TCL科技集團(tuán)股份有限公司成功研發(fā)出“光電器件與電子設(shè)備”的新技術(shù)并已提交專利申請(qǐng),該技術(shù)將于2024年5月17日正式對(duì)外公布,申請(qǐng)編號(hào)為CN118055671A。

該項(xiàng)創(chuàng)新性技術(shù)主要涉及光電器件及其制備方法,包括運(yùn)用預(yù)制器件,其中功能層由一至多層膜組成,通過(guò)對(duì)至少一層膜進(jìn)行可控退火深度的第一次退火處理,有效防止了退火工藝對(duì)下層膜性能的負(fù)面影響,特別是對(duì)于熱敏材料制成的下層膜尤為重要。這種方法能夠保證膜層充分退火,從而提高其性能。相比傳統(tǒng)方法制造的光電器件,采用此方法生產(chǎn)的產(chǎn)品具有更好的光電性能和使用壽命,最大亮度、最大電流效率及器件壽命均有明顯提升。將這些光電器件應(yīng)用于電子設(shè)備中,有助于進(jìn)一步提升電子設(shè)備的光電性能和使用壽命。
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