chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

9.3.8 直拉單晶硅中的氮∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書(shū)》

深圳市致知行科技有限公司 ? 2022-01-04 14:12 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

9.3硅材料中的缺陷與雜質(zhì)

第9章 集成電路專(zhuān)用材料

《集成電路產(chǎn)業(yè)全書(shū)》下冊(cè)

4bad267c-6bf1-11ec-ad3b-dac502259ad0.jpg

4bbb48b0-6bf1-11ec-ad3b-dac502259ad0.jpg

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 集成電路
    +關(guān)注

    關(guān)注

    5446

    文章

    12478

    瀏覽量

    372788
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    一文詳解半導(dǎo)體與CMOS工藝

    天然沙子里富含二氧化硅(SiO?),人們能夠從沙子中提取高純度單晶硅,以此制造集成電路單晶硅對(duì)純度要求極高,需達(dá)到99.9999999%(即9個(gè)9)以上,且原子需按照金剛石結(jié)構(gòu)排列
    的頭像 發(fā)表于 09-17 16:13 ?826次閱讀
    一文詳解半導(dǎo)體與CMOS工藝

    深入剖析單晶硅的生長(zhǎng)方法

    科技進(jìn)步和對(duì)高效智能產(chǎn)品需求的增長(zhǎng)進(jìn)一步奠定了集成電路產(chǎn)業(yè)在國(guó)家發(fā)展的核心地位。而半導(dǎo)體硅單晶作為集成電路
    的頭像 發(fā)表于 08-21 10:43 ?1101次閱讀
    深入剖析<b class='flag-5'>單晶硅</b>的生長(zhǎng)方法

    單晶硅清洗廢液處理方法有哪些

    很多人接觸過(guò),或者是存在好奇與疑問(wèn),很想知道的是單晶硅清洗廢液處理方法有哪些?那今天就來(lái)給大家解密一下,主流的單晶硅清洗廢液處理方法詳情。物理法過(guò)濾:可去除廢液的大顆粒懸浮物、固體雜質(zhì)等,常采用砂
    的頭像 發(fā)表于 06-30 13:45 ?436次閱讀
    <b class='flag-5'>單晶硅</b>清洗廢液處理方法有哪些

    與其他材料在集成電路的比較

    與其他半導(dǎo)體材料在集成電路應(yīng)用的比較可從以下維度展開(kāi)分析。
    的頭像 發(fā)表于 06-28 09:09 ?1267次閱讀

    單晶片電阻率均勻性的影響因素

    直拉單晶生長(zhǎng)的過(guò)程是熔融的多晶逐漸結(jié)晶生長(zhǎng)為固態(tài)的單晶硅的過(guò)程,沒(méi)有雜質(zhì)的本征硅單晶的電阻率很高,幾乎不會(huì)導(dǎo)電,沒(méi)有市場(chǎng)應(yīng)用價(jià)值,因此通
    的頭像 發(fā)表于 05-09 13:58 ?1089次閱讀
    硅<b class='flag-5'>單晶</b>片電阻率均勻性的影響因素

    中國(guó)集成電路大全 接口集成電路

    資料介紹本文系《中國(guó)集成電路大全》的接口集成電路分冊(cè),是國(guó)內(nèi)第一次比較系統(tǒng)地介紹國(guó)產(chǎn)接口集成電路的系列、品種、特性和應(yīng)用方而知識(shí)的書(shū)籍。全書(shū)共有總表、正文和附錄三部分內(nèi)容。總表部分列有
    發(fā)表于 04-21 16:33

    多晶鑄造工藝碳和雜質(zhì)的來(lái)源

    本文介紹了在多晶鑄造工藝碳和雜質(zhì)的來(lái)源、分布、存在形式以及降低雜質(zhì)的方法。
    的頭像 發(fā)表于 04-15 10:27 ?1197次閱讀
    多晶<b class='flag-5'>硅</b>鑄造工藝<b class='flag-5'>中</b>碳和<b class='flag-5'>氮</b>雜質(zhì)的來(lái)源

    芯片制造的多晶介紹

    多晶(Polycrystalline Silicon,簡(jiǎn)稱(chēng)Poly)是由無(wú)數(shù)微小晶粒組成的非單晶硅材料。與單晶硅(如襯底)不同,多晶
    的頭像 發(fā)表于 04-08 15:53 ?3237次閱讀
    芯片制造<b class='flag-5'>中</b>的多晶<b class='flag-5'>硅</b>介紹

    N型單晶硅制備過(guò)程拉晶工藝對(duì)氧含量的影響

    本文介紹了N型單晶硅制備過(guò)程拉晶工藝對(duì)氧含量的影響。
    的頭像 發(fā)表于 03-18 16:46 ?1162次閱讀
    N型<b class='flag-5'>單晶硅</b>制備過(guò)程<b class='flag-5'>中</b>拉晶工藝對(duì)氧含量的影響

    半導(dǎo)體芯片集成電路工藝及可靠性概述

    半導(dǎo)體芯片集成電路(IC)工藝是現(xiàn)代電子技術(shù)的核心,涉及從材料到復(fù)雜電路制造的多個(gè)精密步驟。以下是關(guān)鍵工藝的概述:1.晶圓制備材料:高純度單晶硅(純度達(dá)99.9999999%),通過(guò)
    的頭像 發(fā)表于 03-14 07:20 ?1262次閱讀
    半導(dǎo)體芯片<b class='flag-5'>集成電路</b>工藝及可靠性概述

    國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展應(yīng)有五個(gè)著力點(diǎn)

    基礎(chǔ)研究和技術(shù)問(wèn)題反饋到科技創(chuàng)新的鏈條。同時(shí),集成電路也是賦能千行百業(yè)發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力的基礎(chǔ),要面向產(chǎn)業(yè)升級(jí)提出的場(chǎng)景、目標(biāo)、需求,進(jìn)行更有針對(duì)性和目的性的創(chuàng)新?!惫L(fēng)表示。他認(rèn)為,集成電路
    的頭像 發(fā)表于 03-12 14:55 ?561次閱讀

    集成電路產(chǎn)業(yè)新地標(biāo) 集成電路設(shè)計(jì)園二期推動(dòng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能級(jí)提升

    在2025海淀區(qū)經(jīng)濟(jì)社會(huì)高質(zhì)量發(fā)展大會(huì)上,海淀區(qū)對(duì)18個(gè)園區(qū)(樓宇)的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)業(yè)空間及更新改造的城市高品質(zhì)空間進(jìn)行重點(diǎn)推介,誠(chéng)邀企業(yè)來(lái)海淀“安家”。2024年8月30日正式揭牌的集成電路設(shè)計(jì)園二期就是
    的頭像 發(fā)表于 03-12 10:18 ?807次閱讀

    天水華天傳感器推出CYB6200系列單晶硅壓力變送器 為工業(yè)測(cè)量保駕護(hù)航

    ? ? 在石油化工、電力能源等高精度測(cè)量領(lǐng)域,穩(wěn)定與可靠是核心訴求。天水華天傳感器推出的CYB6200系列單晶硅壓力變送器,以±0.075%超高精度、超強(qiáng)抗干擾、高過(guò)載性能及智能組態(tài)功能,為工業(yè)測(cè)量
    的頭像 發(fā)表于 03-08 16:51 ?1451次閱讀

    集成電路技術(shù)的優(yōu)勢(shì)與挑戰(zhàn)

    作為半導(dǎo)體材料在集成電路應(yīng)用的核心地位無(wú)可爭(zhēng)議,然而,隨著科技的進(jìn)步和器件特征尺寸的不斷縮小,集成電路技術(shù)正面臨著一系列挑戰(zhàn),本文分述
    的頭像 發(fā)表于 03-03 09:21 ?1222次閱讀
    <b class='flag-5'>硅</b><b class='flag-5'>集成電路</b>技術(shù)的優(yōu)勢(shì)與挑戰(zhàn)

    芯片制造工藝:晶體生長(zhǎng)、成形

    1.晶體生長(zhǎng)基本流程下圖為從原材料到拋光晶圓的基本工藝流程:2.單晶硅的生長(zhǎng)從液態(tài)的熔融中生長(zhǎng)單晶硅的及基本技術(shù)稱(chēng)為直拉法(Czochralski)。半導(dǎo)體工業(yè)
    的頭像 發(fā)表于 12-17 11:48 ?1664次閱讀
    芯片制造工藝:晶體生長(zhǎng)、成形