鍍層測量儀對材料表面保護(hù)、裝飾形成的覆蓋層進(jìn)行厚度測量的儀器，測量的對象包括涂層、鍍層、敷層、貼層、化學(xué)生成膜等（在有關(guān)國家和國際標(biāo)準(zhǔn)中稱為覆層（coating））。 覆層厚度測量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測的重要一環(huán)，是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的必備手段。為使產(chǎn)品國際化，我國出口商品和涉外項目中，對覆層厚度有了明確的要求。

對某物質(zhì)進(jìn)行X射線照射時，可以觀測到主要以下3種X射線。（1） 螢光X射線（2） 散亂X射線（3） 透過X射線

性能：

有些膜厚儀采用了磁性測厚法，是一種超小型測量儀，它能快速，無損傷，精確地進(jìn)行鐵磁性金屬基體上的噴涂。電鍍層厚度的測量?？蓮V泛用于制造業(yè)，金屬加工業(yè)，化工業(yè)，商檢等檢測領(lǐng)域。特別適用于工程現(xiàn)場測量。

有些膜厚儀采用二次熒光法，它的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來，而此時是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強(qiáng)度，來進(jìn)行定性和定量分析。

一、電鍍鍍層檢測儀的特性：

若產(chǎn)生X-射線熒光是由于轉(zhuǎn)移一個電子進(jìn)入K軌道，一個K軌道上的電子已事先被游離，另一個電子即代替他的地位，此稱之為K輻射。不同的能階轉(zhuǎn)換出不同的能量，如Kα輻射是電子由L軌道跳至K軌道的一種輻射，而Kβ輻射是電子從M軌道跳至K軌道的一種輻射，其間是有區(qū)別的。若X-射線熒光是一個電子跳入L的空軌域，此種輻射稱為L輻射。同樣的L輻射可劃分為Lα輻射，此是由M軌道之電子跳入L軌道及Lβ輻射，此是由N軌道之電子跳入L軌道中。由于Kβ輻射能量約為Kα的11%，而Lβ輻射能量較Lα大約20%，所以以能量的觀點(diǎn)Lα及Lβ是很容易區(qū)分的。

電鍍鍍層檢測儀在開始測試時候最好進(jìn)行幾次簡單的測試工作，不僅是確保設(shè)備的可用性（正常性），同時也檢驗(yàn)電鍍鍍層檢測儀各個接口是否符合標(biāo)準(zhǔn);

二、鍍層檢測儀的原理

1、首先對我們要了解XRF如何測量元素成分含量的：

一個元素的成分計算公式可以簡單用下面的公式表示：F？I=C，（這里C是樣品含量，F(xiàn)是光譜中此元素比例系數(shù)，I是此元素在光譜中的激發(fā)強(qiáng)度），首先標(biāo)樣中已知C（此處用百分比表示），將此標(biāo)樣放入光譜，按著測試條件開X射線激發(fā)標(biāo)樣，此時得到一個I的值，C/I=F（這樣就能計算出此元素的含量輕度比列系數(shù)）。

之后，待測樣品放入光譜，同樣條件用X射線激發(fā)樣品，獲得待測樣品的I值，用這個I值乘以之前得到的F值，F(xiàn)？I=C 就能計算出此樣品的含量C的值，這就是XRF測量元素含量的基本原理。

2、電鍍鍍層檢測儀膜厚原理：

同理，Th=FI （這里Th是厚度，單位微米或其他長度單位）

首先也是用標(biāo)樣來標(biāo)定，求出此樣品的某元素鍍層厚度強(qiáng)度比F。

測試待測樣品時，用待測樣品的鍍層元素激發(fā)的I值乘以之前得到的F值，F(xiàn)？I=Th這樣就能計算出待測樣品的此元素鍍層厚度值。

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