新華社報道，近期發(fā)布了中日韓知識產權合作十年愿景聯(lián)合聲明。該聲明表示，2024年5月27日，中華人民共和國、日本國和大韓民國領導人齊聚韓國首爾，出席了第九次中日韓領導人會議。

此次會議回顧了中日韓三局在知識產權領域長達23年的合作歷程。自2001年起，中日韓三局開始攜手推進專利審查信息交流與使用、統(tǒng)一專利審查標準并搭建國際基準。

他們認為，基于地域鄰近性和文化獨特性，三方在此期間逐漸增強信任，深化了在自動化專利、專利、外觀設計、人力資源開發(fā)、復審和商標等六大領域的合作，同時強化了專利保護力度，以保障專利權人對其發(fā)明和公開的專有權。

此外，聲明還指出，過去20年來，中日韓三局所處理的專利申請量占全球比重由40%增至超過60%，商標申請活動量則由20%升至超過50%。這顯示出三局在推動全球科技進步和經濟增長方面的重要貢獻。

展望未來十年，三方一致認為，科技行業(yè)和技術之間的深度融合以及科技的飛速發(fā)展將成為趨勢。他們認識到，技術進步和創(chuàng)新是應對新冠疫情等全球挑戰(zhàn)的關鍵，知識產權則是推動這些進步的重要動力。因此，三國應持續(xù)通過合作來激勵創(chuàng)新者創(chuàng)造和運用知識產權，并積極保護知識產權。

為了進一步分享三局的知識產權經驗，縮小全球知識產權差距，三方決定在未來十年內：

首先，建立一個能夠適應技術快速變革的知識產權體系。期待中日韓三國的大學、企業(yè)和研究機構能在人工智能、物聯(lián)網等第四次工業(yè)革命技術領域推出創(chuàng)新產品、服務和解決方案。為此，三局將共同完善相關規(guī)則、審查實踐和制度，確保這類創(chuàng)新及時獲得相應的知識產權保護。

其次，三局將共同努力，提高公眾獲取專利信息的便利性，鼓勵私營部門運用專利信息。他們深知，專利信息分析對于學術界、研究團隊和行業(yè)在制定研發(fā)和投資策略以及開發(fā)市場準入戰(zhàn)略方面具有重要意義。因此，三局將致力于共享專利信息，免費向公眾披露共享信息，并支持私營部門充分利用公開的專利信息，助力其他國家實現(xiàn)技術發(fā)展和創(chuàng)新驅動增長。

最后，為了擴大中日韓三局的知識產權合作影響力，三方計劃將合作擴展至其他國家和地區(qū)，推動“中日韓+X”知識產權合作模式。在選擇合作伙伴時，三局將優(yōu)先考慮有協(xié)作需求或可形成合力的國家和地區(qū)組織（如東盟）。他們相信，這將有助于縮小全球知識產權差距，推動世界平衡增長。