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意法半導體推出先進STripFET F8 技術(shù)

科技綠洲 ? 來源:意法半導體PDSA ? 作者:意法半導體PDSA ? 2022-06-24 16:40 ? 次閱讀
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意法半導體40V MOSFET晶體管STL320N4LF8 和 STL325N4LF8AG 降低導通電阻和開關(guān)損耗,同時優(yōu)化體寄生二極管特性,降低功率轉(zhuǎn)換、電機控制和配電電路的能耗和噪聲。

新型40V N 溝道增強型 MOSFET 利用最新一代STPOWER STripFET F8 氧化物填充溝槽技術(shù)實現(xiàn)卓越的品質(zhì)因數(shù)。在柵源電壓 (VGS)為10V 時,STL320N4LF8 和STL325N4LF8AG的最大導通電阻 (Rds(on))分別為0.8毫歐和和0.75毫歐。新MOSFET的裸片單位面積(Rds(on))電阻非常低,因此可以采用節(jié)省空間且熱效率高的 PowerFLAT 5x6 封裝。

意法半導體先進的STripFET F8 技術(shù)的開關(guān)速度十分出色,低芯片電容可以最大限度地降低柵漏電荷等動態(tài)參數(shù),提高系統(tǒng)能效。設(shè)計人員可以在 600kHz 至 1MHz 范圍內(nèi)選擇開關(guān)頻率,允許使用尺寸更小的電容和磁性元件,節(jié)省電路尺寸和物料清單成本,提高終端應(yīng)用的功率密度。

適當?shù)妮敵鲭娙莺拖嚓P(guān)的等效串聯(lián)電阻可防止漏源電壓出現(xiàn)尖峰,并確保在管子關(guān)斷時突降振蕩時間更短。憑借這一點和體二極管的軟恢復特性, STL320N4LF8和 STL325N4LF8AG發(fā)出的電磁干擾 (EMI) 低于市場上其他類似器件。此外,體寄生二極管的反向恢復電荷很小,可最大限度地減少硬開關(guān)拓撲的能量損耗。

柵極閾壓(VGS(th))在 STL320N4LF8 和STL325N4LF8AG 中受到嚴格控制,以確保器件之間的閾壓差異很小,以便并聯(lián)多個 MOSFET功率管,處理更大的電流。短路耐受能力也非常出色,可承受高達1000A的電流(脈沖短于10μs)。STL320N4LF8 和 STL325N4LF8AG 分別是第一款符合工業(yè)標準和 AEC-Q101汽車標準的 STPOWER STripFET F8 MOSFET 器件,是電池供電產(chǎn)品和計算、電信、照明和通用功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用的理想選擇。

STL320N4LF8 和 STL325N4LF8AG 現(xiàn)已量產(chǎn)。

審核編輯:彭靜
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