用氟化氫-氯化氫-氯氣混合物進行各向異性酸性蝕刻是一種有效的方法 單晶硅晶片紋理化的替代方法 在晶片表面形成倒金字塔結(jié)構(gòu)[1,2]形貌取決于以下成分 蝕刻混合物[3]硅在HF-HCl[1]Cl2混合物中的擴散控制溶解過程通過改變流量形成各種形態(tài) 蝕刻混合物的速度[4,5]超聲波輔助導致蝕刻的高速運動 晶片表面的混合物。

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結(jié)果
HF-HCl-Cl2溶液允許各向異性蝕刻過程,產(chǎn)生比氫氧化鉀標準紋理反射低的隨機倒金字塔,導致低反射值至6.3%的陰影效應,導致晶圓邊緣到中間的形態(tài)變化,通過超聲輔助化學蝕刻(USACE)紋理單晶硅晶圓在在線蝕刻過程中似乎是最可行的。
審核編輯:湯梓紅
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