合膠的載片上;

3

對載片進行灌膠塑封;

4

對塑封好的扇出晶圓進行研磨,露出預(yù)制銅柱的頂部;

5

在預(yù)制銅柱的頂部進一步制作RDL及植球移除載片;

6

將完成植球的扇出式晶圓切割成單個成品。

該技術(shù)由于布線工藝在載片上完成,沒有翹曲等因素的影響,因而能夠?qū)崿F(xiàn)高密度布線,同時整體封裝厚度也能控制的很低,多應(yīng)用在高端手機處理器等高價值芯片上。缺點是工藝控制要求高,而且RDL良率直接會影響到芯片成品率,因此最終成品價格較高。

以上方式都是先貼芯片后制作RDL的工藝,所以稱為Chip-First工藝,如果先制作RDL,然后在RDL上貼裝芯片,便稱為Chip-Last工藝。此工藝需要在RDL上倒裝植球后的芯片,通常適用于空間要求略高的FcBGA產(chǎn)品,但由于只在檢驗合格的RDL上貼裝芯片,可避免RDL工程良率給芯片帶來的損失,因此對于價格昂貴的高端芯片而言,有較明顯的價格優(yōu)勢。

長電科技Chip Last工藝

長電科技2021年7月正式推出了一款使用Chip-Last封裝工藝的高密度扇出式封裝 — XDFOITM-FcBGA-H。

其工藝流程如下:

1

在帶臨時鍵合膠的載片上制作RDL線路層;

2

倒裝焊接上已植球切割好的芯片;

3

芯片底部焊接區(qū)域進行底部填充,再對整張貼好芯片的基板進行整體塑封;

4

移除載片并在圓片底部形成Bump;

5

對此整個扇出式原片進行研磨與切割后形成XDFOITM Fan-Out Unit顆粒;

6

將Fan-Out Unit倒裝封裝在基板上并進行底部填充;

7

貼裝散熱蓋及植球,最終形成XDFOITM-FcBGA-H封裝。

此技術(shù)的優(yōu)點在于:避免了RDL良率造成的芯片損失,具有更高的成本競爭力,且直接在載片上布線RDL,簡化了工藝。另外RDL的布線間距也可以達到2um水準,大大提高布線密度,能滿足高性能產(chǎn)品封裝需求。

Fan-Out封裝發(fā)展趨勢

隨著Chip-Let技術(shù)會越來越得到半導體業(yè)界的重視,封裝技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)成為了半導體行業(yè)發(fā)展的重要支點,而先進高密度Fan-Out封裝也必然是發(fā)展中的熱點。

根據(jù)目前的發(fā)展趨勢看,F(xiàn)an-Out封裝主要有以下幾個發(fā)展趨勢:

01|高密度布線

根據(jù)行業(yè)發(fā)展預(yù)測,下一代Fan-Out技術(shù)RDL的布線間距將達到1um以下,這將對RDL布線技術(shù)的發(fā)展提出進一步挑戰(zhàn)。

02|產(chǎn)品大型化

由于突破了單個硅芯片限制, 多Die合封的封裝單元尺寸很容易突破原有單顆硅芯片常規(guī)上限(通常為830mm2)的限制,各大OSAT的合封單元目標都在1500mm2以上,有的面積甚至將達到2500mm2,這對封裝工藝以及封裝材料開發(fā)提出了巨大的挑戰(zhàn)。

03|封裝結(jié)構(gòu)復雜化

在Chip-Let技術(shù)發(fā)展路線圖中,芯片互聯(lián)種類越來越復雜,不僅有RDL互聯(lián),還有硅基板Interposer互聯(lián),橋接芯片互聯(lián)等封裝方式都在快速發(fā)展中。封裝模式的多元化對制程能力開發(fā)也提出了更高的要求。

臺積電、Intel、Samsung等國際頂尖半導體公司都已成功進軍先進封裝市場。各大先進半導體公司都確立發(fā)展高密度扇出式封裝為技術(shù)戰(zhàn)略方向。值此變革之時,長電科技緊跟時代潮流,在先進封裝上積極投入,率先在國內(nèi)開發(fā)出了自己的先進高密度Fan-Out封裝。長電科技不但要在國內(nèi)企業(yè)中保持技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢,還要進一步開拓進取,繼續(xù)在先進封裝上加大研發(fā)力度,力爭在后摩爾時代的半導體技術(shù)開發(fā)的國際競爭中占得先機。

責任編輯:haq

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    462

    文章

    53179

    瀏覽量

    453654
  • 封裝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    128

    文章

    8998

    瀏覽量

    147211
  • 長電科技
    +關(guān)注

    關(guān)注

    5

    文章

    382

    瀏覽量

    33269

原文標題:先進高性能計算芯片中的扇出式封裝(下篇)

文章出處:【微信號:gh_0837f8870e15,微信公眾號:長電科技】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    晶圓蝕刻擴散工藝流程

    晶圓蝕刻與擴散是半導體制造中兩個關(guān)鍵工藝步驟,分別用于圖形化蝕刻和雜質(zhì)摻雜。以下是兩者的工藝流程、原理及技術(shù)要點的詳細介紹:一、晶圓蝕刻工藝流程1.蝕刻的目的圖形化轉(zhuǎn)移:將光刻膠圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面
    的頭像 發(fā)表于 07-15 15:00 ?618次閱讀
    晶圓蝕刻擴散<b class='flag-5'>工藝流程</b>

    CMOS超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識

    本節(jié)將介紹 CMOS 超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識,重點將放在工藝流程的概要和不同工藝步驟對器件及電路性能的影響上。
    的頭像 發(fā)表于 06-04 15:01 ?1386次閱讀
    CMOS超大規(guī)模集成電路制造<b class='flag-5'>工藝流程</b>的基礎(chǔ)知識

    扇出型晶圓級封裝技術(shù)的工藝流程

    常規(guī)IC封裝需經(jīng)過將晶圓與IC封裝基板焊接,再將IC基板焊接至普通PCB的復雜過程。與之不同,WLP基于IC晶圓,借助PCB制造技術(shù),在晶圓上構(gòu)建類似IC封裝基板的結(jié)構(gòu),塑封后可直接安裝在普通PCB
    的頭像 發(fā)表于 05-14 11:08 ?1570次閱讀
    <b class='flag-5'>扇出</b>型晶圓級<b class='flag-5'>封裝</b>技術(shù)的<b class='flag-5'>工藝流程</b>

    半導體封裝工藝流程的主要步驟

    半導體的典型封裝工藝流程包括芯片減薄、芯片切割、芯片貼裝、芯片互連、成型固化、去飛邊毛刺、切筋成型、上焊錫、打碼、外觀檢查、成品測試和包裝出庫,涵蓋了前段(FOL)、中段(EOL)、電鍍(plating)、后段(EOL)以及終測(final test)等多個關(guān)鍵環(huán)節(jié)。
    的頭像 發(fā)表于 05-08 15:15 ?2893次閱讀
    半導體<b class='flag-5'>封裝工藝流程</b>的主要步驟

    貼片電容生產(chǎn)工藝流程有哪些?

    貼片電容的生產(chǎn)工藝流程是一個復雜且精細的過程,涵蓋了多個關(guān)鍵步驟。以下是貼片電容生產(chǎn)工藝流程的詳細解析: 一、原料準備 材料選?。哼x用優(yōu)質(zhì)的陶瓷粉末作為核心材料,這是確保貼片電容性能的基礎(chǔ)。同時
    的頭像 發(fā)表于 04-28 09:32 ?871次閱讀
    貼片電容生產(chǎn)<b class='flag-5'>工藝流程</b>有哪些?

    晶圓濕法清洗工作臺工藝流程

    晶圓濕法清洗工作臺是一個復雜的工藝,那我們下面就來看看具體的工藝流程。不得不說的是,既然是復雜的工藝每個流程都很重要,為此我們需要仔細謹慎,這樣才能獲得最高品質(zhì)的產(chǎn)品或者達到最佳效果。
    的頭像 發(fā)表于 04-01 11:16 ?684次閱讀

    場效應(yīng)晶體管制造工藝流程

    FinFET(鰭場效應(yīng)晶體管)從平面晶體管到FinFET的演變是一種先進的晶體管架構(gòu),旨在提高集成電路的性能和效率。它通過將傳統(tǒng)的平面晶體管轉(zhuǎn)換為三維結(jié)構(gòu)來減少短溝道效應(yīng),從而允許更小、更快且功耗更低的晶體管。本文將從硅底材開始介紹FinFET制造工藝流程,直到鰭片(F
    的頭像 發(fā)表于 02-17 14:15 ?1810次閱讀
    鰭<b class='flag-5'>式</b>場效應(yīng)晶體管制造<b class='flag-5'>工藝流程</b>

    數(shù)控加工工藝流程詳解

    數(shù)控加工工藝流程是一個復雜而精細的過程,它涉及多個關(guān)鍵步驟,以下是該流程的介紹: 一、工藝分析 圖紙分析 :詳細分析零件圖紙,明確加工對象的材料、形狀、尺寸和技術(shù)要求。 工藝確定 :根
    的頭像 發(fā)表于 02-14 17:01 ?2525次閱讀

    背金工藝工藝流程

    本文介紹了背金工藝工藝流程。 本文將解析一下背金工藝的具體的工藝流程及每步的工藝原理。 背金工藝
    的頭像 發(fā)表于 02-12 09:33 ?1435次閱讀
    背金<b class='flag-5'>工藝</b>的<b class='flag-5'>工藝流程</b>

    詳解晶圓的劃片工藝流程

    在半導體制造的復雜流程中,晶圓歷經(jīng)前道工序完成芯片制備后,劃片工藝成為將芯片從晶圓上分離的關(guān)鍵環(huán)節(jié),為后續(xù)封裝奠定基礎(chǔ)。由于不同厚度的晶圓具有各異的物理特性,因此需匹配不同的切割工藝,
    的頭像 發(fā)表于 02-07 09:41 ?2272次閱讀
    詳解晶圓的劃片<b class='flag-5'>工藝流程</b>

    半導體晶圓制造工藝流程

    半導體晶圓制造是現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)中不可或缺的一環(huán),它是整個電子行業(yè)的基礎(chǔ)。這項工藝流程非常復雜,包含了很多步驟和技術(shù),下面將詳細介紹其主要的制造工藝流程。第一步:晶圓生長晶圓生長是半導體制造的第一步
    的頭像 發(fā)表于 12-24 14:30 ?4162次閱讀
    半導體晶圓制造<b class='flag-5'>工藝流程</b>

    軸承結(jié)構(gòu)生產(chǎn)工藝流程柴油機軸承的結(jié)構(gòu)與安裝

    軸承結(jié)構(gòu)生產(chǎn)工藝流程 軸承結(jié)構(gòu)主要有原材料、軸承內(nèi)外圈、鋼球(軸承滾子)和保持架組合而成。那它們的生產(chǎn)工藝流程是什么,下面是相關(guān)信息介紹。 軸承生產(chǎn)工藝流程: 軸承原材料——內(nèi)、鋼球或滾子加工、外圈
    的頭像 發(fā)表于 12-07 10:31 ?1115次閱讀

    MOSFET晶體管的工藝制造流程

    本文通過圖文并茂的方式生動展示了MOSFET晶體管的工藝制造流程,并闡述了芯片的制造原理。 ? MOSFET的工藝流程 芯片制造工藝流程包括光刻、刻蝕、擴散、薄膜、離子注入、化學機械研
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:13 ?5111次閱讀
    MOSFET晶體管的<b class='flag-5'>工藝</b>制造<b class='flag-5'>流程</b>

    SMT貼片貼裝工藝流程 SMT貼片焊接技術(shù)解析

    SMT(Surface Mount Technology)貼片是一種電子元器件的表面貼裝技術(shù),也是現(xiàn)代電子制造中最常用的一種工藝。以下是對SMT貼片貼裝工藝流程以及SMT貼片焊接技術(shù)的介紹: 一
    的頭像 發(fā)表于 11-23 09:52 ?2059次閱讀

    SMT工藝流程詳解

    面貼裝技術(shù)(SMT)是現(xiàn)代電子制造中的關(guān)鍵技術(shù)之一,它極大地提高了電子產(chǎn)品的生產(chǎn)效率和可靠性。SMT工藝流程包括多個步驟,從PCB的準備到最終的組裝和測試。以下是SMT工藝流程的詳細步驟: 1.
    的頭像 發(fā)表于 11-14 09:13 ?6444次閱讀