摘要

公開了一種用于濕法處理襯底的設(shè)備和系統(tǒng)，其可用于化學(xué)處理，例如蝕刻或清洗半導(dǎo)體襯底。該設(shè)備具有處理室，在該處理室中濕法處理襯底。處理液通過(guò)開口和噴嘴注入處理室，基板漂浮在注入的液體中并通過(guò)注入的液體流圍繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。濕處理系統(tǒng)由上述處理設(shè)備、文章全部詳情：壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁通過(guò)水流傳送基材的水承載系統(tǒng)和旋轉(zhuǎn)干燥器組成。承水系統(tǒng)還用作洗滌設(shè)備。

發(fā)明領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用于濕法處理的設(shè)備或系統(tǒng)，特別是用于半導(dǎo)體器件制造中的襯底的清洗或蝕刻工藝。本發(fā)明提供一種連續(xù)一個(gè)接一個(gè)地處理基板的設(shè)備和系統(tǒng)。

現(xiàn)有技術(shù)的描述

在半導(dǎo)體制造中，有許多濕法工藝，例如基板的清洗和蝕刻。對(duì)于這樣的工藝，已經(jīng)使用了批量工藝，其中將多個(gè)基板放置在桶中并在籃中蝕刻，或者將基板放置在架子上并浸入蝕刻劑中。在這種批量處理中，難以精確控制蝕刻，因?yàn)樵谕爸械奈g刻劑被水替換或從蝕刻劑中取出支架并浸入水中期間，基板的蝕刻繼續(xù)進(jìn)行。此外，難以均勻地處理表面，因?yàn)楫?dāng)基板從蝕刻劑中提起時(shí)蝕刻劑會(huì)從基板的一側(cè)滴下。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的是提供一種可連續(xù)處理基材的濕法處理裝置。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種可同時(shí)處理基板兩面的濕法處理裝置。

本發(fā)明的另一個(gè)目的是提高在待處理基材表面上濕法處理的準(zhǔn)確性和均勻性，并提高產(chǎn)量。

本發(fā)明的又一目的是提供一種系統(tǒng)fbr濕法處理，該系統(tǒng)可以一個(gè)接一個(gè)地連續(xù)處理基材。

本發(fā)明的上述目的通過(guò)提供一種設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)，該設(shè)備用用于濕法處理的液體流來(lái)處理基板?；屙樦幚硪毫飨蛳铝鲃?dòng)，并被處理液的噴射流旋轉(zhuǎn)。將處理液傾倒或噴灑在基材表面上，從而使基材的兩面得到均勻處理。

處理完成后，將處理液切換為純水，基板由水流一一輸送，如同輸送系統(tǒng)。當(dāng)基材沿著輸水器（或承水）前進(jìn)時(shí)，基材被噴灑在其上的水清洗和清潔。

在水軸承的末端，有一個(gè)旋轉(zhuǎn)干燥器?；奈挥谛D(zhuǎn)干燥器的卡盤上。當(dāng)基材定位后，百葉窗關(guān)閉并將旋轉(zhuǎn)干燥器與洗滌區(qū)分開。然后將旋轉(zhuǎn)干燥器中的水抽出，干燥器的卡盤固定基材，并開始旋轉(zhuǎn)。因此，基板被快速干燥。

審核編輯：符乾江