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三星被裁定未侵犯半導(dǎo)體專利,Demaray索賠40億美元未果

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-02-19 14:53 ? 次閱讀
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得州聯(lián)邦陪審團(tuán)近日裁定,三星電子涉及反應(yīng)器制造及研究設(shè)施的活動并無侵犯Demaray LLC所持半導(dǎo)體專有權(quán)項下的訴訟請求。其索賠金額高達(dá)逾四十億美元。

陪審團(tuán)審理此案時,立于證人席的三星供應(yīng)商Applied Materials Inc.員工會多次作為證人出庭。然而在審判過程中,身為辯護(hù)律師的Michel W. De Vries主張終止針對該供應(yīng)商所有工作人員的交叉訊問,理由為律師提及了針對該公司的刑事調(diào)查。

De Vries在法庭宣判后聲明,其公司對此類言論深感關(guān)切,并堅持?jǐn)嘌云涫嵡規(guī)в忻黠@偏見。然而,公司依舊決定參與后續(xù)庭審進(jìn)程,同時保留擇機(jī)請求重審陪審團(tuán)判決之權(quán)。

反觀Demaray方面,由Irell & Maneella LLP 的Morgan Chu擔(dān)任代表的律師對陪審團(tuán)宣貫,三星在審判過程中的行為嚴(yán)重干擾案件審理。他強(qiáng)調(diào),鑒于Demaray規(guī)模較小,不應(yīng)成為審裁處罰的焦點(diǎn)。

早在2020年7月,Demaray已就三星及其旗下子公司三星奧斯汀半導(dǎo)體有限責(zé)任公司、三星半導(dǎo)體有限公司以及三星電子美國公司告上法庭,指控這些韓國企業(yè)在制造設(shè)備環(huán)節(jié)中使用反應(yīng)器元件,且在出售產(chǎn)品過程中運(yùn)用磁控濺射技術(shù)。

然而,三星于當(dāng)年9月即否認(rèn)了相關(guān)指控,并拒不合理解釋技術(shù)侵犯其專利的事實。直至2022年6月,專利審判與上訴委員會經(jīng)過綜合考慮,方才維持各項專利有效期。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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