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臺積電7nm/5nm工藝進展,將向長壽命節(jié)點轉型

ICExpo ? 來源:未知 ? 作者:胡薇 ? 2018-05-07 09:29 ? 次閱讀
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據臺積電稱,相較于前一代的10nm工藝,7nm工藝有望在性能、功耗、芯片面積上都有顯著的改善,而且很可能會被用于制造業(yè)界最強大的移動處理器

7nm工藝之后,臺積電計劃推出7nm+版本。不僅如此,臺積電還計劃在2020年發(fā)布全新的5nm制造工藝,該技術將又比7nm、7nm+有大幅度提升,從而進一步顯著改善移動處理器。

在電話會議中,臺積電還充分討論了5nm技術。

聯合首席執(zhí)行官魏哲家表示,臺積電在256M的SRAM芯片上看到了“兩位數的良率”,以及將會使用5nm工藝制造“更大的測試芯片”。

這里所說的良率,指的是所生產的芯片能同時滿足性能和功耗指標的百分比。其中的收益率是和技術的健康程度成正比的。

目前臺積電在5nm工藝上的工作仍未全部完成,良率也偏低,與符合智能手機所需要的處理器成本來說,遠遠不能滿足。不過這是一個非常好的里程碑技術,如今也處于正軌之上。

魏哲家在電話中表示,一些臺積電的主要客戶——可能是智能手機處理器大咖級制造商——已經在用該技術設計“功能模塊”了。

雖然這些客戶目前還不能使用該技術來設計完整的產品,但可能正處于流片測試階段,以實現關鍵技術。當這一套設計完成時,設計人員則可以非常容易的使用5nm技術來用到別的產品上。

盡管臺積電開發(fā)過一些壽命較短的技術——如20nm、10nm——但這5nm技術應該不屬于其中。近年來,臺積電將轉型為長壽命節(jié)點技術的公司。

根據魏哲家的說法,5nm工藝將擁有較長的壽命,它也非常具有成本效益,這就意味著,該技術將被更廣泛的使用,不僅僅是那些追求高性能的產品。

因此,在2020年5nm工藝投入大規(guī)模的生產之后,臺積電還會在2021年推出5nm+的進階產品,也就是對性能、功耗、面積上有所增強,

再到2022年,我們就可以期待臺積電的下一次飛躍——3nm。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:臺積電7nm/5nm工藝進展,未來欲往長壽命節(jié)點發(fā)展?

文章出處:【微信號:ic-china,微信公眾號:ICExpo】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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