如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有asml一家公司可以制造出來(lái)。

光刻機(jī)總共有三個(gè)核心部件，一是雙工件臺(tái)，二是EUV光源，三是EUV光學(xué)鏡頭，顧名思義，高能同步光源設(shè)備，是應(yīng)用于EUV光源的設(shè)備。

據(jù)最新消息了解，清華大學(xué)已經(jīng)和北京華卓精科合作，并且實(shí)現(xiàn)了65nm工藝光刻機(jī)需求的雙工件臺(tái)系統(tǒng)。

據(jù)央視報(bào)道，中科院高能物理研究院，創(chuàng)造出了中國(guó)首臺(tái)高能同步輻射光源設(shè)備，此外，為這臺(tái)光源設(shè)備提供技術(shù)支持的測(cè)試平臺(tái)，也已經(jīng)開(kāi)始試運(yùn)行。

光刻機(jī)主要包括：光源、投影物鏡和工件臺(tái)三個(gè)子系統(tǒng)及其他部件。其中，光源系統(tǒng)主要用來(lái)發(fā)射激光，投影物鏡系統(tǒng)主要用來(lái)對(duì)光線進(jìn)行精準(zhǔn)聚焦，工件臺(tái)主要用來(lái)承載硅片并根據(jù)光刻需求進(jìn)行精密運(yùn)動(dòng)，其決定了光刻機(jī)的分辨率和生產(chǎn)效率。

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編輯：黃飛