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標簽 > 光刻機
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用于Chiplet 3D系統(tǒng)的硅光Interposer工藝架構(gòu)介紹
這篇文章簡要介紹CEA-Leti發(fā)布用于Chiplet 3D系統(tǒng)的硅光Interposer工藝架構(gòu),包括硅光前端工藝 (FEOL)、TSV middle...
2023-08-02 標簽:耦合器光刻機硅光子技術(shù) 7013 0
由于SMO優(yōu)化的結(jié)果是要應用到整塊芯片上去的,而對所有的圖形進行SMO是極為耗時的,因此,我們需要使用關(guān)鍵圖形篩選技術(shù)提前將重復或者冗余的圖形剔除,以保...
芯片制造和傳統(tǒng)IC封裝的生產(chǎn)有何不一樣
DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從制程工藝來看,DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3n...
光刻機的制造是一項復雜而精密的工藝,需要高度專業(yè)化的技術(shù)和設備。它涉及到許多關(guān)鍵的工藝步驟和組件,如光學系統(tǒng)、曝光光源、掩模制作等。
2023-07-04 標簽:集成電路光學系統(tǒng)光刻機 1.4萬 0
中國電科宣布已實現(xiàn)國產(chǎn)離子注入機28納米工藝制程全覆蓋
離子注入機是芯片制造中的關(guān)鍵裝備。在芯片制造過程中,需要摻入不同種類的元素按預定方式改變材料的電性能,這些元素以帶電離子的形式被加速至預定能量并注入至特...
光刻機的難度在于要滿足復雜的制程需求、高精度的要求以及大規(guī)模生產(chǎn)的挑戰(zhàn)。為了應對這些挑戰(zhàn),光刻機制造商需要投入大量的研發(fā)資源和技術(shù)創(chuàng)新,不斷提升設備性能...
超級全面!一文看懂***:MEMS傳感器及芯片制造的最核心設備
文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié),大陸自給率亟待提升 ·光刻機是芯片制造的核心設備,市場規(guī)模全球第二 ·一超兩強壟斷市場,大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機:...
ASML***發(fā)展歷程 ***核心系統(tǒng)設計流程
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機用于芯片的制造,曝光工藝極其復雜,后道光刻機主要用于封裝測試...
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