光學(xué)測量是利用光的性質(zhì)如光的傳播、反射、折射、干涉、衍射等，進(jìn)行長度、形狀、角度、顏色等精確測量的非接觸式測量技術(shù)，在工業(yè)、醫(yī)療、航空航天等領(lǐng)域獲得廣泛的應(yīng)用。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步與革新，光學(xué)測量技術(shù)在向更高精度、更高效的方向發(fā)展，芯明天納米定位臺(tái)以其高精度和快速的響應(yīng)速度特點(diǎn)，在光學(xué)測量技術(shù)中提供納米級精密定位，可使測量結(jié)果更精確。

注：圖片來源于網(wǎng)絡(luò)

P60.X200系列高精度一維壓電納米定位臺(tái)

P60.X200系列壓電納米定位臺(tái)采用機(jī)構(gòu)放大設(shè)計(jì)原理，柔性鉸鏈連接支撐傳動(dòng)，內(nèi)部采用高可靠性壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)，可產(chǎn)生一維X軸直線運(yùn)動(dòng)，位移可達(dá)200μm，分辨率可達(dá)2nm，承載可達(dá)1.3kg，開環(huán)狀態(tài)下，空載階躍時(shí)間可達(dá)30ms，可配置閉環(huán)傳感實(shí)現(xiàn)高精度掃描與定位。P60.X200系列壓電納米定位臺(tái)為一維X向運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，可以通過疊加轉(zhuǎn)接的方式實(shí)現(xiàn)二維、三維運(yùn)動(dòng)。產(chǎn)品外觀如下所示。

產(chǎn)品特點(diǎn)

一維X向運(yùn)動(dòng)，行程可達(dá)200μm

承載可達(dá)1.3kg

分辨率可達(dá)2nm

開/閉環(huán)可選，真空版本可選

可組多維使用

產(chǎn)品應(yīng)用

光學(xué)測量

光學(xué)檢測

顯微掃描

激光干涉

生物科技

技術(shù)參數(shù)

配套控制器

E53.D系列壓電控制器非常適用于驅(qū)動(dòng)P60.X200系列壓電納米定位臺(tái)。E53.D系列是針對小體積應(yīng)用要求而設(shè)計(jì)的單通道控制器，體積小巧，外形尺寸僅為148×27.5×80mm^3，重量為350g，供電電壓24VDC/1A。機(jī)身帶有散熱區(qū)域，可迅速導(dǎo)出產(chǎn)生的熱量，上位機(jī)軟件支持二次開發(fā)，體積小巧，易于集成。

審核編輯 黃宇