動(dòng)態(tài)
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發(fā)布了文章 2025-03-25 11:23
智能功率模塊在電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)逆變器中的應(yīng)用與優(yōu)勢(shì)分析
在消費(fèi)類和通用工業(yè)應(yīng)用中,針對(duì)小型交流電動(dòng)機(jī)的逆變器設(shè)計(jì)師面臨著日益嚴(yán)格的效率、可靠性、尺寸和成本的挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)上,許多小型逆變器設(shè)計(jì)采用離散功率器件封裝,并結(jié)合實(shí)現(xiàn)接口、驅(qū)動(dòng)和保護(hù)功能所需的輔助組件。這種方法需要較大的復(fù)雜PCB設(shè)計(jì),以滿足驅(qū)動(dòng)器和離散功率器件組合的所有間距和布局要求。另一個(gè)同樣令人困惑的問(wèn)題是,當(dāng)驅(qū)動(dòng)器和功率器件的特性未能正確匹配時(shí),如何保442瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2025-03-24 11:38
Vicor在臺(tái)灣推廣48V電源模塊:模塊化設(shè)計(jì)的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)
近日,美系功率半導(dǎo)體模塊廠商Vicor在中國(guó)臺(tái)灣舉辦了一場(chǎng)媒體活動(dòng),重點(diǎn)宣傳其最新的48V電源模塊平臺(tái)。此次活動(dòng)吸引了眾多媒體及行業(yè)專家的關(guān)注,凸顯了Vicor在電源管理領(lǐng)域的創(chuàng)新實(shí)力和市場(chǎng)策略。Vicor在活動(dòng)中強(qiáng)調(diào),其模塊化設(shè)計(jì)在市場(chǎng)上的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)與眾不同。與許多傳統(tǒng)的美系電源管理IC廠商和IDM(集成設(shè)備制造商)不同,Vicor并不將所有功能整合在一塊電 -
發(fā)布了文章 2025-03-24 11:36
浮思特 | 創(chuàng)新互補(bǔ)模型:提升功率電子轉(zhuǎn)換器設(shè)計(jì)與仿真的新方法
功率電子轉(zhuǎn)換器可以視為由分段線性元件(傳統(tǒng)元件如電阻、電感和電容是特例)與電壓源、電流源、二極管和電子開(kāi)關(guān)(如晶閘管、晶體管、MOSFET等)組成。在此背景下,我們將電子設(shè)備(ED)定義為任何具有分段線性電流-電壓特性的電氣或電子元件,盡管這可能是一個(gè)不太精確的術(shù)語(yǔ)。在許多實(shí)際情況下,電子設(shè)備可以建模為一個(gè)可變電阻,其在導(dǎo)通狀態(tài)下的值非常低,而在阻斷狀態(tài)下的249瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2025-03-21 11:26
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發(fā)布了文章 2025-03-21 11:25
SiC MOSFET在3-kW LLC變換器設(shè)計(jì)中的優(yōu)勢(shì)
使用寬帶隙半導(dǎo)體材料(如碳化硅或氮化鎵)制造的電源開(kāi)關(guān)現(xiàn)在在電力變換器中得到了廣泛應(yīng)用。SiC晶體管的高速開(kāi)關(guān)特性以及低反向恢復(fù)電荷,或氮化鎵HEMT的零反向恢復(fù)電荷,使設(shè)計(jì)師能夠制造比基于硅的替代品更小且高效的電力系統(tǒng)。然而,盡管氮化鎵和碳化硅有如此多的優(yōu)勢(shì),這些開(kāi)關(guān)類型與經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的硅MOSFET或IGBT相比仍顯得有些陌生。FutureElectroni397瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2025-03-20 11:18
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發(fā)布了文章 2025-03-20 11:16
SiC MOSFET與肖特基勢(shì)壘二極管的完美結(jié)合,提升電力轉(zhuǎn)換性能
使用反向并聯(lián)的肖特基勢(shì)壘二極管(SBD)可以提高碳化硅MOSFET在電力轉(zhuǎn)換應(yīng)用中的性能和可靠性。本文將展示兩家SiC器件制造商在集成SBD與MOSFET為單芯片解決方案方面所取得的進(jìn)展。SiC肖特基二極管SiC肖特基二極管相較于標(biāo)準(zhǔn)的硅p/n二極管提供了許多優(yōu)勢(shì)。一個(gè)關(guān)鍵優(yōu)勢(shì)是缺乏反向恢復(fù)損失,這種損失在p/n二極管中尤為顯著,特別是在高溫、快速切換和高電454瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2025-03-19 11:15
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發(fā)布了文章 2025-03-19 11:10
DSA技術(shù):突破EUV光刻瓶頸的革命性解決方案
為了補(bǔ)償光子不足,制造商可能會(huì)增加曝光劑量,這又會(huì)延長(zhǎng)光刻過(guò)程中停留的時(shí)間。然而,這種做法直接影響了生產(chǎn)效率,使得整個(gè)過(guò)程變得更慢,經(jīng)濟(jì)性降低。此外,隨著幾何尺寸的縮小以適應(yīng)更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn),對(duì)更高劑量的需求也加劇,從而造成了生產(chǎn)力的瓶頸。DSA技術(shù):一種革命性的方法DSA技術(shù)通過(guò)利用嵌段共聚物的分子行為來(lái)解決EUV光刻面臨的挑戰(zhàn)。嵌段共聚物由兩個(gè)或多個(gè)化學(xué)性 -
發(fā)布了文章 2025-03-18 11:34