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橢偏光譜技術在VO?薄膜光誘導IMT中的應用:瞬態(tài)介電函數(shù)的動力學路徑解析

Flexfilm ? 2025-11-12 18:02 ? 次閱讀
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二氧化釩(VO?)作為一種強關聯(lián)電子材料,在約68 °C時會發(fā)生絕緣體-金屬相變(IMT),并伴隨晶體結構變化,這一現(xiàn)象使其在超快光子器件(如光開關和調(diào)制器)中具有巨大應用潛力。然而,要實現(xiàn)對其光誘導相變的有效控制,必須深入理解其飛秒至皮秒尺度的超快動力學過程,而傳統(tǒng)探測手段難以直接獲取相變過程中材料光學性質(zhì)(如介電函數(shù))的完整動態(tài)信息。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對薄膜的厚度折射率的高精度表征,廣泛應用于薄膜材料、半導體和表面科學等領域。

本研究首次應用寬帶時間分辨泵浦 - 探測橢偏光譜技術,以 35 fs 激光脈沖驅動VO?薄膜,100 fs分辨率捕捉 1.7-3.5 eV光譜范圍復偽介電函數(shù)演化,識別出與泵浦參數(shù)相關的熱 / 非熱動力學過程,明確熱與光誘導IMT的核心差異在泵浦后首個皮秒非平衡動力學主導),為凝聚態(tài)相變及光子器件研究提供關鍵工具。

1

研究方法:如何捕捉超快光學響應?

樣品制備:采用磁控濺射技術在石英襯底上制備了25納米厚的多晶VO?薄膜。

靜態(tài)表征:首先利用光譜橢偏儀(30-85°C)測量了VO?薄膜在熱誘導相變過程中的偽介電函數(shù)〈ε〉 = 〈ε?〉 + i〈ε?〉,建立了相變的靜態(tài)光學基準。

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泵浦-探測時間分辨光譜橢偏儀實驗裝置示意圖

超快動力學測量:核心實驗裝置如圖所示。

泵浦:使用35 fs的激光脈沖(波長400 nm或800 nm)激發(fā)樣品,誘導相變。

探測:利用寬譜超連續(xù)白光脈沖(1.7-3.5 eV)作為探測光,以100 fs的時間分辨率測量泵浦后不同延遲時間下的橢偏參數(shù)(Ψ, Δ),進而計算出瞬態(tài)的復數(shù)偽介電函數(shù)

2

熱誘導相變(靜態(tài))

flexfilm

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VO?薄膜的(a)實部和(b)虛部偽介電函數(shù)〈ε?〉和〈ε?〉隨溫度的變化。(c)實部和(d)虛部偽介電函數(shù)的變化量Δ〈ε?〉和Δ〈ε?〉,以室溫下的〈ε〉為參考。(e)VO?薄膜介電函數(shù)的實部ε?和(f)虛部ε?。(g)實部和(h)虛部介電函數(shù)的變化量Δε?和Δε?,以室溫下的ε為參考。

隨著溫度升高,VO?的光學性質(zhì)在68°C附近發(fā)生突變。特別是在近紅外區(qū)域,介電函數(shù)實部ε?由正轉負,這是典型的介電體向金屬轉變的特征。我們定義在2 eV光子能量下,Δ〈ε?〉 < -1.95作為判斷薄膜進金屬態(tài)的光學判據(jù)。

3

光誘導相變(動態(tài))

flexfilm

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在ps時間延遲區(qū)間內(nèi)瞬態(tài)(a, c, e)偽介電函數(shù)實部和(b, d, f)虛部

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動態(tài)Δ〈ε?〉與Δ〈ε?〉的關系隨延遲時間t的變化

軌跡對比揭示動力學差異:通過繪制Δ〈ε?〉與Δ〈ε?〉的動態(tài)關系圖,并將其與熱誘導路徑對比發(fā)現(xiàn):

初始階段(< 1 ps):光誘導路徑顯著偏離熱平衡路徑,這表明存在一個由光生載流子直接驅動非熱相變成核過程。

中間階段(1 ps后):兩條路徑重合,表明能量已傳遞給晶格,相變由熱驅動的金屬域生長主導。

弛豫階段:薄膜冷卻并恢復至絕緣態(tài),其路徑與熱誘導路徑基本重合。

4

泵浦參數(shù)的影響

flexfilm

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VO?薄膜在2eV處的Δ〈ε?〉在不同時間尺度下的時間分辨變化

能量密度:存在一個相變閾值Fth。高于Fth時,相變幅度和恢復時間均隨泵浦能量密度增加而增加。

波長:400 nm泵浦在所有測試能量下均能引發(fā)完全相變;而800 nm泵浦則存在清晰的閾值,且其相變動力學對能量密度更敏感。

超快動力學分解:通過模型擬合,我們將相變過程分解為兩個特征時間:

τ_fs(飛秒-皮秒):代表非熱成核的超快過程。

τ_ps(皮秒):代表熱致生長的較慢過程。

兩者均隨泵浦能量密度增加而縮短,表明更強的激發(fā)會加速成核與生長。

器件應用潛力:實驗證實,薄膜在經(jīng)歷超過3千萬次超快激光循環(huán)后性能依然穩(wěn)定,展現(xiàn)了其在超快光子器件中應用的巨大耐久性潛力。

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用于捕獲VO?薄膜在光誘導和熱誘導IMT過程中偽介電函數(shù)的測量示意圖總結

本研究首次通過寬帶時間分辨泵浦-探測光譜橢偏技術,以100飛秒分辨率、1.7-3.5 eV寬光譜范圍,捕捉到VO?薄膜光誘導絕緣體-金屬相變(IMT)過程中的復偽介電函數(shù)變化;對比熱誘導與激光誘導IMT發(fā)現(xiàn),兩者核心差異出現(xiàn)在泵浦后首個皮秒內(nèi),由該超快尺度下的非平衡動力學驅動。實驗結合35飛秒、400 nm/800 nm兩種泵浦波長及不同能量密度,識別出兩類動力學行為:泵浦能量密度低于閾值時,無金屬相但偽介電函數(shù)瞬變且弛豫快(≈1納秒);高于閾值時,先經(jīng)<1皮秒的非熱過程實現(xiàn)金屬相成核,再通過熱擴散驅動金屬疇生長,恢復至絕緣態(tài)需>3納秒。同時證實25 nm VO?薄膜耐受壽命至少3×10?次循環(huán),與文獻穩(wěn)定性記錄一致。這些發(fā)現(xiàn)深化了VO?薄膜IMT超快動力學認知,也凸顯該橢偏技術對強關聯(lián)材料相變研究的價值,為相變材料在新型光子器件中的應用提供關鍵指導。

Flexfilm全光譜橢偏儀

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全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測單元光譜橢偏儀分析軟件,專門用于測量和分析光伏領域中單層或多層納米薄膜的層構參數(shù)(如厚度)和物理參數(shù)(如折射率n、消光系數(shù)k)

  • 先進的旋轉補償器測量技術:無測量死角問題。
  • 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量:先進的光能量增強技術,高信噪比的探測技術。
  • 秒級的全光譜測量速度:全光譜測量典型5-10秒。
  • 原子層量級的檢測靈敏度:測量精度可達0.05nm。

Flexfilm全光譜橢偏儀能非破壞、非接觸地原位精確測量超薄圖案化薄膜的厚度、折射率,結合費曼儀器全流程薄膜測量技術,助力半導體薄膜材料領域的高質(zhì)量發(fā)展。

原文參考:《Subpicosecond Spectroscopic Ellipsometry of the Photoinduced Phase Transition in VO2 Thin Films》

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