今天為大家?guī)?lái)的是半導(dǎo)體光催化技術(shù)的基本原理，半導(dǎo)體光催化技術(shù)的基本原理主要通過(guò)固體能帶理論解釋：半導(dǎo)體光催化材料受光激發(fā)產(chǎn)生光生電子．空穴對(duì)，接著進(jìn)行氧化還原反應(yīng)。

一般來(lái)說(shuō)，光催化過(guò)程主要分為以下三個(gè)步驟：

1，半導(dǎo)體材料吸收光子產(chǎn)生光生電子和空穴；

2, 光生電子和空穴從半導(dǎo)體內(nèi)部向表面遷移；
3，光生空穴與供體發(fā)生氧化反應(yīng)： 光生電子與受體發(fā)生還原反應(yīng)：

半導(dǎo)體光催化材料受光激發(fā)持續(xù)產(chǎn)生光生電子．空穴對(duì)，并被反應(yīng)物消耗，實(shí)現(xiàn)太陽(yáng)能向化學(xué)能的轉(zhuǎn)換。然而，目前光催化材料的太陽(yáng)能利用率還達(dá)不到理想的實(shí)際應(yīng)用效果。

一方面，半導(dǎo)體只吸收能量大于等于其帶隙的光子，半導(dǎo)體的帶隙決定了吸收光子的數(shù)目。另一方面，大部分光生電子-空穴對(duì)在半導(dǎo)體表面／內(nèi)部發(fā)生復(fù)合，從太陽(yáng)光中獲取的能量以光和熱的形式散發(fā)。

審核編輯：黃飛