物理驗(yàn)證Sign-Off標(biāo)準(zhǔn)

眾所周知，隨著IC加工、設(shè)計(jì)技術(shù)的飛速發(fā)展，高性能、低價(jià)格的芯片已成為市場競爭的關(guān)鍵因素。而IC設(shè)計(jì)是一個(gè)高風(fēng)險(xiǎn)、高投資的產(chǎn)業(yè)，如何使IC產(chǎn)品達(dá)到高性能，同時(shí)又降低成本變得越來越重要，尤其是對于全新的IC設(shè)計(jì)，首次流片成功變得更加關(guān)鍵。而IC產(chǎn)品的成功，不僅要有高水平的工程師，良好的設(shè)計(jì)，還要有優(yōu)秀EDA工具的輔助，特別是對于芯片設(shè)計(jì)的功能及物理驗(yàn)證方面。

Calibre工具集是Mentor Graphics公司專注為深亞微米工藝技術(shù)中復(fù)雜芯片設(shè)計(jì)的物理驗(yàn)證挑戰(zhàn)而研發(fā)的業(yè)界高性能的環(huán)境和技術(shù)。它基于先進(jìn)的層次化算法和技術(shù)，能夠快速、準(zhǔn)確、完善的對混合電路進(jìn)行物理驗(yàn)證及寄生提取。目前，它已經(jīng)被全球主流的foundry采用，并成為其內(nèi)部的物理驗(yàn)證標(biāo)準(zhǔn)。在國內(nèi)Calibre也已經(jīng)被眾多設(shè)計(jì)公司采用為深亞微米集成電路的物理驗(yàn)證工具。Calibre主要包含有以下幾個(gè)模塊，市面上主流版圖編輯器與Calibre工具接口的Calibre interactive；版圖驗(yàn)證工具Calibre nmDRC，Calibre LVS；層次化的驗(yàn)證模塊nmDRC-H和LVS-H；具有圖像偵錯環(huán)境的Calibre RVE；大型GDSII版圖數(shù)據(jù)快速讀取模塊Calibre DESIGNrev及混合級電路寄生提取工具Calibre xRC和xL。Calibre既可作為一個(gè)單點(diǎn)工具來使用，也可以集成在目前主流的版圖工具中。Calibre物理驗(yàn)證平臺涵蓋了Signoff級驗(yàn)證的gds到mask的所有驗(yàn)證步驟，包括DRC,LVS,PEX，DFM以及可靠性驗(yàn)證，3D驗(yàn)證所有方面。

Calibre nmDRC和Calibre nmDRC-H

在進(jìn)行DRC驗(yàn)證時(shí)，Calibre有許多高級功能提供方便靈活的驗(yàn)證方式，達(dá)到靈活、快捷偵錯的目的。

Calibre LVS和Calibre LVS-H

LVS有許多非常靈活的控制選項(xiàng)，應(yīng)用于不用的設(shè)計(jì)階段和環(huán)境中，以滿足各種情況下原理圖同版圖的比較工作。

Calibre xRC和xL

Calibre xRC和xL是單一的工具提供給所有的設(shè)計(jì)工程師全面的解決方案，對各個(gè)層次的寄生參數(shù)進(jìn)行準(zhǔn)確、全面的提取，得到準(zhǔn)確的仿真結(jié)果。

Calibre Realtime

Calibre Realtime實(shí)時(shí)sign-off級DRC驗(yàn)證流程可以和主流的版圖設(shè)計(jì)工具進(jìn)行無縫連接，包括Cadence的virtuoso，Mentor的Pyxis和Springsoft的Laker。可以在這些主流的版圖設(shè)計(jì)環(huán)境當(dāng)中進(jìn)行實(shí)時(shí)的嚴(yán)格的DRC的檢查，并提供高效的修改意見，大幅度的縮短了全定制設(shè)計(jì)工程師的設(shè)計(jì)時(shí)間。

Calibre 3D寄生參數(shù)提取

Calibre xACT是領(lǐng)先的高精度的三維寄生提取解決方案，其采用全新的架構(gòu)，克服了傳統(tǒng)現(xiàn)成解算器的性能限制，可以和Calibre的所有物理驗(yàn)證流程完美結(jié)合。其通過提供一個(gè)誤差小于3%的真正三維現(xiàn)場解算器，解決了提取精度和性能之間的傳統(tǒng)困境，并擁有超高速的運(yùn)算速度。

Calibre DFM

針對深亞微米遇到工藝不可制造性問題，Mentor不斷的改進(jìn)Calibre驗(yàn)證平臺，提出了一系列的改進(jìn)方案。并對不同工藝節(jié)點(diǎn)的驗(yàn)證提出了相應(yīng)的解決辦法，并基于Calibre的平臺，并融合DFM的技術(shù)與理念，開發(fā)了一系列完備的DFM技術(shù)方案，幫助設(shè)計(jì)師在設(shè)計(jì)階段就考慮生產(chǎn)制造可能帶來的問題。

Calibre PERC

Calibre Perc是集成電路設(shè)計(jì)完整的可編程式電學(xué)規(guī)則檢查工具，其可根據(jù)使用者自定義規(guī)則進(jìn)行自動檢查，是專為協(xié)助客戶進(jìn)行產(chǎn)品的可靠性設(shè)計(jì)。Calibre Perc在解決ESD檢查的基礎(chǔ)上，有很強(qiáng)的擴(kuò)張性，對更多的可靠性設(shè)計(jì)進(jìn)行完整的驗(yàn)證，包括Latch up效應(yīng)和電源、地的壓降問題，以及器件的輸入輸出匹配問題。

Calibre Muli-Pattern

半導(dǎo)體工藝隨著摩爾定律的發(fā)展，目前已經(jīng)進(jìn)入20nm時(shí)代，各大Foundry已經(jīng)投入大量的技術(shù)力量進(jìn)行14nm，7nm工藝的研發(fā)。當(dāng)工藝發(fā)展進(jìn)行到32nm工藝后，傳統(tǒng)的光刻工藝不能滿足如此小的圖形的曝光，為了解決光刻工藝的問題，對同一MASK版的數(shù)據(jù)進(jìn)行分版處理，進(jìn)行兩次或者多次分別曝光，解決了小圖像不能一次曝光問題。但由此帶來了如何進(jìn)行分版數(shù)據(jù)驗(yàn)證的問題。Calibre專門針對先進(jìn)工藝進(jìn)行完整先進(jìn)的物理驗(yàn)證，是集成電路可以持續(xù)發(fā)展制造的保證。

Calibre Automatic Waivers

Calibre Auto-Waiver對外部IP進(jìn)行假錯的自動識別和清楚，在全芯片級別的驗(yàn)證當(dāng)中自動消除冗余錯誤。Calibre Auto-Waiver流程與當(dāng)前的GDSII或OASIS流程兼容。IP設(shè)計(jì)者進(jìn)行版圖驗(yàn)證時(shí)，這些經(jīng)過Foundry確認(rèn)的假錯被標(biāo)注放回到IP版圖中，對冗余錯誤進(jìn)行自動化的識別以及標(biāo)注，把設(shè)計(jì)這從繁重的假錯識別標(biāo)注重復(fù)勞動中釋放出來。并由Foundry對專門的標(biāo)注層次進(jìn)行定義，確保了驗(yàn)證信息在IP使用者和IP提供者之間的一致性。

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