聚焦離子束（FIB）技術作為材料分析領域的重要工具，已在納米科技、半導體和材料科學研究中發(fā)揮著不可替代的作用。

1.FIB制樣的注意事項有哪些？

①首先確定樣品成分是否導電，導電性差的樣品要噴金；②其次FIB的目的，截面看SEM還是TEM；TEM是做普通高分辨還是球差，普通的高分辨減薄厚度比球差要厚一些，最薄可以減薄到十個nm左右的厚度；③進而切割或取樣位置；④確定材料是否耐高壓，F(xiàn)IB制樣一般常用電壓是30KV；⑤樣品最好表面拋光；⑥樣品尺寸和形狀是否適合固定于樣品臺，避免在制樣過程中發(fā)生移動或振動；⑦環(huán)境條件如溫度和濕度是否穩(wěn)定，以防止樣品污染或降解；⑧離子束參數(shù)如電流和掃描速度的優(yōu)化，以最小化離子損傷；⑨保護層材料的選擇，如Pt或C，取決于后續(xù)分析需求；⑩后續(xù)處理步驟，如清潔和存儲，確保樣品完整性。

2.FIB樣品為什么需要導電？

在FIB操作過程中，樣品處于掃描電鏡環(huán)境下，缺乏足夠導電性的樣品會產生電荷積累，導致圖像漂移、分辨率下降等問題，嚴重影響操作的精確性。噴金或噴碳處理能形成連續(xù)的導電層，為電荷提供導電路徑，確保成像清晰度和操作精度。對于后續(xù)需要進行元素分析的樣品，選擇適當?shù)膶щ妼硬牧嫌葹橹匾?。例如，當分析區(qū)域可能含有金元素時，應避免使用金作為導電層，轉而選擇碳或其他不會干擾分析結果的元素。

3. FIB技術可以做什么

①FIB-SEM：FIB制備微米級樣品截面，進行SEM和能譜測試；樣品尺度要求2～30 μm，通常切樣面直徑不超過10 μn；金鑒實驗室具備Dual Beam FIB-SEM技術服務，包括透射電鏡( TEM)樣品制備，材料微觀截面截取與觀察、樣品微觀刻蝕與沉積以及材料三維成像及分析等。②FIB-TEM：FIB制備滿足透射電鏡的TEM截面樣品；樣品包括：薄膜、塊體樣品，微米級顆粒；樣品種類：陶瓷、金屬等；③電路編輯和修復，包括切割導線和沉積導電材料；④離子注入用于半導體器件改性；⑤三維重構通過序列切片和成像獲取微觀結構信息；⑥納米加工和圖案化，制造微納結構；⑦樣品提取和轉移，用于后續(xù)分析如原子探針斷層掃描。

4.FIB切下來的樣品直接上TEM嗎？是否還需要離子減?。?/strong>

FIB切過的樣品不需要離子減薄，可以直接上TEM，但要盡量減得薄一些，否則TEM不太好看，最好不要超過100 nm；然而，對于某些敏感材料或高分辨率分析，可能需要進行低能離子拋光以減少非晶層或損傷；離子減薄通常用于傳統(tǒng)制樣方法，但FIB提供了更精確的局部減薄，節(jié)省時間并減少全局損傷；最終厚度取決于TEM類型。

5.FIB-TEM的制樣流程是什么?

標準流程包括：

①定位目標特征，并在其表面沉積保護層（Pt/W）；

②在特征兩側挖槽，進行“U型”或“挖槽式”切割以隔離出一個薄片；

③使用微操縱針（如EasyLift, OmniProbe）將薄片取出并轉移至專用TEM銅網上；

④將薄片焊接固定于銅網支柱；

⑤進行最終減薄至電子透明厚度（通常50-100nm），并進行精細拋光以減小離子損傷層。金鑒實驗室在進行試驗時，嚴格遵循相關標準操作，確保每一個測試環(huán)節(jié)都精準無誤地符合標準要求。

6.FIB制樣可能引入哪些人工損傷或污染？

在FIB制樣過程中，可能引入的外來元素主要包括鉑和鎵。鉑來源于保護層的沉積，而鎵則是離子源本身的主要成分。對于特殊要求的樣品，可能會使用金或鉻作為導電層，這些元素都可能成為污染源。

7.FIB切的透射薄片有孔或者部分脫落有影響嗎？

切樣的目的就是為了減薄樣品，一些材質減薄后就會出現(xiàn)部分脫落、穿孔的現(xiàn)象，屬于正?，F(xiàn)象，有薄區(qū)，不影響透射拍攝即可，比如離子減薄制樣就是要在材料上穿一個孔；然而，過度穿孔或脫落可能導致結構完整性喪失，影響特定區(qū)域的分析；需平衡減薄程度和樣品穩(wěn)定性，對于脆性材料，采用低電流和漸進減薄策略；最終以TEM成像質量為準，確保薄區(qū)足夠大且均勻。

8.FIB制樣中如何避免樣品損傷？

避免樣品損傷需要多種方法：使用低離子束能量（如5-30kV）和電流以減少濺射和非晶化；漸進減薄，從高電流粗加工到低電流精修；應用保護層如Pt或C防止表面侵蝕；控制環(huán)境溫度，避免熱效應；對于敏感材料，采用低溫FIB或在惰性氣氛中操作；后期使用低能離子清潔去除損傷層；實時成像調整參數(shù)，最小化曝光時間。

納米材料電阻無法直接進行測量，通過FIB GIS系統(tǒng)對其沉積Pt，將其連接到電極上進行四探針法測電阻。

9.FIB在納米技術中的應用有哪些？

FIB在納米技術中廣泛應用于納米結構制造、修改和表征；包括雕刻納米圖案、制備納米線或量子點；在納米電子學中，用于器件原型設計和故障修復；在納米材料研究中，制備TEM樣品或三維重構；此外，與AFM或STM結合，進行納米操縱和測量；優(yōu)勢是的高精度和靈活性，但需注意尺度限制和損傷。

10.FIB電路修補所依賴的氣體沉積與刻蝕原理是什么？

這是一個基于離子束誘導的化學反應。系統(tǒng)向樣品表面局部區(qū)域注入特定的前驅氣體。①沉積：當離子束掃描過該區(qū)域時，會分解吸附在表面的金屬有機氣體（如Pt或W的前驅體），使金屬成分非揮發(fā)性地沉積下來，而有機副產物被真空抽走。②刻蝕：注入鹵素類氣體（如I?或XeF?），離子束會催化其與樣品材料（如Si）反應，生成揮發(fā)性的產物從而實現(xiàn)選擇性刻蝕。

11.FIB系統(tǒng)通常集成了哪些探測器？它們提供什么信息？

現(xiàn)代FIB通常是與SEM結合的雙束（Dual-Beam）系統(tǒng)，并集成多種探測器：①二次電子探測器：用于獲取表面形貌襯度圖像。②背散射電子探測器：用于獲取原子序數(shù)襯度圖像，區(qū)分不同化學成分的相。③能譜儀：用于定性和半定量的元素成分分析。④電子背散射衍射探頭：用于獲取樣品的晶體學信息，如晶粒取向、物相鑒定和應變分布。

聚焦離子束（FIB）技術已成為現(xiàn)代微觀分析領域不可或缺的核心工具。它超越了傳統(tǒng)的二維截面制備，實現(xiàn)了對特定特征的“定位、提取、減薄、分析”一體化操作，將制樣精度從微米級推向了納米級。