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東方晶源深耕電子束量測(cè)檢測(cè)核心技術(shù) “三箭齊發(fā)”新一代EOS上“機(jī)”

吳生semi ? 來源:東方晶源 ? 作者:東方晶源 ? 2024-08-21 16:39 ? 次閱讀
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電子束量測(cè)檢測(cè)設(shè)備是芯片制造裝備中除光刻機(jī)之外技術(shù)難度最高的設(shè)備類別之一,深度參與光刻環(huán)節(jié)、對(duì)制程節(jié)點(diǎn)敏感并且對(duì)最終產(chǎn)線良率起到至關(guān)重要的作用。其最為核心的模塊為電子光學(xué)系統(tǒng)(ElectronOpticalSystem,簡稱EOS),決定設(shè)備的成像精度和質(zhì)量,進(jìn)而決定設(shè)備的性能。

作為電子束量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的先行者、領(lǐng)跑者,東方晶源始終堅(jiān)持自主研發(fā),不斷深化研發(fā)投入、加速技術(shù)創(chuàng)新步伐,致力于為客戶帶來更加卓越的產(chǎn)品。日前,東方晶源自主研發(fā)的新一代EOS“三箭齊發(fā)”,取得突破性成果,成功搭載到旗下電子束缺陷復(fù)檢設(shè)備(DR-SEM)、關(guān)鍵尺寸量測(cè)設(shè)備(CD-SEM)、電子束缺陷檢測(cè)設(shè)備(EBI),率先實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)EOS在高端量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的應(yīng)用,助力產(chǎn)品性能實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步攀升的同時(shí),為國產(chǎn)電子束量測(cè)檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展進(jìn)一步夯實(shí)了基礎(chǔ)。

新一代DR-SEM EOS:多場景 高精度
DR-SEM是一款基于超高分辨率電子束成像技術(shù)對(duì)缺陷進(jìn)行復(fù)檢分析的設(shè)備,包括形貌分析、成分分析等,因此其搭載的EOS需要高分辨、高速的自動(dòng)化復(fù)檢能力,并提供多樣化的信號(hào)表征手段。

東方晶源新一代DR-SEM EOS采用適配自研多通道高速探測(cè)器、支持多信號(hào)類型分析檢測(cè)的電子光學(xué)設(shè)計(jì)方案,兼容EDX成分分析功能,能夠覆蓋廣泛的缺陷復(fù)檢應(yīng)用場景。此外,新一代DR-SEM EOS搭配高精度定位技術(shù),檢測(cè)精度和速度可以匹配業(yè)界主流水準(zhǔn)。

新一代CD-SEM EOS:高精度 高速度
CD-SEM作為產(chǎn)線量測(cè)的基準(zhǔn)設(shè)備,對(duì)EOS的核心技術(shù)需求在于高分辨、高產(chǎn)能(Throughput)和高穩(wěn)定性。東方晶源新一代CD-SEM EOS為實(shí)現(xiàn)高成像分辨率和高量測(cè)精度,采用球色差優(yōu)化的物鏡、像差補(bǔ)償技術(shù)、自動(dòng)校正技術(shù)等新方案,目前已達(dá)到業(yè)界一流水平。同時(shí),自研探測(cè)器針對(duì)頻響和信噪比優(yōu)化,支持快速圖像采集,結(jié)合高速AFC技術(shù),可以在不損失精度的情況下大幅提升量測(cè)產(chǎn)能。新的技術(shù)方案確保了更穩(wěn)定、一致的產(chǎn)品表現(xiàn)。通過上述各方面的技術(shù)突破,新一代CD-SEM EOS在性能和穩(wěn)定性上取得大幅提升。

新一代EBI EOS:多場景 高速度
針對(duì)國內(nèi)領(lǐng)先的邏輯與存儲(chǔ)客戶產(chǎn)線檢測(cè)需求,EBI EOS要在保證檢測(cè)精度的前提下,重點(diǎn)提升檢測(cè)速度。東方晶源最新研發(fā)的EBI EOS通過四大技術(shù)手段在檢測(cè)精度和速度上進(jìn)行了顯著的優(yōu)化與提升。(1)超大束流的電子束預(yù)掃描技術(shù)和大范圍電子產(chǎn)率調(diào)節(jié)技術(shù),滿足不同產(chǎn)品多樣化檢測(cè)需求;(2)兼容步進(jìn)式和連續(xù)式掃描模式,提供具有競爭力的產(chǎn)能指標(biāo);(3)采用業(yè)界領(lǐng)先的高速大束流檢測(cè)方案,采樣速率達(dá)到行業(yè)先進(jìn)水平;(4)浸沒式電子槍,支持更大的束流調(diào)節(jié)范圍。

隨著半導(dǎo)體工藝水平的飛速發(fā)展,電子束在線量測(cè)檢測(cè)越來越重要,設(shè)備的產(chǎn)能必須有質(zhì)的飛躍才能滿足這一需求。更高的成像速率或多電子束并行檢測(cè)技術(shù)就是業(yè)界競相攻克的焦點(diǎn)。東方晶源在高速成像和多電子束技術(shù)均已取得重要突破,實(shí)現(xiàn)了相關(guān)技術(shù)的原理驗(yàn)證。未來,東方晶源將不斷進(jìn)行技術(shù)深耕,將關(guān)鍵核心技術(shù)牢牢掌握在自己手中,以更加卓越的技術(shù)和產(chǎn)品引領(lǐng)電子束量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的發(fā)展,解決客戶痛點(diǎn)問題,為我國集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和進(jìn)步貢獻(xiàn)更多力量。
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