為了減小對臺積電的依賴，美日雙方開始聯(lián)手研發(fā)半導(dǎo)體技術(shù)，近日據(jù)報道稱，日本計劃最早在2025年啟動半導(dǎo)體制造基地，并與美國聯(lián)手生產(chǎn)2nm制程技術(shù)。

目前全球半導(dǎo)體加工領(lǐng)域最先進的企業(yè)是中國臺灣的臺積電以及韓國的三星，均已經(jīng)掌握了4nm制程技術(shù)，3nm制程技術(shù)也將很快被研發(fā)出來，而2nm制程技術(shù)將會在2024年或者2025年研發(fā)完成并實現(xiàn)量產(chǎn)。

雖然日本沒有芯片巨頭企業(yè)，但是在芯片供應(yīng)的流程中，他們還是有著較為豐富的經(jīng)驗，例如制造芯片所需的光刻膠大多都來源于日本，并且在ASML成名之前，日本的佳能在光刻機領(lǐng)域還是排名相當(dāng)靠前的，EUV光照檢驗設(shè)備也幾乎全部來源于日本，而美國也擁有諸多半導(dǎo)體加工設(shè)備企業(yè)，這么一看，貌似日本還真有可能在2nm制程技術(shù)上做出不錯的成績。

不過臺積電之前也發(fā)言稱，半導(dǎo)體行業(yè)不是簡簡單單靠人力、財力就能發(fā)展起來的，因此沒人知道目前美日合作的半導(dǎo)體計劃能走到什么地步，但毋庸置疑的是，本次合作將帶動日本本土的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

綜合整理自 芯智訊 半導(dǎo)體行業(yè)聯(lián)盟 21ic電子網(wǎng)

審核編輯 黃昊宇