隨著科技的進步，多種顯微成像技術(shù)應運而生，其中共聚焦顯微鏡和光片顯微鏡因其優(yōu)異的光學切片能力備受關(guān)注，這兩類設備分別依托共聚焦成像與光片成像技術(shù)實現(xiàn)切片功能，且在成像原理、適用場景及實際應用效果上存在顯著差異。下文，光子灣科技將深入對比這兩種成像技術(shù)的核心特點，為科研人員根據(jù)研究目標選擇適配工具提供參考。

光學切片的作用

普通光學顯微鏡會同時照亮樣本所有深度，探測器接收焦平面與非焦平面光線，導致“信息混雜”；即便優(yōu)化參數(shù)增加景深，也會犧牲分辨率或 z 軸信息。光學切片的核心是空間濾波：通過特定光學設計僅保留焦平面信號，獲取單一深度“切片圖像”，連續(xù)采集后拼接成三維圖像。

共聚焦成像的技術(shù)特性

共聚焦顯微鏡中光學切片的示意圖

共聚焦成像的核心是單點照明+ 針孔濾波，因“照明與檢測焦點重合” 得名，共聚焦顯微鏡正是這一技術(shù)的載體。

其光路設計具有對稱性：激發(fā)光經(jīng)高數(shù)值孔徑（NA）物鏡聚焦為衍射極限單點光斑（直徑d≈λ/NA，λ 為激發(fā)光波長），樣本熒光信號沿原光路返回，需通過 “針孔光圈” 才能被探測器接收，針孔可濾除非焦平面雜散光，充當z 軸空間濾波器。圖像生成需通過掃描系統(tǒng)控制光斑在 x-y 平面逐點、逐行移動，同步將光強轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號，拼接成光學切片。

性能上，共聚焦線頻率高，但為保證信噪比，常規(guī)幀率≤10 幀 / 秒；且適配高 NA 物鏡，橫向分辨率達數(shù)百納米，焦平面圖像均勻性優(yōu)異。此外，共聚焦基于標準同軸光學顯微鏡，可切換明場、相差等常規(guī)模式，還是多光子激發(fā)、STED 超分辨率等技術(shù)的基礎平臺。

光片成像的技術(shù)特性

光片顯微鏡中光片成像的示意圖

光片成像是光片顯微鏡的核心成像技術(shù)，其核心原理是正交光片照明+ 相機并行檢測，用筒鏡生成光片實現(xiàn)熒光成像，通過掃描垂直于觀察軸的細激光束，進一步提升靈活性。原理上，光片成像沿垂直于觀察軸方向照射樣本，形成微米級薄光片，僅照亮焦平面；探測器（如CCD 相機）與照明方向正交，并行采集整個焦平面信號，無需逐點掃描，大幅提升成像速度。

其核心優(yōu)勢在于低光毒與高速度：僅焦平面被照明，非焦平面區(qū)域幾乎無激發(fā)光；幀率僅受相機限制，適配動態(tài)過程成像。同時，z 軸照明均勻，無熒光強度衰減問題。但局限則是發(fā)射光需穿過樣本，樣本混濁時會降低圖像對比度，橫向分辨率低于共聚焦顯微鏡。

共聚焦成像與光片成像技術(shù)差異

照明方式：共聚焦沿z 軸垂直照明，光片垂直于z 軸水平照明；

檢測方式：共聚焦逐點串行接收，光片相機并行接收；

適用場景：共聚焦適固定樣本的高分辨率成像，光片適配活細胞動態(tài)成像。

共聚焦成像與光片成像的本質(zhì)差異，在于“實現(xiàn)焦平面選擇性照明與檢測” 的方式。共聚焦成像以“高分辨率” 為優(yōu)勢，憑借對微觀精細結(jié)構(gòu)的三維成像分析能力，成為基礎科研中的通用工具；光片成像則以“低光毒、高速度” 為核心，可用于活細胞動態(tài)成像。明確二者的技術(shù)邊界與應用價值，能幫助科研人員更高效地匹配研究場景，讓光學切片技術(shù)更利于研究目標的實現(xiàn)。

光子灣3D共聚焦顯微鏡

光子灣3D共聚焦顯微鏡是一款用于對各種精密器件及材料表面，可應對多樣化測量場景，能夠快速高效完成亞微米級形貌和表面粗糙度的精準測量任務，提供值得信賴的高質(zhì)量數(shù)據(jù)。

超寬視野范圍，高精細彩色圖像觀察

提供粗糙度、幾何輪廓、結(jié)構(gòu)、頻率、功能等五大分析技術(shù)

采用針孔共聚焦光學系統(tǒng)，高穩(wěn)定性結(jié)構(gòu)設計

提供調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能

光子灣共聚焦顯微鏡以原位觀察與三維成像能力，為精密測量提供表征技術(shù)支撐，助力從表面粗糙度與性能分析的精準把控，成為推動多領域技術(shù)升級的重要光學測量工具。

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