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英飛凌發(fā)布全球最薄硅功率晶圓,引領功率半導體市場新變革

要長高 ? 2024-11-05 13:44 ? 次閱讀
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近日,半導體巨頭英飛凌宣布成功推出全球最薄的硅功率晶圓,標志著其成為首家掌握20微米超薄功率半導體晶圓處理和加工技術的企業(yè)。

英飛凌科技電源與傳感系統(tǒng)事業(yè)部總裁Adam White指出,隨著AI數據中心能源需求的急劇增長,能效已成為行業(yè)發(fā)展的關鍵。這一趨勢為英飛凌帶來了前所未有的發(fā)展機遇,并預計其AI業(yè)務收入將在未來兩年內突破10億歐元大關。

這款超薄晶圓的直徑為30毫米,厚度僅為20微米,相當于頭發(fā)絲的四分之一,比當前最先進的40-60微米晶圓厚度減少了一半。這一突破性的技術不僅展現了英飛凌在半導體領域的創(chuàng)新能力,同時也為行業(yè)帶來了新的挑戰(zhàn),如傳統(tǒng)工藝的兼容性、晶圓翹曲等問題。

然而,超薄晶圓的優(yōu)勢顯而易見。與傳統(tǒng)硅晶圓相比,該技術不僅將晶圓厚度減半,還使得基板電阻降低了50%,功率系統(tǒng)中的功率損耗減少了15%以上。對于高端AI服務器應用而言,這一技術尤為重要,因為它能夠顯著降低電壓,從而滿足功率轉換的更高需求。

目前,英飛凌已將這款超薄晶圓技術應用于其集成智能功率級(直流-直流轉換器)中,并成功交付給首批客戶。英飛凌表示,這項創(chuàng)新將大幅提升功率轉換解決方案的能效、功率密度和可靠性,適用于AI數據中心、消費電子、電機控制和計算應用等多個領域。

此外,英飛凌在半導體材料方面也積極布局,擁有全面的產品和技術組合,包括基于硅(Si)、碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)的器件。英飛凌不僅致力于推動硅材料的發(fā)展,還在積極推進SiC和GaN等新型半導體材料的技術進步。

在全球功率半導體市場格局中,英飛凌憑借其領先的技術和市場份額占據了一席之地。此次超薄晶圓技術的推出,有望進一步鞏固英飛凌在全球市場的領先地位,并推動同行加快技術創(chuàng)新和產品升級的步伐。

隨著科技行業(yè)的快速發(fā)展,市場對低能耗、小尺寸、超薄化芯片的需求不斷增長,超薄晶圓技術正逐漸成為行業(yè)發(fā)展的新趨勢。英飛凌預測,在未來三至四年內,傳統(tǒng)晶圓技術將逐步被超薄晶圓技術所取代,特別是在低壓功率轉換器領域。

對于全球半導體行業(yè)而言,超薄晶圓技術的發(fā)展不僅推動了技術進步和市場格局的變化,還對供應鏈、制造工藝以及市場需求產生了深遠影響。這一技術的廣泛應用將進一步促進低碳化和數字化的進程,為半導體行業(yè)的未來發(fā)展注入新的活力。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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