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芯片是如何制造的

工程師 ? 來源:未知 ? 作者:姚遠(yuǎn)香 ? 2019-01-03 10:15 ? 次閱讀
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中興事件讓我們認(rèn)識了中國的“芯”痛,那么小小芯片為什么這么難制造?今天小編給你介紹一下流程。

沙子,是制造芯片最基本的材料,而脫氧后的沙子,是半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)。通過多步凈化得到可用于半導(dǎo)體制造質(zhì)量的硅,學(xué)名電子級硅(EGS),最后得到的就是硅錠(Ingot)

硅錠切割:橫向切割成圓形的單個硅片,也就是我們常說的晶圓(Wafer)。順便說,這下知道為什么晶圓都是圓形的了吧?

涂上光刻膠,必須保證光刻膠非常平非常平。然后進行光刻,這一步需要的技術(shù)水平非常高(目前中國自己的***只有90nm的制程,而國外先進的可以做到7nm。)光刻膠層隨后透過掩模(Mask)被曝光在紫外線(UV)之下。

先溶解光刻膠,光刻過程中曝光在紫外線下的光刻膠被溶解掉,清除后留下的圖案和掩模上的一致再進行蝕刻,使用化學(xué)物質(zhì)溶解暴露出來的晶圓,剩下的光刻膠保護著不應(yīng)該蝕刻的部分。

離子注入:在真空中,用經(jīng)過加速的原子、離子照射(注入)固體材料,使被注入的區(qū)域形成特殊的注入層,改變區(qū)域的硅的導(dǎo)電性。

電鍍:在晶圓上電鍍一層硫酸銅,把銅離子沉淀到晶體管上。銅離子會從正極走向負(fù)極。電鍍完成之后,銅離子沉積在晶圓表面,形成薄薄的銅層

拋光:將多余的銅拋光掉,也就是磨光晶圓表面。

再經(jīng)過測試,切片,丟棄瑕疵內(nèi)核。留下完好的準(zhǔn)備進入下一步。

完成封裝

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