7月6日消息,據(jù)臺(tái)媒報(bào)道,ASML試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令,面向中國(guó)大陸市場(chǎng)推出特別版DUV ***。
消息稱如果該項(xiàng)目繼續(xù)推進(jìn),中芯國(guó)際、華虹等半導(dǎo)體企業(yè)可以繼續(xù)使用ASML的設(shè)備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。
消息稱該特別版 DUV ***基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造,而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號(hào),不在本次官方禁令范圍內(nèi)。1980Di 是 ASML 現(xiàn)有效率比較低的***,支持 NA 1.35 光學(xué)器件、分辨率可以達(dá)到 <38 nm,理論上可以支持 7nm 工藝。大多數(shù)晶圓廠使用 1980Di ***,主要生產(chǎn) 14nm 及以上工藝芯片,很少使用其生產(chǎn) 7nm 芯片。
不過(guò),ASML對(duì)此最新回應(yīng)表示:一直以來(lái)ASML都遵守所適用的法律條例,我們并沒(méi)有面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版的***。
但行業(yè)人士表示,報(bào)道指出的特別版DUV***是基于Twinscan NXT:1980Di光刻系統(tǒng)改造,作為10年前就已經(jīng)推出的型號(hào),因?yàn)榧夹g(shù)已經(jīng)嚴(yán)重退檔,所以不在新的和舊有的禁令中。雖然這類***理論上可以支持7nm芯片的制造,但因其生產(chǎn)效率極低,良品率太差,很少半導(dǎo)體公司在使用。
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原文標(biāo)題:ASML向中國(guó)推出“特供版”光刻機(jī)?
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