近日,香港大學(xué)工程學(xué)院電機(jī)及電子工程學(xué)系的褚智勤副教授與機(jī)械工程系林原教授,攜手南方科技大學(xué)深港微電子系的李攜曦助理教授及北京大學(xué)東莞光電研究院的王琦教授,共同研發(fā)出了一項(xiàng)突破性的制造技術(shù)。該技術(shù)能夠大量生產(chǎn)超薄、超柔韌的金剛石(鉆石)膜,這些薄膜與當(dāng)前的半導(dǎo)體制造技術(shù)完全兼容,為制造多種電子、光子、機(jī)械、聲學(xué)和量子器件提供了可能。
研究團(tuán)隊(duì)提出的邊緣暴露剝離法,是一種創(chuàng)新且高效的金剛石薄膜生產(chǎn)方式。與傳統(tǒng)技術(shù)相比,該方法不僅成本更低、耗時(shí)更短,而且不受尺寸限制。據(jù)悉,新技術(shù)能夠在短短10秒內(nèi)生產(chǎn)出一個(gè)兩英寸的金剛石晶圓,這標(biāo)志著金剛石薄膜的規(guī)?;a(chǎn)邁入了一個(gè)全新的階段。
這一突破性技術(shù)的成功研發(fā),不僅為金剛石材料的應(yīng)用開(kāi)辟了更廣闊的空間,也為半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展注入了新的活力。未來(lái),隨著技術(shù)的不斷成熟和完善,超薄、超柔韌的金剛石膜有望在電子、光子、機(jī)械等多個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮重要作用,為人類(lèi)社會(huì)的科技進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展做出更大貢獻(xiàn)。
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