日前，納米電子與數(shù)字技術(shù)研發(fā)創(chuàng)新中心 IMEC 與美國(guó)楷登電子( Cadence) 公司聯(lián)合宣布，得益于雙方的長(zhǎng)期深入合作，業(yè)界首款 3nm 測(cè)試芯片成功流片。該項(xiàng)目采用極紫外光刻(EUV)技術(shù)，193 浸沒(méi)式(193i)光刻技術(shù)設(shè)計(jì)規(guī)則，以及 Cadence? Innovus? 設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)和 Genus? 綜合解決方案，旨在實(shí)現(xiàn)更為先進(jìn)的 3nm 芯片設(shè)計(jì)。IMEC 為測(cè)試芯片選擇了業(yè)界通用的 64-bit CPU，并采用定制 3nm 標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)及 TRIM 金屬的流程，將繞線的中心間距縮短至 21nm。Cadence 與 IMEC 攜手助力 3nm 制程工藝流程的完整驗(yàn)證，為新一代設(shè)計(jì)創(chuàng)新保駕護(hù)航。

Cadence Innovus 設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)是大規(guī)模的并行物理實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)，幫助工程師交付高質(zhì)量設(shè)計(jì)，在滿足功耗、性能和面積(PPA)目標(biāo)的同時(shí)縮短產(chǎn)品上市時(shí)間。Cadence Genus 綜合解決方案是新一代高容量 RTL 綜合及物理綜合引擎，滿足最新 FinFET 工藝的節(jié)點(diǎn)需求，并將 RTL 設(shè)計(jì)效率提高達(dá) 10 倍。項(xiàng)目期間，EUV 技術(shù)及 193i 光刻規(guī)則皆經(jīng)過(guò)測(cè)試，以滿足所需分辨率;并在兩種不同的圖案化假設(shè)下比較了 PPA 目標(biāo)。

“隨著芯片制程工藝深入到 3nm 節(jié)點(diǎn)，互連參數(shù)顯得愈加關(guān)鍵，“IMEC 半導(dǎo)體技術(shù)與系統(tǒng)事業(yè)部執(zhí)行副總裁 An Steegan 表示?！蔽覀?cè)跍y(cè)試芯片上投入了大量精力，助力互連參數(shù)的可測(cè)量和優(yōu)化，以及 3nm 制程工藝的驗(yàn)證。同時(shí)，Cadence 數(shù)字解決方案也讓 3nm工藝的實(shí)現(xiàn)萬(wàn)事俱備。Cadence 完美集成的工作流讓該解決方案的采納更加簡(jiǎn)單，幫助我們的工程設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)在開(kāi)發(fā) 3nm 規(guī)則集的時(shí)候保持高效?！?/p>

“IMEC 領(lǐng)先的基礎(chǔ)設(shè)施讓生產(chǎn)前創(chuàng)新領(lǐng)先于業(yè)界需求成為可能，是 EDA 行業(yè)的關(guān)鍵合作伙伴，“ Cadence 公司全球副總裁兼數(shù)字與簽核事業(yè)部總經(jīng)理Chin-chi Teng博士表示?！拔覀兣c IMEC 的合作在 2015 年成功流片業(yè)界首款 5nm 芯片的基礎(chǔ)上繼續(xù)深化，此次3nm 測(cè)試芯片的成功流片標(biāo)志著全新的里程碑，繼續(xù)引領(lǐng)未來(lái)先進(jìn)節(jié)點(diǎn)移動(dòng)設(shè)計(jì)領(lǐng)域的變革?！?/p>