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解鎖化合物半導(dǎo)體制造新范式:端到端良率管理的核心力量

PDF Solutions ? 2025-10-14 09:19 ? 次閱讀
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半導(dǎo)體行業(yè)正經(jīng)歷一場(chǎng)深刻的范式轉(zhuǎn)變。


盡管硅材料在數(shù)十年間始終占據(jù)主導(dǎo)地位,但化合物半導(dǎo)體 (由元素周期表中兩種及以上元素構(gòu)成的材料)正迅速崛起,成為下一代技術(shù)的核心基石。從電動(dòng)汽車到 5G 基礎(chǔ)設(shè)施,這些先進(jìn)材料正在催生傳統(tǒng)硅基技術(shù)無法實(shí)現(xiàn)的創(chuàng)新突破。


然而,化合物半導(dǎo)體制造面臨獨(dú)特挑戰(zhàn),亟需高精尖解決方案支撐。本文將深入剖析:先進(jìn)數(shù)據(jù)分析與端到端良率管理如何重塑化合物半導(dǎo)體制造流程,使其達(dá)到前所未有的高效、經(jīng)濟(jì)與可靠水平。


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化合物半導(dǎo)體的變革浪潮


化合物半導(dǎo)體市場(chǎng)正經(jīng)歷爆發(fā)式增長(zhǎng),尤其是在SiC、GaAs、InP和GaN等高產(chǎn)能技術(shù)領(lǐng)域表現(xiàn)突出。盡管這類材料的市場(chǎng)規(guī)模仍小于硅基 CMOS,但同比增長(zhǎng)率已顯著超越傳統(tǒng)半導(dǎo)體技術(shù)。


驅(qū)動(dòng)這一增長(zhǎng)的核心優(yōu)勢(shì)在于:化合物半導(dǎo)體在高功率、高頻、高溫應(yīng)用場(chǎng)景中表現(xiàn)出卓越性能。它們是電動(dòng)汽車電力電子器件、無線通信系統(tǒng)、固態(tài)照明及光子互連技術(shù)的關(guān)鍵支撐。然而其制造工藝的成熟度與優(yōu)化水平,仍落后硅基 CMOS 技術(shù)數(shù)十年。


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化合物半導(dǎo)體制造中的大數(shù)據(jù)挑戰(zhàn)


現(xiàn)代半導(dǎo)體制造會(huì)產(chǎn)生海量數(shù)據(jù) —— 單枚晶圓在全生產(chǎn)流程中通常會(huì)產(chǎn)生數(shù)太字節(jié)數(shù)據(jù)。這一挑戰(zhàn)在汽車應(yīng)用領(lǐng)域更為突出:該領(lǐng)域?qū)?shù)據(jù)留存要求嚴(yán)苛,需在存儲(chǔ)成本與海量數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)的分析程序性能之間找到精準(zhǔn)平衡點(diǎn)。


制造周期涉及多種存儲(chǔ)在不同系統(tǒng)中的數(shù)據(jù)類型,核心包括晶圓制造數(shù)據(jù):制造執(zhí)行系統(tǒng)(MES)數(shù)據(jù)、設(shè)備數(shù)據(jù)與車間事件記錄、設(shè)備日志與機(jī)臺(tái)傳感器軌跡、追蹤晶圓 - 批次關(guān)聯(lián)(含返工)的批次溯源信息,以及整合計(jì)量與檢測(cè)的在線數(shù)據(jù)。此外還涵蓋測(cè)試數(shù)據(jù),如過程控制監(jiān)控(PCM)電測(cè)、晶圓驗(yàn)收測(cè)試(WAT)數(shù)據(jù);芯片級(jí)測(cè)試生成的晶圓分選數(shù)據(jù)(含單芯片分箱狀態(tài)及多維度參數(shù)數(shù)據(jù))。隨著多晶圓廠技術(shù)共封裝趨勢(shì)加劇,封裝級(jí)與模組級(jí)數(shù)據(jù)的復(fù)雜性也在持續(xù)攀升。


應(yīng)對(duì)這種數(shù)據(jù)復(fù)雜性,需依托高精尖大數(shù)據(jù)分析平臺(tái) —— 通過數(shù)據(jù)歸檔、聚合與預(yù)處理,為全制造流程的有效分析奠定基礎(chǔ)。


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化合物半導(dǎo)體的獨(dú)特性


化合物半導(dǎo)體制造的成本結(jié)構(gòu)與硅基 CMOS 存在本質(zhì)差異。以碳化硅制造為例,制造初期采購昂貴裸襯底或外延晶圓的投入,就占據(jù)了總成本的很大比例。這種成本特性決定了:早期數(shù)據(jù)分析與缺陷管理對(duì)盈利能力至關(guān)重要;而打通從各制造環(huán)節(jié)到最終測(cè)試的全流程數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián),更是挖掘良率提升潛力的關(guān)鍵。

硅基 CMOS 制造中,低成本襯底允許企業(yè)將分析重點(diǎn)放在后期環(huán)節(jié);但化合物半導(dǎo)體制造商必須從制造初期就啟動(dòng)高精尖監(jiān)控與分析。這一需求推動(dòng)了化合物半導(dǎo)體專屬范例與定制化分析方案的發(fā)展。


下文將介紹幾個(gè)范例,以凸顯化合物半導(dǎo)體分析的必要性:


范例1:缺陷疊加與重分箱助力根源分析


傳統(tǒng)單枚晶圓缺陷分析往往難以產(chǎn)出可落地的有效信息。若按批次或產(chǎn)品屬性對(duì)缺陷數(shù)據(jù)進(jìn)行疊加與篩選,將呈現(xiàn)出清晰的特征模式—— 這些模式可精準(zhǔn)歸因于晶體缺陷或外延生長(zhǎng)工藝問題。這一方法能幫助制造商更快鎖定問題根源、通過預(yù)測(cè)模型預(yù)判下游風(fēng)險(xiǎn),并在缺陷影響良率前落實(shí)糾正措施。


范例 2:襯底供應(yīng)商質(zhì)量管控


該場(chǎng)景下,通過獲取外延前后的缺陷數(shù)據(jù),按襯底供應(yīng)商與外延供應(yīng)商分類聚合,可生成晶體級(jí)三維圖譜。結(jié)合多屬性多變量篩選,制造商能推動(dòng)供應(yīng)商提升質(zhì)量、識(shí)別晶體生長(zhǎng)階段的缺陷、生成可傳遞至組裝環(huán)節(jié)的質(zhì)量標(biāo)記圖譜,并篩選缺陷芯片以避免現(xiàn)場(chǎng)失效。


范例 3:邊緣工藝參數(shù)與計(jì)量結(jié)果的關(guān)聯(lián)


多數(shù)制造工廠會(huì)從數(shù)十至數(shù)百個(gè)機(jī)臺(tái)傳感器采集大量設(shè)備軌跡數(shù)據(jù),但極少將其與下游計(jì)量結(jié)果關(guān)聯(lián)。先進(jìn)分析平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)設(shè)備數(shù)據(jù)與 MES 數(shù)據(jù)的對(duì)齊,精準(zhǔn)追蹤晶圓、工藝配方運(yùn)行與腔室的關(guān)聯(lián)關(guān)系:既可為維護(hù)后腔室驗(yàn)證提供支撐,也能定位工藝偏差根源,并對(duì)計(jì)量異常進(jìn)行深度根源分析。


范例 4:基于分析優(yōu)化在線檢測(cè)


傳統(tǒng)在線檢測(cè)多通過芯片級(jí)匯總判斷缺陷對(duì)最終良率的影響,但化合物半導(dǎo)體制造存在特殊難題 —— 如不同供應(yīng)商設(shè)備上的無圖形/有圖形缺陷掃描,需實(shí)現(xiàn)缺陷圖譜對(duì)齊。因此,在多次晶圓測(cè)試插入及老化、封裝、最終測(cè)試的虛擬操作中,需將缺陷掃描結(jié)果與多組分箱圖譜匹配。


當(dāng)前先進(jìn)數(shù)據(jù)平臺(tái)已實(shí)現(xiàn)雙重支撐:既保留傳統(tǒng)失效比例分析,也支持基于在線數(shù)據(jù)與襯底數(shù)據(jù)、結(jié)合電參數(shù)訓(xùn)練的機(jī)器學(xué)習(xí)模型,可顯著提升良率預(yù)測(cè)精度與工藝優(yōu)化效率。


范例 5:汽車應(yīng)用的芯片篩選與標(biāo)記圖譜


汽車應(yīng)用對(duì)質(zhì)量要求極高,需整合多環(huán)節(jié)數(shù)據(jù)構(gòu)建高精尖篩選方案:包括材料供應(yīng)商提供的外延缺陷數(shù)據(jù)、晶圓前端缺陷圖譜、晶圓電分選分箱圖譜及老化測(cè)試參數(shù)圖譜。通過在多維度數(shù)據(jù)空間中分析芯片,制造商可實(shí)施異常值篩選,嚴(yán)防缺陷部件流入汽車客戶端。


此外,封裝與測(cè)試環(huán)節(jié)對(duì) “預(yù)測(cè)性老化測(cè)試” 的需求日益增長(zhǎng)—— 這是在不犧牲質(zhì)量的前提下提升運(yùn)營(yíng)效率的關(guān)鍵路徑。實(shí)踐證明,利用PCM數(shù)據(jù)與晶圓探針測(cè)試結(jié)果,對(duì)預(yù)測(cè)老化測(cè)試結(jié)果具有良好效果,可有效優(yōu)化測(cè)試流程、降低制造成本。


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先進(jìn)良率管理的技術(shù)支撐


實(shí)施上述高精尖分析,需依托包含多層級(jí)的綜合大數(shù)據(jù)平臺(tái),各層級(jí)功能如下:


連接層:提供可對(duì)接各類工廠系統(tǒng)與數(shù)據(jù)庫的標(biāo)準(zhǔn)API連接器,確保全制造流程數(shù)據(jù)采集無縫銜接。

數(shù)據(jù)層與控制層:內(nèi)置經(jīng)行業(yè)驗(yàn)證的半導(dǎo)體制造專屬數(shù)據(jù)模型,可整合多類型數(shù)據(jù),為全面分析提供基礎(chǔ)。

應(yīng)用層:集成最新AI/ML框架的分析應(yīng)用,支持先進(jìn)預(yù)測(cè)建模與實(shí)時(shí)決策。

可視化層:提供全套圖譜與圖表工具,簡(jiǎn)化數(shù)據(jù)探索流程 —— 畢竟 “眼見為實(shí)”,直觀呈現(xiàn)是數(shù)據(jù)價(jià)值傳遞的關(guān)鍵。

全流程可追溯性:實(shí)現(xiàn)制造全環(huán)節(jié)中,任意物理/邏輯實(shí)體的雙向(正向/反向)追溯。鑒于半導(dǎo)體制造的復(fù)雜性(如模組常包含多晶圓廠產(chǎn)品,且涉及返工、批次重組等操作),這一能力不可或缺。


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以先進(jìn)分析加速行業(yè)成熟


盡管化合物半導(dǎo)體行業(yè)落后硅基CMOS數(shù)十年,但這一差距也孕育著獨(dú)特機(jī)遇:通過復(fù)用硅基制造中已驗(yàn)證的先進(jìn)數(shù)據(jù)分析技術(shù),化合物半導(dǎo)體制造商可大幅縮短發(fā)展周期。


高市場(chǎng)增長(zhǎng)率與相對(duì)不成熟的制造工藝形成 “黃金結(jié)合點(diǎn)”,為高精尖分析方案的落地創(chuàng)造了理想環(huán)境。事實(shí)證明,數(shù)年前率先采用這些技術(shù)的企業(yè),在當(dāng)前化合物半導(dǎo)體市場(chǎng)快速擴(kuò)張期已獲得顯著競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。


如今,主流化合物半導(dǎo)體制造商,包括IDM、Fabless及OSAT —— 已啟動(dòng)先進(jìn)分析方案部署。在普迪飛合作客戶中,有10余家大型IDM企業(yè)在開展碳化硅、砷化鎵、氮化鎵等化合物半導(dǎo)體技術(shù)加工,這一現(xiàn)象充分說明:行業(yè)對(duì)高精尖良率管理方案的采納度已顯著提升。


這些部署推動(dòng)了范例的持續(xù)拓展與系統(tǒng)易用性的優(yōu)化,形成惠及全化合物半導(dǎo)體生態(tài)的正向循環(huán)。


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未來發(fā)展路徑


化合物半導(dǎo)體行業(yè)正處于關(guān)鍵轉(zhuǎn)折點(diǎn):市場(chǎng)需求驅(qū)動(dòng)前所未有的增長(zhǎng),而制造挑戰(zhàn)則對(duì)解決方案提出更高要求。以先進(jìn)數(shù)據(jù)分析為核心的端到端良率管理,已成為實(shí)現(xiàn)卓越制造的清晰路徑。


通過部署可應(yīng)對(duì)化合物半導(dǎo)體制造獨(dú)特挑戰(zhàn)(從昂貴初期襯底到復(fù)雜汽車質(zhì)量要求)的綜合分析平臺(tái),制造商可實(shí)現(xiàn)四大核心目標(biāo):


全面提升各制造環(huán)節(jié)的良率水平;

強(qiáng)化質(zhì)量與可靠性,滿足嚴(yán)苛應(yīng)用需求;

通過早期問題發(fā)現(xiàn)與根源分析提升效率;

構(gòu)建預(yù)測(cè)能力,實(shí)現(xiàn)質(zhì)量風(fēng)險(xiǎn)的事前防控;


化合物半導(dǎo)體制造的未來,屬于那些能高效挖掘制造數(shù)據(jù)價(jià)值的企業(yè)。隨著行業(yè)持續(xù)成熟與增長(zhǎng),當(dāng)下投入先進(jìn)良率管理能力的企業(yè),將在未來競(jìng)爭(zhēng)中占據(jù)制高點(diǎn)。


值得強(qiáng)調(diào)的是,化合物半導(dǎo)體制造的變革不僅關(guān)乎新材料與新工藝 —— 更核心的是:通過智能應(yīng)用數(shù)據(jù)分析,重塑我們對(duì)生產(chǎn)全環(huán)節(jié)的理解、控制與優(yōu)化方式。唯有擁抱這場(chǎng)變革的企業(yè),方能定義半導(dǎo)體行業(yè)的未來。


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普迪飛產(chǎn)品管理總監(jiān),負(fù)責(zé)為Fabs和IDMs提供制造數(shù)據(jù)分析解決方案。曾就職于 KLA ,期間主導(dǎo)了成像系統(tǒng)、圖像傳感器及先進(jìn)封裝領(lǐng)域的先進(jìn)技術(shù)研發(fā)工作。


本文作者:Steve Zamek


本文發(fā)布于《半導(dǎo)體摘要》欄目

發(fā)布時(shí)間:2025年9月18日

技術(shù)報(bào)告 · 點(diǎn)擊下載 | 化合物半導(dǎo)體制造的端到端良率管理


關(guān)于

普迪飛

普迪飛半導(dǎo)體技術(shù)(上海)有限公司(PDF Solutions, Inc.,納斯達(dá)克股票代碼:PDFS)成立于1991年,是全球半導(dǎo)體與電子行業(yè)領(lǐng)先的數(shù)據(jù)、分析與關(guān)鍵任務(wù)分析平臺(tái)供應(yīng)商。依托全球化布局,構(gòu)建了廣泛的服務(wù)網(wǎng)絡(luò),擁有超過800名專業(yè)人員,為全球370余家 IDM、Foundry、Fabless及OSAT客戶提供技術(shù)服務(wù)。普迪飛以創(chuàng)新技術(shù)為核心戰(zhàn)略,與行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)緊密合作,業(yè)務(wù)覆蓋從工藝參數(shù)分析、晶圓測(cè)試到制造數(shù)據(jù)解析等關(guān)鍵環(huán)節(jié),助力客戶在產(chǎn)品良率、質(zhì)量與運(yùn)營(yíng)效率上實(shí)現(xiàn)持續(xù)提升。


公司以AI驅(qū)動(dòng)的通用數(shù)據(jù)基礎(chǔ)設(shè)施為底座,構(gòu)建三大半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)全生命周期解決方案:表征與差異化數(shù)據(jù)(pdFasTest、eProbe)精準(zhǔn)采集芯片數(shù)據(jù),智能制造與分析(Exensio、Cimetrix)優(yōu)化產(chǎn)線效率,供應(yīng)鏈協(xié)同聯(lián)動(dòng)(Sapience、SecureWISE)打破數(shù)據(jù)壁壘。七大核心產(chǎn)品更形成【設(shè)備接入 - 檢測(cè)分析 - 流程協(xié)同 - 驗(yàn)證交付】閉環(huán),覆蓋制造數(shù)據(jù)采集與智能決策。


作為半導(dǎo)體數(shù)字化轉(zhuǎn)型領(lǐng)軍者,普迪飛憑數(shù)據(jù)整合與 AI 技術(shù),助力客戶突破良率瓶頸、打破數(shù)據(jù)孤島,提升產(chǎn)品質(zhì)量、運(yùn)營(yíng)效率及關(guān)鍵績(jī)效指標(biāo)(KPI)。

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    回歸本質(zhì):從良<b class='flag-5'>率</b>優(yōu)化<b class='flag-5'>到</b>預(yù)測(cè)分析,Agentic AI重塑<b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>數(shù)據(jù)分析之路

    蘇州芯矽科技:半導(dǎo)體清洗機(jī)的堅(jiān)實(shí)力量

    的提升筑牢根基。 兼容性更是其一大亮點(diǎn)。無論芯片尺寸、材質(zhì)如何多樣,傳統(tǒng)硅基還是新興化合物半導(dǎo)體,都能在這臺(tái)清洗機(jī)下重?zé)ü鉂?。還能按需定制改造,完美融入各類生產(chǎn)線,助力企業(yè)高效生產(chǎn)。 秉持綠色環(huán)保理念
    發(fā)表于 06-05 15:31

    半導(dǎo)體制造低?RFID技術(shù)如何破解晶圓追溯難題?

    。結(jié)合AI的預(yù)測(cè)性維護(hù)和自適應(yīng)工藝優(yōu)化,智能制造邁向更高效率。RFID技術(shù)已成為晶圓廠核心基礎(chǔ)設(shè)施,助力精準(zhǔn)追溯與透明化管理。您的工廠是否面臨生產(chǎn)追溯難題?歡迎交流行業(yè)見解,或獲取半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 05-30 10:13 ?441次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b><b class='flag-5'>良</b><b class='flag-5'>率</b>低?RFID技術(shù)如何破解晶圓追溯難題?

    化合物半導(dǎo)體器件的定義和制造工藝

    化合物半導(dǎo)體器件以Ⅲ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族元素通過共價(jià)鍵形成的材料為基礎(chǔ),展現(xiàn)出獨(dú)特的電學(xué)與光學(xué)特性。以砷化鎵(GaAs)為例,其電子遷移高達(dá)8500cm2/V·s,本征電阻達(dá)10?Ω·
    的頭像 發(fā)表于 05-28 14:37 ?1411次閱讀
    <b class='flag-5'>化合物</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>器件的定義和<b class='flag-5'>制造</b>工藝

    晶圓隱裂檢測(cè)提高半導(dǎo)體行業(yè)效率

    半導(dǎo)體行業(yè)是現(xiàn)代制造業(yè)的核心基石,被譽(yù)為“工業(yè)的糧食”,而晶圓是半導(dǎo)體制造核心基板,其質(zhì)量直接決定芯片的性能、
    的頭像 發(fā)表于 05-23 16:03 ?446次閱讀
    晶圓隱裂檢測(cè)提高<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>行業(yè)效率

    華工激光和華工正源亮相2025九峰山論壇暨化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)

    近日,第三屆九峰山論壇暨化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)(以下簡(jiǎn)稱“九峰山論壇”)正式開幕。華工科技核心子公司華工激光攜全新升級(jí)的化合物半導(dǎo)體“激光+
    的頭像 發(fā)表于 04-29 14:15 ?657次閱讀

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝后端封測(cè)

    資料介紹 此文檔是最詳盡最完整介紹半導(dǎo)體前端工藝和后端制程的書籍,作者是美國人Michael Quirk??赐晗嘈拍銓?duì)整個(gè)芯片制造流程會(huì)非常清晰地了解。從硅片制造,晶圓廠芯片工藝的四
    發(fā)表于 04-15 13:52

    全球化合物半導(dǎo)體市場(chǎng)預(yù)計(jì)2030年將達(dá)250億美元!

    根據(jù)YoleGroup最近公布的市場(chǎng)預(yù)測(cè),全球化合物半導(dǎo)體市場(chǎng)2030年的市場(chǎng)規(guī)模有望達(dá)到約250億美元。這一預(yù)測(cè)顯示了化合物半導(dǎo)體行業(yè)在
    的頭像 發(fā)表于 03-04 11:42 ?857次閱讀
    全球<b class='flag-5'>化合物</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>市場(chǎng)預(yù)計(jì)<b class='flag-5'>到</b>2030年將達(dá)250億美元!

    LED芯片巨頭兆馳,全面進(jìn)軍化合物半導(dǎo)體!

    ▍全球最大數(shù)字智能化LED芯片廠加碼化合物半導(dǎo)體 來源:LEDinside等網(wǎng)絡(luò)資料 近日,兆馳集團(tuán)二十周年盛典暨全球戰(zhàn)略合作伙伴生態(tài)峰會(huì)在江西隆重召開,在盛典上,兆馳集團(tuán)明確了未來1020年
    的頭像 發(fā)表于 01-23 11:49 ?1240次閱讀
    LED芯片巨頭兆馳,全面進(jìn)軍<b class='flag-5'>化合物</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>!

    半導(dǎo)體快速溫變測(cè)試的溫度循環(huán)控制標(biāo)準(zhǔn)

    、無機(jī)化合物半導(dǎo)體、有機(jī)化合物半導(dǎo)體,以及特殊的非晶態(tài)與液態(tài)半導(dǎo)體。這些材料以結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、電學(xué)特性優(yōu)異和成本低廉著稱,是
    的頭像 發(fā)表于 11-27 12:11 ?1055次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>快速溫變測(cè)試的溫度循環(huán)控制標(biāo)準(zhǔn)