EUV光刻技術(shù)助力半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展

EUV光刻技術(shù)為半導(dǎo)體制造商提供一個(gè)前所未有的速度開發(fā)最強(qiáng)大芯片的機(jī)會(huì)。

2022-04-07 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻技術(shù) 880 0

芯片制造四大基本工藝

芯片制造四大基本工藝包括：芯片設(shè)計(jì)、FPGA驗(yàn)證、晶圓光刻顯影、蝕刻、芯片封裝等，晶片制作過程最為復(fù)雜，需經(jīng)過濕洗、光刻、 離子注入、干蝕刻、等離子沖洗...

2021-12-22 標(biāo)簽：芯片晶圓光刻技術(shù) 2.2萬 0

中芯國(guó)際已根據(jù)香港上市規(guī)則披露了與ASML的批量購買協(xié)議

對(duì)此，ASML發(fā)布公告澄清。公告提到，中芯國(guó)際已根據(jù)香港上市規(guī)則披露了與ASML的批量購買協(xié)議（VPA）。這與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)，該協(xié)議已于2...

2021-03-12 標(biāo)簽：中芯國(guó)際光刻技術(shù)ASML 2298 0

ASML澄清與中芯國(guó)際交易細(xì)節(jié)

可能很多網(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，...

2021-03-08 標(biāo)簽：中芯國(guó)際光刻技術(shù)ASML 2093 0

正式獲得美國(guó)設(shè)備廠商的供應(yīng)許可后，中芯國(guó)際的運(yùn)營(yíng)前景將進(jìn)一步明朗

去年中芯國(guó)際被美國(guó)列入了實(shí)體清單，購買美國(guó)廠商的半導(dǎo)體設(shè)備及技術(shù)受到限制。今天業(yè)界消息稱中芯國(guó)際已經(jīng)獲得了美國(guó)的許可，14nm及28nm等工藝可以恢復(fù)供應(yīng)。

2021-03-03 標(biāo)簽：中芯國(guó)際供應(yīng)商光刻技術(shù) 1830 0

中芯國(guó)際7nm、5nm工藝任重道遠(yuǎn) 獲得美國(guó)供應(yīng)許可

去年中芯國(guó)際被美國(guó)列入了實(shí)體清單，購買美國(guó)廠商的半導(dǎo)體設(shè)備及技術(shù)受到限制。今天業(yè)界消息稱中芯國(guó)際已經(jīng)獲得了美國(guó)的許可，14nm及28nm等工藝可以恢復(fù)供應(yīng)。

2021-03-02 標(biāo)簽：中芯國(guó)際光刻技術(shù)7nm 8960 0

COVID將對(duì)光掩模市場(chǎng)產(chǎn)生什么業(yè)務(wù)影響?

總體上，三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí)，口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)镋UV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需...

2020-12-17 標(biāo)簽：發(fā)光二極管光刻技術(shù)EUV 1486 0

集成電路的發(fā)展與其制造工藝─——光刻技術(shù)

光刻技術(shù)的進(jìn)步使得器件的特征尺寸不斷減小，芯片的集成度和性能不斷提高。在摩爾定律的引領(lǐng)下,光學(xué)光刻技術(shù)經(jīng)歷了接觸/接近、等倍投影、縮小步進(jìn)投影、步進(jìn)掃描...

2020-12-14 標(biāo)簽：集成電路控制系統(tǒng)光刻技術(shù) 8303 0

韓國(guó)公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國(guó)公司的差距

特別是，韓國(guó)公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國(guó)公司的差距。2019年，韓國(guó)本土提出的專利申請(qǐng)數(shù)量為40件，超過了國(guó)外企業(yè)的10件。這是韓國(guó)提交的...

2020-12-11 標(biāo)簽：三星電子光刻技術(shù)EUV 1759 0

光刻技術(shù)是迄今所能達(dá)到的最高精度的加工技術(shù)

降低曝光光源的波長(zhǎng)是光刻技術(shù)和設(shè)備的一個(gè)重要發(fā)展趨勢(shì)。半個(gè)世紀(jì)以來隨著光刻技術(shù)的發(fā)展,特征尺寸隨之減小。在196O年代,半導(dǎo)體芯片制造商主要使用可見光作為光源。

2020-12-10 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體光刻技術(shù) 7736 0

光刻技術(shù)的發(fā)展史

集成電路的飛速發(fā)展有賴于相關(guān)的制造工藝光刻技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)是迄今所能達(dá)到的最高精度的加工技術(shù)。 集成電路產(chǎn)業(yè)是現(xiàn)代信息社會(huì)的基石。集成電路的發(fā)明使電...

2020-12-05 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù) 1.5萬 0

中科院回應(yīng)5nm光刻技術(shù)突破ASML壟斷：誤讀

近日，中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布的一則研究進(jìn)展顯示，該團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型5nm超高精度激光光刻加工方法，隨后這被外界解讀為，已經(jīng)5nm ASML的壟斷，對(duì)此相關(guān)人...

2020-12-02 標(biāo)簽：中科院光刻技術(shù)5nm 5913 0

芯聞精選:松下將改組為控股公司制，下設(shè)車載電池等8家業(yè)務(wù)公司

松下控股下設(shè)車載電池、電子零部件、汽車零部件等 8 家業(yè)務(wù)公司。外媒表示，這樣能夠明確責(zé)任和權(quán)限，加快公司決策。松下還公布了新的人事任命，常務(wù)執(zhí)行董事楠...

2020-11-30 標(biāo)簽：lcd華為光刻技術(shù) 2079 0

光刻技術(shù)為中心的行業(yè)壁壘，EUV光刻機(jī)并非是是中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的唯一癥結(jié)

在一顆芯片誕生的過程中，光刻是最關(guān)鍵又最復(fù)雜的一步。 說最關(guān)鍵，是因?yàn)楣饪痰膶?shí)質(zhì)將掩膜版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移至硅片，化虛為實(shí)。說最復(fù)雜，是因?yàn)楣饪坦に囆枰?..

2020-11-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻技術(shù)EUV光刻機(jī) 2931 0

極紫外（EUV）光刻技術(shù)將如何影響掩模收入？

體上，三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí)，口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)镋UV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需要...

2020-11-23 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)EUV 1369 0

美國(guó)宣布將六項(xiàng)新興技術(shù)添加到《出口管理?xiàng)l例》

美國(guó)實(shí)施出口管制的六大技術(shù)，都與芯片制造中最重要的設(shè)備光刻機(jī)息息相關(guān)，尤其是當(dāng)下5nm芯片已成為高端芯片時(shí)代的主流產(chǎn)品，EUV光刻機(jī)在半導(dǎo)體制程的重要意...

2020-11-19 標(biāo)簽：晶圓芯片制造光刻技術(shù) 2583 0

韓國(guó)企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展

在過去的十年中，包括三星電子在內(nèi)的全球公司進(jìn)行了深入的研究和開發(fā)，以確保技術(shù)處于領(lǐng)先地位。最近，代工公司（意指三星）開始使用 5 納米 EUV 光刻技術(shù)...

2020-11-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻技術(shù)EUV 1636 0

韓國(guó)EUV光刻技術(shù)方面取得極大進(jìn)展 專利申請(qǐng)是國(guó)外的兩倍以上

IT之家 11 月 16 日消息 據(jù)韓國(guó)媒體 BusinessKorea 上周報(bào)道，韓國(guó)本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒有提到是哪...

2020-11-16 標(biāo)簽：韓國(guó)光刻技術(shù)EUV 2231 0