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聚焦離子束(FIB)技術(shù)原理和應用

金鑒實驗室 ? 2025-02-26 15:24 ? 次閱讀
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FIB技術(shù)原理

聚焦離子束(Focused Ion Beam,簡稱 FIB)技術(shù)作為一種前沿的納米級加工與分析手段。它巧妙地融合了離子束技術(shù)與掃描電子顯微鏡(SEM)技術(shù)的優(yōu)勢,憑借其獨特的原理、廣泛的應用場景以及顯著的優(yōu)勢,成為現(xiàn)代科學研究與工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的重要工具。聚焦離子束技術(shù)的核心是液態(tài)金屬離子源。液態(tài)金屬離子源由一個半徑為2~5μm的鎢尖組成,鎢尖被尖端上方加熱融化的液態(tài)金屬儲層浸濕。在尖端和靠近尖端的電極之間施加電場后,表面張力和相反電場力共同作用,在尖端上方形成一個尖錐,即泰勒錐,其尖端半徑約為2 nm。當電壓達到一定閾值時,錐端形成射流,金屬離子在電場作用下電離,并通過場蒸發(fā)過程逸出形成離子流。這些離子流通??梢约铀俚?.5~30 kV的能量,并通過靜電透鏡聚焦到樣品表面。當離子束與樣品相互作用時,會產(chǎn)生級聯(lián)碰撞導致濺射。此時,探測器會收集產(chǎn)生的二次電子和二次離子,用于成像。由于主高能離子的質(zhì)量遠大于高能電子,因此FIB技術(shù)具備在特定位置濺射材料的能力。目前,可用的液態(tài)金屬離子源材料包括Al、As、Cu、Ga、Ge、Pd、Sn和Zn等。其中,金屬鎵(Ga)作為源材料具有諸多優(yōu)點,如熔點略高于室溫、揮發(fā)性低、與尖端材料的反應性低、蒸氣壓低、真空和電氣穩(wěn)定性高,以及發(fā)射期間的能量擴散小等。這些特性使得鎵成為離子束系統(tǒng)的主要源材料。

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FIB技術(shù)的原理可以通過以下幾種示意圖來直觀展示:(a) FIB-SEM雙束系統(tǒng)工作原理示意圖,展示了FIB與掃描電子顯微鏡(SEM)的結(jié)合方式;(b) Ga離子束與樣品的相互作用示意圖,揭示了離子束與樣品相互作用的微觀過程;(c) 采用FIB離子束刻蝕樣品的示意圖,直觀呈現(xiàn)了刻蝕過程;(d) 利用FIB離子束和GIS系統(tǒng)在樣品表面進行誘導沉積的示意圖,展示了沉積過程。

FIB技術(shù)應用

FIB技術(shù)最初主要應用于半導體行業(yè),用于芯片的失效分析和電路修復。

20世紀80年代末,F(xiàn)IB技術(shù)開始被逐漸用于定點顯微切割樣品的目標區(qū)域,專門制備透射電鏡分析所需的超薄片樣品。隨后,F(xiàn)IB技術(shù)被引入地學研究領(lǐng)域,成為制備巖石樣品TEM超薄片試樣必不可少的工具,并開始應用于原子探針針尖樣品的制備。近年來,隨著FIB技術(shù)的不斷發(fā)展,它與高性能的場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)、能量色散譜儀(EDXS)、質(zhì)譜儀(MS)等附件相結(jié)合,實現(xiàn)了切割、成像、化學分析的一體化。此外,F(xiàn)IB技術(shù)與低溫技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)低溫或者特殊環(huán)境條件下的切割、成像和分析。

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1.納米加工

FIB技術(shù)可以用于直接“雕刻”微觀和納米尺度的結(jié)構(gòu),如量子點、納米線和微流體器件。這種能力使得FIB在納米材料的設(shè)計和制造中發(fā)揮著關(guān)鍵作用,為納米技術(shù)的發(fā)展提供了重要的技術(shù)支持。

2.樣品制備

在透射電子顯微鏡(TEM)和掃描電子顯微鏡(SEM)分析中,F(xiàn)IB是制備超薄樣品截面的理想選擇。通過FIB技術(shù),可以精確地切割出所需的樣品區(qū)域,為后續(xù)的微觀結(jié)構(gòu)分析提供高質(zhì)量的樣品。

3.三維重構(gòu)

通過逐層切割和成像,F(xiàn)IB技術(shù)可以構(gòu)建材料和生物樣品的三維結(jié)構(gòu)。這種三維重構(gòu)能力對于理解材料的微觀結(jié)構(gòu)和生物樣品的內(nèi)部組織具有重要意義,為材料科學和生命科學的研究提供了新的視角。

4.集成電路修改和修復

FIB技術(shù)允許對芯片進行局部修改,包括連接路徑的切斷和重建。這使得FIB成為電路設(shè)計驗證和故障分析的重要工具,為半導體行業(yè)的研發(fā)和生產(chǎn)提供了有力的支持。

5.原位實驗

結(jié)合其他分析技術(shù)(如EDS、EBSD),F(xiàn)IB系統(tǒng)可以進行原位實驗,如觀察材料在不同條件下的相變、裂紋擴展等現(xiàn)象。

操作簡單、前處理步驟少:

與傳統(tǒng)的樣品制備和分析技術(shù)相比,F(xiàn)IB技術(shù)的操作過程相對簡單,前處理步驟較少。

定點微納尺度精準切割:

FIB技術(shù)可以實現(xiàn)定點微納尺度的精準切割,尺寸可控,厚度均勻。

切割、成像、化學分析一體化:

FIB技術(shù)不僅可以進行樣品的切割和制備,還可以通過收集二次電子和二次離子實現(xiàn)成像,并結(jié)合其他分析設(shè)備進行化學分析。

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