制造芯片需要用到光刻技術，一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。光刻機是其中的關鍵系統(tǒng)，又名掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。生產(chǎn)芯片就像沖印照片，光線通過模板聚焦在晶圓表面，晶圓表面的保護膜隨光發(fā)生變化，通過腐蝕變化后的部分，剩下的部分就形成電路。

光刻機是芯片制造的重要設備，內(nèi)部結構精密復雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關鍵設備，而且光刻機的技術門檻極高，整個設備的不同部位采用了世界上最先進的技術，如德國的光學設備、美國的計量設備等，可以說是“集人類智慧大成的產(chǎn)物”，被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠。

當前，全球最先進的EUV光刻機只有荷蘭的ASML生產(chǎn)，占據(jù)了光刻機市場高達80%的市場。Intel、臺積電、三星的光刻機都來自于與ASML。當然，最頂尖的光刻機不是荷蘭一個公司制造的，而是集合了許多國家最先進技術的技術支持，可以說是多個國家國家共同努力的結果，比如德國的光學鏡頭、美國的計量設備等。ASML將這些來自不同國家的3萬多個配件，分為13個系統(tǒng)，需要將誤差分散到13個系統(tǒng)，如果德國的光學設備做的不準、美國的光源不準，那么ASML也無法制造出精密的光刻機。

我國光刻技術比較先進，上海微電子設備有限公司已經(jīng)實現(xiàn)了90nm的批量生產(chǎn)。目前，65nm技術正在研究中。其他包括合肥新碩半導體有限公司、仙騰光電科技有限公司、無錫英蘇半導體科技有限公司等企業(yè)，在光刻方面有自己的成就。然而，這些光刻企業(yè)仍在原有的道路上一步步前進。我們相信只要我們努力，我們就能在未來達到一個很高的水平。但對于平版印刷行業(yè)來說，雖然他們的追趕速度很快，但技術進步的速度也很快。因此，他們只能在低端保持一定的市場份額。

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審核編輯 ：李倩