2007年版的國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線圖，是ITRS面世之后的第5次全面修訂，于2008年2月正式在世界范圍內(nèi)發(fā)布其最后定稿。本文將向讀者介紹本版路線圖一些新的重要理念，并對(duì)未來(lái)十五年內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)面臨的嚴(yán)峻挑戰(zhàn)進(jìn)行了匯總。
四十年來(lái)，半導(dǎo)體工業(yè)最明顯的特征之一，就是它的產(chǎn)品的更新?lián)Q代非常迅速。絕大部分的改進(jìn)和提高都是由一個(gè)重要特征表示的，即：制造集成電路的最小尺寸可以不斷地呈指數(shù)性地迅速縮小。顯然，我們最常引用的發(fā)展趨勢(shì)就是摩爾提出來(lái)并以他的名字命名的“摩爾定律”。對(duì)于社會(huì)來(lái)講，最為重要的發(fā)展趨勢(shì)是降低單位功能的成本，使人們可以享用到更多的計(jì)算機(jī)、電子通訊產(chǎn)品和消費(fèi)電子產(chǎn)品，從而大幅度提高了勞動(dòng)生產(chǎn)率和人們的生活質(zhì)量。
自從集成電路誕生的那一天起，就有一個(gè)基本的假設(shè)：微電子器件可以繼續(xù)按比例縮小并進(jìn)
而降低單位功能的成本，同時(shí)擴(kuò)展半導(dǎo)體集成電路的市場(chǎng)。在高度競(jìng)爭(zhēng)的半導(dǎo)體市場(chǎng)，從業(yè)者無(wú)
不思考著這樣一個(gè)問(wèn)題：究竟需要研發(fā)出什么樣的技術(shù)才能繼續(xù)沿著摩爾定律指引的方向前進(jìn)？
為了回答這個(gè)問(wèn)題，美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(huì)（the Semiconductor Industry Association，
SIA ） 發(fā)起編寫(xiě)了美國(guó)國(guó)家半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線圖（ National Technology Roadmap for
Semiconductor，NTRS），共發(fā)表了1992年、1994年和1997年三個(gè)版本。在1998年，由美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(huì)提議，邀請(qǐng)了歐洲、日本、韓國(guó)和臺(tái)灣等國(guó)家和地區(qū)的人士參加，對(duì)路線圖進(jìn)行了更新，最終形成了1999年的第一版國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線圖（The International TechnologyRoadmap for Semiconductors，ITRS）。在此之后，國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線圖在每偶數(shù)年份進(jìn)行更新，每單數(shù)年份進(jìn)行全面修訂。ITRS的整體目標(biāo)是提供被工業(yè)界廣泛認(rèn)同的對(duì)未來(lái)十五年內(nèi)研發(fā)需求的最佳預(yù)測(cè)。因此，對(duì)公司、研發(fā)團(tuán)體和政府都有指導(dǎo)作用。路線圖對(duì)提高各個(gè)層次上研發(fā)投資的決策質(zhì)量都有重要意義，并且?guī)椭鷮⒀芯糠较蛞龑?dǎo)至最需要突破的領(lǐng)域中去。