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      盛美上海首臺前道ArF工藝涂膠顯影設備Ultra LITH順利出機

      半導體芯科技SiSC ? 來源：半導體芯科技SiSC ? 作者：半導體芯科技SiS ? 2022-12-29 18:18 ? 次閱讀
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      來源：盛美上海

      近日盛美上海首臺具有自主知識產(chǎn)權(quán)的涂膠顯影Track設備Ultra LITH成功出機，順利向中國國內(nèi)客戶交付首臺前道ArF工藝涂膠顯影Track設備，該設備由盛美半導體設備(亞太)制造中心完成出貨，這是該公司提升其在涂膠和顯影領域內(nèi)專業(yè)技術(shù)的重要一步。

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      此外，盛美上海將于2023年推出i-line型號設備，并且公司已開始著手研發(fā)KrF型號設備。前道涂膠顯影Track設備Ultra LITH的出貨是盛美上海持續(xù)拓展產(chǎn)品系列的又一成果，公司致力于成為晶圓級的工藝解決方案平臺，旗下產(chǎn)品還包括單晶圓及槽式濕法清洗設備、電鍍設備、無應力拋光設備、立式爐管設備，及PECVD設備。

      審核編輯黃昊宇

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