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DAF膠膜(Die Attach Film)詳解

先進(jìn)封裝 ? 來(lái)源:先進(jìn)封裝 ? 作者:先進(jìn)封裝 ? 2025-08-20 11:31 ? 次閱讀
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DAF膠膜(Die Attach Film)詳解

DAF膠膜,全稱芯片粘接薄膜(Die Attach Film),又稱固晶膜或晶片黏結(jié)薄膜,是半導(dǎo)體封裝中的關(guān)鍵材料,用于實(shí)現(xiàn)芯片(Die)與基板(Substrate)或框架(Lead Frame)之間的高性能、高可靠性連接。這種連接直接決定了器件的機(jī)械強(qiáng)度、導(dǎo)熱性能和長(zhǎng)期可靠性。

在芯片粘接技術(shù)體系中,DAF屬于粘接法中的先進(jìn)形式。粘接法主要使用高分子樹脂(如環(huán)氧樹脂)作為粘接劑,包含流體狀的固晶膠(DAP)或銀漿(Ag epoxy)通過(guò)點(diǎn)膠工藝施加,適用于傳統(tǒng)封裝,以及固態(tài)薄膜狀的DAF。DAF以其更高的工藝精度和一致性,尤其在超薄芯片封裝中展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢(shì)。相比之下,焊接法雖導(dǎo)電導(dǎo)熱性優(yōu)異,但高溫可能帶來(lái)熱應(yīng)力損傷;低溫封接玻璃法則工藝復(fù)雜、成本高,應(yīng)用較少。

DAF的核心優(yōu)勢(shì):

優(yōu)異的粘接強(qiáng)度;

良好的導(dǎo)熱性(尤其含高導(dǎo)熱樹脂層時(shí));

精細(xì)的膨脹系數(shù)控制(CTE Control);

更高的工藝精度與一致性(相比點(diǎn)膠);

簡(jiǎn)化工藝流程(集成背磨減薄與晶粒粘合);

更高的封裝可靠性;

這些特性使其成為存儲(chǔ)芯片(Memory)、先進(jìn)封裝(如Fan-Out, 3D IC)以及小型化/薄型化芯片封裝的理想選擇。

DAF的關(guān)鍵功能主要體現(xiàn)在兩個(gè)方面:首先是切割固定功能。在晶圓切割(Dicing)前,DAF被貼附于晶圓背面。進(jìn)行切割時(shí),DAF與晶圓一同被切割分離,確保切割后的芯片(晶粒)仍牢固粘貼在m膜上,有效防止芯片散亂。其次是芯片粘接功能,切割完成后,將帶有DAF的芯片吸附取下并放置到基板或框架上,通過(guò)加熱加壓使DAF軟化熔融并固化,從而實(shí)現(xiàn)芯片與基板的永久性粘接。

其典型層狀結(jié)構(gòu)通常包含:與芯片背面粘接并提供保護(hù)的第一膠面;作為核心功能層、提供粘接力、導(dǎo)熱性及CTE控制的高導(dǎo)熱樹脂層;提供機(jī)械支撐、填充和保護(hù)線路作用的中間層或支撐層(具體結(jié)構(gòu)因產(chǎn)品而異);以及與基板粘接的第二膠面。需要注意的是,標(biāo)準(zhǔn)DAF通常為絕緣體,部分特殊類型的導(dǎo)電DAF可能在第二膠面包含銅金屬化鍍層以增強(qiáng)導(dǎo)電性。

DAF特別適用于半切割工藝(Dicing Before Grinding, DBG)或隱形切割工藝(Stealth Dicing Before Grinding ,SDBG),是實(shí)現(xiàn)超薄晶粒(厚度<100μm,甚至<50μm)減薄的關(guān)鍵支撐材料。

DAF的制造工藝主要包括:

原材料準(zhǔn)備: 精選高純度樹脂(環(huán)氧為主)、導(dǎo)熱填料、助劑等;

混合涂布: 按配方混合,均勻涂布在基材(如離型膜)上;

干燥固化: 精確控制溫度時(shí)間,去除溶劑/水分,實(shí)現(xiàn)部分固化(B-Stage);

切割/分條: 將大片薄膜切割成符合晶圓尺寸要求的卷材或片材;

整個(gè)制造過(guò)程的關(guān)鍵控制點(diǎn)在于涂布均勻性、干燥溫度曲線、厚度精度、切割尺寸精度以及原材料質(zhì)量;

在關(guān)鍵工藝控制要點(diǎn)上,DAF貼附晶圓(Wafer Lamination)技術(shù)相對(duì)成熟,借鑒了Dicing tape貼附經(jīng)驗(yàn),通常問(wèn)題較少。真正的難點(diǎn)在于芯片貼裝時(shí)的氣泡控制(Die Bond Void Control),尤其在大尺寸芯片貼裝時(shí),容易在DAF與芯片或基板界面產(chǎn)生空洞(Void),嚴(yán)重影響導(dǎo)熱和粘接可靠性。

主要對(duì)策包括:

保壓處理(Pressure Oven): 貼片后,在加熱條件下施加一定壓力并保持適當(dāng)時(shí)間。原理可能是熔融態(tài)DAF在壓力下將氣泡擠出,接著施加高壓使小氣泡溶解/均勻分散于DAF中;

真空脫泡(Vacuum Debubbling): 使用真空設(shè)備(真空烤箱)在特定工藝階段(如貼片前或貼片后固化前)去除材料內(nèi)部和界面氣體。

此外,模壓后正壓處理(Post-Molding Pressure Treatment)也是一種重要手段,即在塑封(Molding)后進(jìn)行加壓處理,使芯片、DAF、基板和塑封料各層材料接觸更緊密,消除可能因模塑收縮產(chǎn)生的微間隙,從而提高界面結(jié)合強(qiáng)度。

根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2024-2028年中國(guó)固晶膜(DAF膜)市場(chǎng)行情監(jiān)測(cè)及未來(lái)發(fā)展前景研究報(bào)告》顯示,全球DAF市場(chǎng)的主要供應(yīng)商包括昭和電工材料(Showa Denko Materials)、韓國(guó)AMC、漢高(Henkel Adhesives)、LG化學(xué)、古河電工(Furukawa)、日東電工(Nitto Denko)、日本富士星(Fujifilm),以及中國(guó)的德邦科技、蘇州凡賽特材料等。當(dāng)前競(jìng)爭(zhēng)格局顯示,日本企業(yè)在DAF膜的技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)制造和商業(yè)化方面整體處于全球領(lǐng)先地位。


審核編輯 黃宇

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