euv光刻機原理是什么
芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢？
EUV光刻機的原理是接近或接觸光刻，通過無限接近，將圖案復(fù)制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點上，通過移動工作臺或透鏡掃描實現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術(shù)，具有效率高、無損傷等優(yōu)點。
EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。
高端投影光刻機可分為兩種類型：步進投影光刻和掃描投影光刻。分辨率一般在在10納米到幾微米之間。高端光刻機被譽為世界上最精密的儀器。
本文綜合自百度百科、時間財富網(wǎng)
審核編輯：何安
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發(fā)表于 09-15 14:50
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發(fā)表于 10-31 10:56
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