一文弄懂半導(dǎo)體掩膜版制造工藝及流程

微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等...

2024-01-06 標(biāo)簽：集成電路液晶顯示器光刻機(jī) 4.1萬 0

半導(dǎo)體零部件行業(yè)深度報(bào)告

半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于集成電路的制造和封測環(huán)節(jié)，可細(xì)分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備）和封裝、測試設(shè)備（后道設(shè)備)。其中，前道設(shè)備主要有光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積...

2023-12-27 標(biāo)簽：集成電路芯片制造光刻機(jī) 1068 0

全面解析***結(jié)構(gòu)及工作原理

光刻與光刻機(jī) ?對(duì)準(zhǔn)和曝光在光刻機(jī)(Lithography Tool)內(nèi)進(jìn)行。 ?其它工藝在涂膠顯影機(jī)(Track)上進(jìn)行。 光刻機(jī)結(jié)...

2023-12-19 標(biāo)簽：控制系統(tǒng)IC設(shè)計(jì)測量系統(tǒng) 1014 0

光刻工藝的基本步驟 ***的整體結(jié)構(gòu)圖

光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計(jì)以及光刻膠工藝等因素對(duì)分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評(píng)估光刻工藝的難度，ASML認(rèn)為其物理極限在0.25，...

2023-12-18 標(biāo)簽：集成電路摩爾定律光刻機(jī) 2075 0

半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖...

2023-12-04 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)半導(dǎo)體制造 5171 0

全球主要晶圓廠制程節(jié)點(diǎn)技術(shù)路線圖

雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機(jī)，它的精度決定了制程的精度。光刻機(jī)的運(yùn)作原理是先把設(shè)計(jì)好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學(xué)鏡片，將芯片圖案曝光...

2023-11-24 標(biāo)簽：臺(tái)積電晶體管光刻機(jī) 8124 0

半導(dǎo)體制造之光刻原理、工藝流程

光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化...

2023-10-09 標(biāo)簽：電路圖光刻光刻機(jī) 4507 0

仔細(xì)剖析一下五種UV***的區(qū)別及應(yīng)用場景

UV光刻機(jī)一般可以分為5種，即：接觸式光刻機(jī)，接近式光刻機(jī)，掃描投影式光刻機(jī)

2023-09-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓光刻機(jī) 2883 0

EUV薄膜容錯(cuò)成本高 成芯片良率的關(guān)鍵

近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。

2023-09-14 標(biāo)簽：單芯片cpu芯片光刻機(jī) 1595 0

濕法去膠液的種類有哪些？去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

光刻技術(shù)通過光刻膠將圖案成功轉(zhuǎn)移到硅片上，但是在相關(guān)制程結(jié)束后就需要完全除去光刻膠，那么這個(gè)時(shí)候去膠液就發(fā)揮了作用，那么去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

2023-09-06 標(biāo)簽：晶圓光刻機(jī)光刻技術(shù) 5042 0

下一代超精密激光加工解決案例

光的功能有多強(qiáng)大？下面先看看國內(nèi)權(quán)威媒體對(duì)先進(jìn)激光技術(shù)應(yīng)用的一則新聞報(bào)道！

2023-09-01 標(biāo)簽：激光器光刻機(jī)多模光纖 858 0

光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)的基本知識(shí)

在上一節(jié)計(jì)算光學(xué)小講堂中，我們學(xué)習(xí)了光源掩模協(xié)同優(yōu)化（source mask co-optimization, SMO）的相關(guān)知識(shí)。這一節(jié)我們將主要探索...

2023-09-01 標(biāo)簽：OPC光學(xué)系統(tǒng)光刻機(jī) 7018 0

如何簡化光刻膠圖形化過程呢？

摻雜少量鉑元素的鎳硅化物的穩(wěn)定性也不盡相同，還與物質(zhì)的具體結(jié)構(gòu)有關(guān)，舉個(gè)例子來說，NiPtSi，比NiSi要穩(wěn)定。

2023-08-27 標(biāo)簽：接觸器CMP光刻機(jī) 1297 0

氦質(zhì)譜檢漏儀電子束***檢漏

上海伯東客戶某光刻機(jī)生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機(jī) Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和...

2023-06-02 標(biāo)簽：光刻機(jī)檢漏氦質(zhì)譜檢漏儀 1146 0

銅電鍍應(yīng)用廣泛 光伏方案多元化

電鍍技術(shù)應(yīng)用廣泛。電鍍技術(shù)是現(xiàn)代微電子制造中的重要技術(shù)，廣泛應(yīng)用于PCB制造、IC封裝等領(lǐng)域

2023-08-24 標(biāo)簽：轉(zhuǎn)換器IC封裝電解液 1335 0

浸沒式光刻，拯救摩爾定律

2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術(shù)過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術(shù)。

2023-08-23 標(biāo)簽：編碼器晶圓交換機(jī) 1796 0

偏振集成紅外光電探測器研究進(jìn)展與應(yīng)用

偏振集成探測器具有體積小、重量輕、結(jié)構(gòu)緊湊，并且無需圖像配準(zhǔn)對(duì)動(dòng)態(tài)目標(biāo)同時(shí)同地同源探測與識(shí)別的優(yōu)勢(shì)。

2023-08-15 標(biāo)簽：探測器紅外傳感器光刻機(jī) 3304 0