最先進的光刻機多少nm 中國現(xiàn)在能做幾nm芯片
光刻機是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻機技術(shù)幾乎被荷蘭ASML所壟斷，那么全球最先進的光刻機是多少nm的？中國現(xiàn)在又能夠做出幾nm的芯片呢？
目前全球最先進的光刻機已經(jīng)可以實現(xiàn)5nm的工藝制程了，它是荷蘭ASML公司的極紫外光刻機（EUV），是目前全球最頂尖的光刻機設(shè)備。
中國目前最先進的光刻機應(yīng)該是22nm的，它的關(guān)鍵部件可以實現(xiàn)國產(chǎn)化了。但中國已經(jīng)可以實現(xiàn)14nm芯片的量產(chǎn)了，這是中芯國際取得的一個重大成績。
審核編輯：chenchen
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