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ANSYS宣布14納米FinFET制程技術(shù)獲聯(lián)電認(rèn)證

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:工程師吳畏 ? 2018-07-17 16:46 ? 次閱讀
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ANSYS宣布其ANSYS RedHawk和ANSYSR Totem獲聯(lián)華電子(UMC)的先進(jìn)14納米FinFET制程技術(shù)認(rèn)證。ANSYS和聯(lián)電透過認(rèn)證和完整套裝半導(dǎo)體設(shè)計(jì)解決方案,支援共同客戶滿足下一代行動(dòng)和高效能運(yùn)算(HPC)應(yīng)用不斷成長的需求。

此次ANSYS取得聯(lián)電的認(rèn)證包括萃取、電源完整性和可靠度、訊號(hào)電子遷移(signal EM)以及自發(fā)熱(self-heat)分析。聯(lián)電的14納米FinFET技術(shù)與 28納米技術(shù)相較快55%,耗電減少50%,適合需要更多功能、超高效能與超低功耗的應(yīng)用。

聯(lián)電智慧財(cái)產(chǎn)開發(fā)與設(shè)計(jì)支援部門總監(jiān)T.H. Lin表示:「聯(lián)電不斷改進(jìn)設(shè)計(jì)以支援產(chǎn)品,幫助客戶縮短設(shè)計(jì)時(shí)間并加速產(chǎn)品上市時(shí)程。我們與ANSYS合作無間,雙方共同客戶能夠運(yùn)用ANSYS的多物理場模擬,將設(shè)計(jì)最佳化,改善效能并減少過度設(shè)計(jì)(overdesign)?!?/p>

ANSYS總經(jīng)理John Lee表示:「深次微16納米以下的多層次實(shí)體效應(yīng)的相互依存性持續(xù)增加,如電源、可靠度和發(fā)熱議題,對設(shè)計(jì)收斂帶來重大挑戰(zhàn)。ANSYS的半導(dǎo)體解決方案架構(gòu)針對多層次實(shí)體最佳化設(shè)計(jì),而聯(lián)電認(rèn)證ANSYS解決方案經(jīng)過嚴(yán)格測試和準(zhǔn)確規(guī)范的確認(rèn),有助于雙方共同客戶加速設(shè)計(jì)收斂。」

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