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P60.X200系列高精度一維壓電納米定位臺應用于光學測量

楊明遠 ? 來源:楊明遠 ? 作者:楊明遠 ? 2024-08-08 11:04 ? 次閱讀
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光學測量是利用光的性質(zhì)如光的傳播、反射、折射、干涉、衍射等,進行長度、形狀、角度、顏色等精確測量的非接觸式測量技術(shù),在工業(yè)、醫(yī)療、航空航天等領(lǐng)域獲得廣泛的應用。隨著技術(shù)的不斷進步與革新,光學測量技術(shù)在向更高精度、更高效的方向發(fā)展,芯明天納米定位臺以其高精度和快速的響應速度特點,在光學測量技術(shù)中提供納米級精密定位,可使測量結(jié)果更精確。

注:圖片來源于網(wǎng)絡

P60.X200系列高精度一維壓電納米定位臺

P60.X200系列壓電納米定位臺采用機構(gòu)放大設計原理,柔性鉸鏈連接支撐傳動,內(nèi)部采用高可靠性壓電陶瓷驅(qū)動,可產(chǎn)生一維X軸直線運動,位移可達200μm,分辨率可達2nm,承載可達1.3kg,開環(huán)狀態(tài)下,空載階躍時間可達30ms,可配置閉環(huán)傳感實現(xiàn)高精度掃描與定位。P60.X200系列壓電納米定位臺為一維X向運動平臺,可以通過疊加轉(zhuǎn)接的方式實現(xiàn)二維、三維運動。產(chǎn)品外觀如下所示。

wKgaoma0Na2AHhg4AAA4VgjIb1Y157.jpg

產(chǎn)品特點

一維X向運動,行程可達200μm

承載可達1.3kg

分辨率可達2nm

開/閉環(huán)可選,真空版本可選

可組多維使用

產(chǎn)品應用

光學測量

光學檢測

顯微掃描

激光干涉

生物科技

技術(shù)參數(shù)

型號 P60.X200S/K
運動自由度 X
驅(qū)動控制 1路驅(qū)動,1路傳感/1路驅(qū)動
標稱行程范圍(0~120V) 160μm
行程范圍(0~150V) 200μm
傳感器類型 SGS/-
閉/開環(huán)分辨率 7nm/2nm
閉環(huán)線性度 0.02%F.S./-
閉環(huán)重復定位精度 0.01%F.S./-
俯仰/偏航/滾動 <15μrad
閉/開環(huán)空載階躍時間 50ms@20μm、1300g/30ms
空載諧振頻率 370Hz
帶載諧振頻率@1300g 120Hz
電容 10.8μF
工作溫度范圍 -20~80℃
承載能力 1300g
材料 不銹鋼、鋁合金
重量 630g

配套控制器

E53.D系列壓電控制器非常適用于驅(qū)動P60.X200系列壓電納米定位臺。E53.D系列是針對小體積應用要求而設計的單通道控制器,體積小巧,外形尺寸僅為148×27.5×80mm^3,重量為350g,供電電壓24VDC/1A。機身帶有散熱區(qū)域,可迅速導出產(chǎn)生的熱量,上位機軟件支持二次開發(fā),體積小巧,易于集成。

wKgZoma0Na6AXHcsAABA4b4JAs8997.jpg

審核編輯 黃宇

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