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Chiplet與異構(gòu)集成的先進基板技術(shù)

深圳市賽姆烯金科技有限公司 ? 來源:逍遙設(shè)計自動化 ? 2025-11-04 11:29 ? 次閱讀
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以下文章來源于逍遙設(shè)計自動化,作者逍遙科技

01現(xiàn)代半導體封裝演進基礎(chǔ)

半導體產(chǎn)業(yè)正處在傳統(tǒng)封裝邊界逐步消解的轉(zhuǎn)型節(jié)點,新的集成范式正在涌現(xiàn)。理解從分立元件到復雜異構(gòu)集成的發(fā)展過程,需要審視半導體、封裝和載板基板之間的基本關(guān)系在過去十五年中的變化。

傳統(tǒng)上,半導體產(chǎn)業(yè)在明確界定的邊界內(nèi)運作,每個組件都承擔不同的功能。半導體芯片包含電子線路,執(zhí)行輸入/輸出操作、邏輯處理、存儲或傳感器操作等特定功能。封裝層,包括外殼和連接器,圍繞并保護芯片,同時提供電氣連接和散熱功能。載板基板或印刷線路板為元件安裝提供物理結(jié)構(gòu),并在元件之間建立電氣通路。

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圖1:十五年前半導體、封裝和載板層之間的傳統(tǒng)功能分離,顯示各層的明確邊界和不同職責

然而,隨著產(chǎn)業(yè)不斷推進先進封裝技術(shù)的極限,這種清晰的界限已經(jīng)變得越來越模糊。如今,這些傳統(tǒng)邊界出現(xiàn)顯著重疊,封裝技術(shù)融合了晶圓凸點、晶圓級封裝、面板級封裝、扇出晶圓/面板級封裝、芯片-晶圓-基板集成、Chiplet以及包括2.3D、3D、3.3D和3.5D配置在內(nèi)的各種異構(gòu)集成形式。

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圖2:現(xiàn)代先進封裝如何在傳統(tǒng)獨立域之間創(chuàng)造顯著重疊,展示W(wǎng)LP、PLP、FOWLP、FOPLP、CoWoS、CoPoS和Chiplet等技術(shù)跨越多個傳統(tǒng)邊界

02Chiplet概念及其影響

Chiplet概念代表著自集成電路發(fā)明以來半導體設(shè)計方法學的重大范式轉(zhuǎn)變。值得注意的是,Chiplet的基本思想早在近六十年前就由戈登·摩爾提出,他觀察到,由較小的、分別封裝并互連的功能模塊構(gòu)建大型系統(tǒng)可能更加經(jīng)濟。這一深刻洞察,結(jié)合他關(guān)于元件復雜度每兩年翻倍的著名觀察,為我們現(xiàn)在所認知的摩爾定律和Chiplet革新奠定了基礎(chǔ)。

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圖3:戈登·摩爾在1965年關(guān)于從更小的、分別封裝的功能模塊構(gòu)建系統(tǒng)的原始見解,證明Chiplet概念比其現(xiàn)代實現(xiàn)早了近六十年

區(qū)分Chiplet和異構(gòu)集成對理解現(xiàn)代半導體架構(gòu)是關(guān)鍵的。Chiplet代表一種芯片設(shè)計方法學,涉及將大型單片系統(tǒng)級芯片設(shè)計劃分為更小、更易管理的組件。每個Chiplet都可以針對其特定功能進行優(yōu)化,使用最適合的工藝技術(shù)制造,并可能來自不同的代工廠。這種方法解決了半導體產(chǎn)業(yè)面臨的幾個關(guān)鍵挑戰(zhàn),特別是隨著特征尺寸繼續(xù)縮小和制造成本指數(shù)級上升。

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圖4:隨著半導體工藝節(jié)點的發(fā)展,設(shè)計成本的急劇增加,顯示成本從65nm的2850萬美元上升到5nm的超過5.4億美元,使Chiplet方法從經(jīng)濟角度越來越有吸引力

Chiplet采用的經(jīng)濟驅(qū)動因素在檢查不同芯片尺寸的良率特征時變得明顯。較大的單片芯片制造良率較低,因為整個芯片區(qū)域內(nèi)的任何缺陷都會使整個器件無法使用。通過將功能劃分為更小的Chiplet,制造商可以為每個單獨元件實現(xiàn)更高的良率,從而獲得更好的整體成本效率。

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圖5:隨著芯片面積增加,單片設(shè)計的良率急劇下降,而基于Chiplet的方法通過使用更小的單獨元件保持更高的良率

03集成方法的演進

半導體封裝產(chǎn)業(yè)已經(jīng)發(fā)展出復雜的分類法來描述不同層次的集成復雜度。這些范圍從傳統(tǒng)的2D集成方法到日益復雜的3D配置,每種都提供不同的優(yōu)勢并解決特定的應(yīng)用需求。

2D集成代表構(gòu)建更復雜方法的基礎(chǔ)。這涉及將多個芯片并排放置在共同基板上,允許增加功能性,同時保持相對簡單的制造工藝。先進例子包括AMD的EPYC處理器,展示了復雜的2D Chiplet集成,通過將輸入/輸出功能與計算核心復合管芯分離。

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圖6:AMD的2D Chiplet集成方法,其中I/O和核心復合管芯被分離并使用不同的工藝技術(shù)制造(I/O使用14nm,計算核心使用7nm),然后在共同基板上集成

向2.5D集成的進展引入了硅通孔技術(shù)和Interposer,允許Chiplet之間更密集的互連,同時保持并排放置的基本概念。這種方法對于人工智能工作負載驅(qū)動的高性能計算應(yīng)用特別有價值,其中處理器和內(nèi)存之間的帶寬要求超過了傳統(tǒng)封裝方法能夠提供的能力。

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圖7:2.5D集成的關(guān)鍵組件,包括TSV-Interposer、微凸點、C4凸點,以及邏輯和內(nèi)存元件在共同Interposer基板上的排列

3D集成代表空間高效封裝的終極表達,其中Chiplet垂直堆疊以創(chuàng)建真正的三維系統(tǒng)。英特爾的Foveros技術(shù)和Lakefield處理器體現(xiàn)了這種方法,展示計算Chiplet如何堆疊在有源Interposer上以創(chuàng)建緊湊的高性能系統(tǒng)。

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圖8:英特爾使用Foveros技術(shù)的3D IC集成方法,其中10nm計算Chiplet使用面對面微凸點和硅通孔堆疊在22FFL基礎(chǔ)管芯上

04先進基板技術(shù)

支持這些復雜集成方法的基板技術(shù)代表電子產(chǎn)業(yè)中最先進的制造工藝。這些基板必須不僅提供機械支撐和電氣連接,還要提供熱管理、信號完整性,以及跨多個電壓域和頻率范圍的功率傳輸。

構(gòu)建封裝基板形成許多先進封裝應(yīng)用的基礎(chǔ)。這些多層有機基板使用先進材料和制造工藝來實現(xiàn)細間距互連,同時保持可靠運行所需的機械和熱性能。從簡單印刷線路板到具有多個再分布層的復雜構(gòu)建基板的演進代表了數(shù)十年的材料科學和制造工藝發(fā)展。

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圖9:顯示構(gòu)建封裝基板的結(jié)構(gòu),說明實現(xiàn)高密度封裝的多個層、微通孔和通孔互連

扇出封裝技術(shù)代表基板技術(shù)的另一個關(guān)鍵進展。這些方法使用再分布層將芯片的輸入/輸出能力擴展到其物理邊界之外,實現(xiàn)更高的引腳數(shù)和更好的熱性能。從晶圓級到面板級扇出封裝的進展提高了面積效率并降低了成本,同時保持扇出方法的技術(shù)優(yōu)勢。

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圖10:扇出晶圓級封裝集成多個不同尺寸的芯片,通過再分布層連接并封裝在環(huán)氧模塑化合物中

玻璃芯基板代表下一代封裝應(yīng)用最有前景的新興技術(shù)之一。與有機基板相比,這些基板提供卓越的平整度、尺寸穩(wěn)定性和熱性能,實現(xiàn)更精細間距的互連和更大的封裝尺寸。通玻璃孔技術(shù)和兼容處理方法的發(fā)展使玻璃基板對高性能應(yīng)用越來越可行。

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圖11:比較玻璃芯和有機芯構(gòu)建基板,顯示玻璃芯如何實現(xiàn)不同的集成方法,包括2.5D TSV-Interposer和直接芯片貼裝

05混合鍵合和先進互連技術(shù)

向更精細間距互連的演進推動了混合鍵合技術(shù)的發(fā)展,消除了對焊料凸點的需求,轉(zhuǎn)而采用直接金屬對金屬連接。銅對銅混合鍵合代表高密度互連技術(shù)的當前最高水平,實現(xiàn)以微米為單位測量的連接間距,而不是傳統(tǒng)焊料基方法典型的數(shù)十或數(shù)百微米。

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圖12:混合鍵合的關(guān)鍵步驟,包括室溫下的氧化物對氧化物初始鍵合,然后退火以在無外部壓力的情況下創(chuàng)建金屬對金屬連接

混合鍵合的優(yōu)勢超出了簡單的間距縮減。消除焊料凸點減少了寄生電感和電容,改善了高頻下的電氣性能。直接金屬連接還提供卓越的熱導率,使高功率Chiplet能夠更好地散熱。這些優(yōu)勢使混合鍵合對包括高帶寬存儲器集成和高性能計算Chiplet在內(nèi)的先進應(yīng)用必不可少。

多家公司已成功在生產(chǎn)應(yīng)用中實施混合鍵合。索尼的CMOS圖像傳感器是最早的商業(yè)應(yīng)用之一,展示了堆疊傳感器架構(gòu)的晶圓對晶圓鍵合。最近,AMD使用臺積電的混合鍵合技術(shù)創(chuàng)建了3D V-cache結(jié)構(gòu),顯著改善了某些工作負載的處理器性能。

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圖13:AMD實施的3D V-cache混合鍵合,其中SRAM緩存管芯與CPU核心面對背鍵合,通過直接銅對銅接口連接

06光電共封裝和光電子技術(shù)集成

現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心和高性能計算應(yīng)用不斷增長的帶寬需求推動了光電共封裝技術(shù)的發(fā)展。這些方法在封裝級別集成光電子技術(shù)和電子元件,與傳統(tǒng)可插拔光收發(fā)器相比,降低了功耗并改善了性能。

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圖14:從可插拔收發(fā)器到光電共封裝的演進,說明光引擎如何直接與交換機ASIC集成以降低功耗并改善性能

光電子集成芯片和電子集成線路的3D異構(gòu)集成代表目前產(chǎn)業(yè)面臨的最復雜封裝挑戰(zhàn)之一。這些系統(tǒng)必須同時管理高速電信號、光信號、熱耗散和機械穩(wěn)定性,同時保持光耦合和對準所需的精度。

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圖15:集成光電子集成芯片(PIC)和電子集成線路(EIC)的不同方法,包括各種鍵合技術(shù)、Interposer方法和堆疊配置

先進的光電共封裝實現(xiàn)融合了復雜的基板技術(shù),包括嵌入式聚合物波導、具有集成光路由的玻璃Interposer,以及多個功能模塊的3D集成。這些方法能夠創(chuàng)建使用分立元件無法實現(xiàn)的系統(tǒng),同時提供下一代應(yīng)用所需的性能和功率效率。

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圖16:使用嵌入式聚合物波導、45度反射鏡和光電子技術(shù)與電子元件3D集成的先進光電共封裝實現(xiàn)

07未來趨勢和新興技術(shù)

半導體封裝產(chǎn)業(yè)持續(xù)快速演進,幾個新興趨勢指向更復雜的集成方法。3.3D和3.5D集成技術(shù)的發(fā)展代表封裝復雜性的下一個前沿,結(jié)合Chiplet設(shè)計的優(yōu)勢與先進3D堆疊和混合鍵合技術(shù)。

定制高帶寬存儲器代表先進封裝近期最重要的發(fā)展之一。這些方法使用混合鍵合技術(shù)將DRAM堆疊直接集成到計算Chiplet上,消除對單獨Interposer基板的需求,同時改善性能并降低功耗。

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圖17:定制HBM集成的結(jié)構(gòu),顯示DRAM堆疊如何使用銅對銅混合鍵合直接鍵合到玻璃芯基板上的系統(tǒng)級芯片器件

玻璃基板技術(shù)與先進再分布層工藝的集成創(chuàng)造了以前不可能實現(xiàn)的高密度封裝新方法。這些基板提供亞二微米線寬和間距幾何所需的平整度和尺寸穩(wěn)定性,同時支持3D路由的通玻璃孔技術(shù)。

這些技術(shù)的持續(xù)演進將創(chuàng)建具有集成和性能水平的系統(tǒng)。產(chǎn)業(yè)路線圖指向到2030年包含超過一萬億晶體管的封裝,這只有通過Chiplet設(shè)計方法學、先進基板技術(shù)和3D集成方法的復雜結(jié)合才能實現(xiàn)。

隨著這些技術(shù)成熟并得到更廣泛采用,將為利用異構(gòu)集成獨特優(yōu)勢的新類別應(yīng)用和系統(tǒng)創(chuàng)造條件。不同工藝技術(shù)、Chiplet架構(gòu)和先進封裝方法的結(jié)合為系統(tǒng)設(shè)計師提供了在針對特定應(yīng)用需求優(yōu)化性能、功耗和成本方面的靈活性。這種靈活性代表Chiplet和先進封裝技術(shù)的真正價值,使在傳統(tǒng)單片芯片設(shè)計約束下不可能的創(chuàng)新得以實現(xiàn)。

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原文標題:Chiplet與異構(gòu)集成的先進基板技術(shù)

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