chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

過氧化氫檢測儀/過氧化氫報警器介紹

R潤越環(huán)保Y ? 來源:R潤越環(huán)保Y ? 作者:R潤越環(huán)保Y ? 2022-09-29 15:00 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

產(chǎn)品介紹

RY-BJQ-H2O2過氧化氫檢測儀/過氧化氫報警器是潤越環(huán)??萍歼\用豐富技術(shù)經(jīng)驗,獨立研發(fā)設(shè)計的一款固定式、液晶顯示的氣體報警器,運用當前微電子處理技術(shù),搭配國外原裝進口氣體傳感器,當目標氣體進入氣體探頭部分后,內(nèi)部的傳感器會第一時間發(fā)出感應(yīng),傳感器根據(jù)氣體濃度的高低會產(chǎn)生一定電量信號,該信號經(jīng)過電路放大處理后,由CPU經(jīng)過AD采樣、溫度補償、智能計算后,轉(zhuǎn)換為對應(yīng)的標準電壓信號(如0-5V)、電流信號(如4-20mA)、標準數(shù)字信號(如總線RS-485)、WIFI、GPRS無線信號等,然后將信號變送到PLC、DCS、報警控制主機、上位機等系統(tǒng)配套進行統(tǒng)一顯示、管理和控制,,另外設(shè)備帶有繼電器(開關(guān)量信號),可以控制聲光報警器、風機、電磁閥的控制設(shè)備進行聯(lián)動,最大限度地保障您的生命和財產(chǎn)安全。

poYBAGM1QaCAR4u8AAl1BH7E6rY684.png

功能特點

★ 本質(zhì)安全型電路設(shè)計、安全可靠

★ 防爆聲光報警器功能。當檢測濃度達到設(shè)定的報警值,該檢測儀將發(fā)生報警。

★ 智能的溫度和零點補償算法,使儀器具有更加優(yōu)良的性能具有很好的選擇性,避免了其他氣體對被檢測氣體的干擾。

★ 國外原裝進口氣體傳感器,反應(yīng)速度快、誤差率低、抗干擾能力強

★ 多種氣體,多種量程、多種信號輸出可供選擇。

★ 多種信號輸出,既可方便接入PLC/DCS 等工控系統(tǒng),也可以作為單機控制使用

★ 隔爆設(shè)計、本安設(shè)計、RoHS設(shè)計。

★ 內(nèi)置按鍵+恢復(fù)出廠設(shè)置功能,避免人員誤操作。

★ 自帶全量程溫度補償和數(shù)據(jù)修正功能,提高了產(chǎn)品的精度性和穩(wěn)定性。

★ 可通過遙控器,免開蓋對檢測儀進行報警點、零點調(diào)整和目標點標定。

技術(shù)參數(shù)

pYYBAGM1QbSAaQNwAAC7n7O7Llc284.png

型號推薦

pYYBAGM1Qd2AGvuNAAA9-Edz9Gk980.png

poYBAGM1Qe6AYh1kAABaAOuAQ1c646.png

行業(yè)應(yīng)用

石油化工、工業(yè)生產(chǎn)、冶煉鍛造、電力、煤礦、造紙、陶瓷、隧道工程、汽車工業(yè)、環(huán)境監(jiān)測、污水處理、生物制藥、家居環(huán)保、酒店廚房、校園廚房、畜牧養(yǎng)殖、溫室培育、倉儲物流、釀造發(fā)酵、農(nóng)業(yè)生產(chǎn)、消防、燃氣、樓宇建造、市政企業(yè)、學(xué)校實驗室、飯?zhí)?,酒店、科?a target="_blank">中心。

審核編輯 黃昊宇

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 氣體傳感器
    +關(guān)注

    關(guān)注

    14

    文章

    595

    瀏覽量

    38998
  • 氣體報警器
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    47

    瀏覽量

    8206
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    半導(dǎo)體清洗中SPM的最佳使用溫度是多少

    半導(dǎo)體清洗中SPM(硫酸-過氧化氫混合液)的最佳使用溫度需根據(jù)具體工藝目標、污染物類型及設(shè)備條件綜合確定,以下是關(guān)鍵分析: 高溫場景(120–150℃) 適用場景:主要用于光刻膠剝離、重度有機污染
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:32 ?99次閱讀

    SC2溶液可以重復(fù)使用嗎

    濃度升高,不僅降低對新硅片的清洗效果,還可能因飽和而析出沉淀,造成二次污染。例如,溶解的銅離子若達到一定濃度后,反而可能重新附著在晶圓表面形成缺陷。過氧化氫分解產(chǎn)物
    的頭像 發(fā)表于 10-20 11:21 ?282次閱讀
    SC2溶液可以重復(fù)使用嗎

    如何選擇合適的SC1溶液來清洗硅片

    選擇合適的SC1溶液清洗硅片需要綜合考慮多個因素,以下是具體的方法和要點:明確污染物類型與污染程度有機物污染為主時:如果硅片表面主要是光刻膠、油脂等有機污染物,應(yīng)適當增加過氧化氫(H?O?)的比例
    的頭像 發(fā)表于 10-20 11:18 ?319次閱讀
    如何選擇合適的SC1溶液來清洗硅片

    sc-1和sc-2可以一起用嗎

    SC-1和SC-2可以一起使用,但需遵循特定的順序和工藝條件。以下是其協(xié)同應(yīng)用的具體說明:分步實施的邏輯基礎(chǔ)SC-1的核心作用:由氨水(NH?OH)、過氧化氫(H?O?)和水組成,主要去除硅片表面
    的頭像 發(fā)表于 10-13 10:57 ?339次閱讀
    sc-1和sc-2可以一起用嗎

    半導(dǎo)體rca清洗都有什么藥液

    半導(dǎo)體RCA清洗工藝中使用的主要藥液包括以下幾種,每種均針對特定類型的污染物設(shè)計,并通過化學(xué)反應(yīng)實現(xiàn)高效清潔:SC-1(堿性清洗液)成分組成:由氫氧化銨(NH?OH)、過氧化氫(H?O?)和去離子水
    的頭像 發(fā)表于 09-11 11:19 ?1087次閱讀
    半導(dǎo)體rca清洗都有什么藥液

    硅襯底的清洗步驟一覽

    溶液體系。隨后用去離子水(DIW)噴淋沖洗,配合氮氣槍吹掃表面以去除溶劑痕跡,完成基礎(chǔ)脫脂操作。標準RCA清洗協(xié)議實施第一步:堿性過氧化氫混合液處理(SC-1)配
    的頭像 發(fā)表于 09-03 10:05 ?429次閱讀
    硅襯底的清洗步驟一覽

    瞬態(tài)吸收助力理解AQ(蒽醌)在H??ORR光催化過程中的作用機制

    過氧化氫(H2O2)是重要大宗化學(xué)品,在化工、醫(yī)療、能源、半導(dǎo)體和環(huán)保等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,但其工業(yè)主要生產(chǎn)方法為蒽醌法,安全風險和環(huán)保壓力大,開發(fā)綠色安全的H2O2綠色生產(chǎn)工藝是工業(yè)亟需,針對以上困局,作者前期提出了無催化劑光合成H2O2新方案,即室溫條件下光子激發(fā)有機物,有機物
    的頭像 發(fā)表于 09-02 09:30 ?315次閱讀
    瞬態(tài)吸收助力理解AQ(蒽醌)在H??ORR光催化過程中的作用機制

    標準清洗液sc1成分是什么

    通過電化學(xué)作用使顆粒與基底脫離;同時增強對有機物的溶解能力124。過氧化氫(H?O?):一種強氧化劑,可將碳化硅表面的顆粒和有機物氧化為水溶性化合物,便于后續(xù)沖洗
    的頭像 發(fā)表于 08-26 13:34 ?847次閱讀
    標準清洗液sc1成分是什么

    化氫氣體檢測儀XKCON-G600-DH?S如何探測看不見的有毒氣體,并將安全隱患遏制從萌芽狀態(tài)!

    化氫氣體檢測儀XKCON-G600-DH?S是濟南祥控自動化設(shè)備有限公司參照工業(yè)標準研制的一款工業(yè)級、防爆型、固定在線式的氣體濃度檢測設(shè)備;該設(shè)備采用電化學(xué)檢測技術(shù),設(shè)備利用硫化氫
    的頭像 發(fā)表于 07-07 17:15 ?546次閱讀
    硫<b class='flag-5'>化氫氣體檢測儀</b>XKCON-G600-DH?S如何探測看不見的有毒氣體,并將安全隱患遏制從萌芽狀態(tài)!

    半導(dǎo)體芯片清洗用哪種硫酸好

    ),避免引入二次污染。 適用場景:用于RCA標準清洗(SC1/SC2配方)、去除硅片表面金屬離子和顆粒。 典型應(yīng)用: SC1溶液(H?SO?/H?O?):去除有機物和金屬污染; SC2溶液(HCl/H?O?):去除重金屬殘留。 技術(shù)限制: 傳統(tǒng)SPM(硫酸+過氧化氫)清洗中,過氧
    的頭像 發(fā)表于 06-04 15:15 ?953次閱讀

    半導(dǎo)體清洗SC1工藝

    及應(yīng)用的詳細介紹: 一、技術(shù)原理 化學(xué)反應(yīng)機制 氨水(NH?OH):提供堿性環(huán)境,腐蝕硅片表面的自然氧化層(SiO?),使附著的顆粒脫離晶圓表面。 過氧化氫(H?O?):作為強氧化劑,
    的頭像 發(fā)表于 04-28 17:22 ?3621次閱讀

    spm清洗會把氮化硅去除嗎

    下的潛在影響。 SPM清洗的化學(xué)特性 SPM成分:硫酸(H?SO?)與過氧化氫(H?O?)的混合液,通常比例為2:1至4:1(體積比),溫度控制在80-120℃35。 主要作用: 強氧化性:分解有機物(如光刻膠殘留)、氧化金屬污
    的頭像 發(fā)表于 04-27 11:31 ?716次閱讀

    晶圓擴散清洗方法

    法) RCA清洗是晶圓清洗的經(jīng)典工藝,分為兩個核心步驟(SC-1和SC-2),通過化學(xué)溶液去除有機物、金屬污染物和顆粒124: SC-1(APM溶液) 化學(xué)配比:氫氧化銨(NH?OH,28%)、過氧化氫(H?O?,30%)與去離子水(H?O)的比例為1:1:5。 溫度與時
    的頭像 發(fā)表于 04-22 09:01 ?1140次閱讀

    spm清洗和hf哪個先哪個后

    在半導(dǎo)體制造過程中,SPM(Sulfuric Peroxide Mixture,硫酸過氧化氫混合液)清洗和HF(Hydrofluoric Acid,氫氟酸)清洗都是重要的濕法清洗步驟。但是很多人有點
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:47 ?1204次閱讀

    8寸晶圓的清洗工藝有哪些

    可能來源于前道工序或環(huán)境。通常采用超聲波清洗、機械刷洗等物理方法,結(jié)合化學(xué)溶液(如酸性過氧化氫溶液)進行清洗。 刻蝕后清洗 目的與方法:在晶圓經(jīng)過刻蝕工藝后,表面會殘留刻蝕劑和其他雜質(zhì),需要通過清洗去除。此步驟通常
    的頭像 發(fā)表于 01-07 16:12 ?757次閱讀