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Intel宣布8大全新制造工藝:目標世界第二

硬件世界 ? 來源:硬件世界 ? 2024-02-22 15:09 ? 次閱讀
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硬件世界2月22日美國圣何塞現(xiàn)場報道:

Intel CEO帕特·基辛格倡導的IDM 2.0半導體制造與代工模式進入全新階段。

面向AI時代、更具韌性和可持續(xù)性的、全球第一個系統(tǒng)級代工服務——“Intel代工”(Intel Foundry),今日正式宣布成立!

Intel是當今半導體行業(yè)為數(shù)不多的同時具備先進芯片設計、制造能力的企業(yè),而為了適應新時代、新形勢、新需求的發(fā)展,Intel沒有固守以往的模式,也沒有簡單粗暴地拆分設計與制造,而是提出了全新的IDM 2.0模式。

從此,Intel公司將分為兩大部分,一是負責產(chǎn)品設計的Intel Product,二是負責代工制造的Intel Foundry。

二者是一家人,但又相對獨立,財務單獨核算,彼此互相激勵。

Intel代工將技術開發(fā)、制造和供應鏈,以及原來的Intel代工服務整合在一起,平等地向Intel內部和外部客戶提供服務。

一方面,Intel產(chǎn)品設計的芯片,可以使用Intel代工來制造,也可以尋求第三方外部代工,就看誰更好用,誰的性能、能效、成本更佳,這就要求Intel代工必須拿出最好的工藝。

另一方面,Intel代工可以制造Intel自己的產(chǎn)品,也可以為其他芯片設計企業(yè)代工,實現(xiàn)更靈活的運營和效益、競爭力的最大化,也要求Intel產(chǎn)品必須拿出最好的芯片。

Intel代工的目標,是在2030年成為全球規(guī)模第二的代工廠,僅次于臺積電。

這個定位無疑是很理、現(xiàn)實的,但即便定位第二,Intel代工也必須竭盡全力推進制造工藝。

第一步,自然是實現(xiàn)“四年五代節(jié)點”的目標。

其中,Intel 7、Intel 4都已量產(chǎn)上市,后者就是剛推出的酷睿Ultra。

Intel 3已經(jīng)做好了大規(guī)模量產(chǎn)的準備,今年上半年開始會陸續(xù)用于新一代至強Sierra Forest(首次純E核最多288個)、Granite Rapids(純P核)。

Intel 20A將開啟埃米時代,引入全新的RibbonFET晶體管、PowerVia背部供電。

它在今年內推出,用于新一代消費級酷睿處理器,包括高性能的Arrow Lake、低功耗的Lunar Lake。

Intel 18A正在按計劃推進,首發(fā)于下下代至強Clearwater Forest,現(xiàn)已完成流片,2025年登場。

基辛格現(xiàn)場首次展示了Clearwater Forest的樣片,可以看到繼續(xù)采用chiplet小芯片設計,并搭配EMID、Foveros Direct封裝技術。

其中兩組CPU模塊都采用Intel 18A,還有兩組IO模塊,而基板則是Intel 3工藝。

按照Intel的一貫說法,18A將讓Intel重新獲得制程工藝的領先性。

再往后,Intel的下一代重大工藝節(jié)點將是Intel 14A,等效于1.4nm,從路線圖上看大約會在2026年左右推出。

它的最大亮點,就是將在業(yè)界首次采用全新的高NA EUV光刻機,不久前剛從ASML接收到。

按照基辛格此前披露的說法,Intel將在德國建設的新晶圓廠極有可能就會引入14A。

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與此同時,Intel還將打造不同工藝節(jié)點的多個演化版本,一方面滿足不同客戶的不同需求,另一方面深挖節(jié)點潛力,實現(xiàn)應用和利益的最大化,臺積電和三星也都是這么干的。

按照規(guī)劃,Intel將每兩年推出一個新的工藝節(jié)點,并一路推出各個節(jié)點的演化版本。

其中,先進工藝包括14A節(jié)點的A14-E,18A節(jié)點的18A-P,3節(jié)點的3-T、3-E、3-PT。

成熟工藝包括16節(jié)點及其16-E,以及12nm、65nm節(jié)點。

P代表Performance,也就是提升性能的增強版,幅度超過10%。

T代表Through Silicon,也就是加入TSV硅通孔技術的3D堆疊封裝升級版。

E代表Extension,也就是功能拓展版本,更有針對性。

這些變化可以出現(xiàn)在同一個節(jié)點上,兼而有之,比如3-PT,不同節(jié)點也可用于同一款產(chǎn)品的不同子芯片。

16、16-E都是基于22nm、14nm工藝混合演化而來,也再次體現(xiàn)了14nm的強大生命力。

12nm則是來自Intel與聯(lián)電的合作產(chǎn)物,面向移動通訊、通信基礎設施、網(wǎng)絡等領域。

此前,Intel和高塔半導體(Tower Semiconductor)將在Intel美國新墨西哥州工廠合作生產(chǎn)65nm芯片,將有效延長Intel現(xiàn)有產(chǎn)能的生產(chǎn)壽命,并提高投資回報率。

與先進工藝相輔相成的,是各種先進封裝技術,也是chiplet實現(xiàn)的前提。

Intel代工還宣布,將FCBGA 2D+納入Intel代工先進系統(tǒng)封裝及測試(Intel Foundry ASAT)的技術組合之中。

這一組合包括:FCBGA 2D、FCBGA 2D+、EMIB 2.5、EMIB 3.5D、Foveros 2.5D、Foveros 3D、Foveros Direct 3D。

不過,這一次,Intel并未披露未來更先進的封裝技術路線圖。

對外的話,Intel在各個工藝節(jié)點和先進封裝上,包括Intel 3、Intel 18A、Intel 16等等,都已經(jīng)有大量的客戶設計案例。

比如,微軟CEO納德拉就最新宣布,微軟的一款芯片計劃采用Intel 18A工藝制造。

就在上個月,Intel披露一家新的高性能計算客戶將采用Intel代工服務制造其芯片,加上如今的微軟,Intel 18A代工客戶已達五家。

先進封裝方面,Intel代工近期新增三家客戶,2023年總共新增五家客戶。

目前,Intel代工已經(jīng)流片了超過75款生態(tài)系統(tǒng)和客戶測試芯片。

2024-2025年,Intel代工已有超過50款測試芯片在準備中,其中75%將采用Intel 18A制程節(jié)點。

總體而言,在晶圓制造和先進封裝領域,Intel代工的預期交易價值將超過150億美元。

Intel代工之所以把自己稱為系統(tǒng)級代工,就是因為有著系統(tǒng)級的全套服務能力,這也是他的差異化優(yōu)勢。

底層是各種先進制造工藝和封裝技術,之上有基板技術(將引入玻璃材質)、散熱技術(浸沒式液冷散熱能力可超過2000W)、內存技術(下一代HBM4)、互連技術(UCIe)、網(wǎng)絡技術(光電子),等等。

再往上的頂層,則是各種軟件與服務能力,做到軟硬兼施。

Intel代工當然也不是自己單打獨斗,而是與整個產(chǎn)業(yè)的眾多生態(tài)伙伴都密切合作,官方公布的伙伴就有30多家。

比如IP(知識產(chǎn)權)、EDA(電子設計自動化)領域的Synopsys、Cadence、Siemens(西門子)、Ansys、Lorentz、Keysight,以及Arm、Rambus這樣的頂級IP廠商。

他們的工具和IP都已準備就緒,在Intel的各個制程節(jié)點上啟用,尤其是可以幫助代工客戶加速基于Intel 18A工藝的先進芯片設計。

針對Intel EMIB 2.5D封裝技術,多家供應商宣布計劃合作開發(fā)組裝技術和設計流程,可以讓Intel更快地為客戶開發(fā)、交付先進封裝解決方案。

Intel還公布了“新興企業(yè)支持計劃”(Emerging Business Initiative),將與Arm合作,為基于Arm架構的SoC芯片提供代工服務。

這一計劃支持初創(chuàng)企業(yè)開發(fā)基于Arm架構的技術,并提供必要IP、制造支持和資金援助。

Arm CEO Rene Haas也親臨會場,表達了與Intel代工的親密合作關系。

此外,Inte代工與眾多高校、科研機構也有著深度的合作,比如伯克利大學、密歇根大學都是Intel 18A工藝的伙伴。

可持續(xù)性方面,Intel也貫徹始終、堅守承諾。

據(jù)初步估算,2023年Intel全球工廠的可再生電力使用率達到了99%,將在2030年達成100%,同時實現(xiàn)水資源正效益、零垃圾填埋。

Intel還再次強調,將在2040年實現(xiàn)范圍1和范圍2溫室氣體(GHG)凈零排放,2050年實現(xiàn)范圍3溫室氣體凈零上游排放的承諾。

《芯片戰(zhàn)爭》一書作者Chris Miller去年在向Intel員工發(fā)表演講時直言:“Intel是過去50年最為重要的企業(yè)?!?/strong>

相信在未來50年,Intel的行業(yè)地位同樣不可撼動。

對于一家走過半個多世紀的頂級半導體企業(yè)而言,Intel當下確實面臨著諸多挑戰(zhàn),無論外部環(huán)境還是內部發(fā)展。

但是,在帕特·基辛格的領導下,Intel一方面堅持技術與功程導向,一方面積極轉型、走上新賽道,Intel代工的成立自然是最為核心的一步棋,起著承上啟下、繼往開來的關鍵作用。

無論對于半導體行業(yè),還是對于普通消費者,Intel代工都預示著一個全新的未來。




審核編輯:劉清

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:1.4nm領銜!Intel宣布8大全新制造工藝:目標世界第二

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