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標(biāo)簽 > 光刻機(jī)

光刻機(jī)

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光刻機(jī)技術(shù)

簡單梳理芯片制造的基本步驟

從光刻機(jī)出來后還要經(jīng)歷曝光后的烘焙,簡稱后烘。這一步的目的是通過加熱讓光刻膠中的光化學(xué)反應(yīng)充分完成,可以彌補(bǔ)曝光強(qiáng)度不足的問題。

2023-02-16 標(biāo)簽:芯片芯片制造光刻機(jī) 1.0萬 0

***的簡易工作原理圖 掩模版都有哪些種類?

光刻掩模版,別稱“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”,一般使用玻璃或者石英表面覆蓋帶有圖案的金屬圖形,實(shí)現(xiàn)對(duì)光線的遮擋或透過功能,是微電子光刻工...

2023-02-13 標(biāo)簽:集成電路光刻機(jī) 2724 0

國產(chǎn)***能否拯救中國半導(dǎo)體行業(yè)?

6年以作者的認(rèn)知我是認(rèn)為不太可能達(dá)成,但就當(dāng)他可能吧,6年后我們才能擁有28nm全打通的國產(chǎn)蝕刻設(shè)備,與網(wǎng)路上鋪天蓋地的蝕刻我們已能做到5nm是不是有如...

2023-01-17 標(biāo)簽:光刻機(jī)量子計(jì)算 3821 0

淺談ASML EUV光刻機(jī)路線圖

目前主力出貨的TWINSCAN NXE: 3600D套刻精度為1.1nm,曝光速度30 mJ/cm2,每小時(shí)曝光160片晶圓,年產(chǎn)量為140萬片。

2022-12-21 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV 3667 0

一文解析光刻機(jī)的工作原理

利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。

2022-12-01 標(biāo)簽:集成電路光刻機(jī) 6238 0

一文詳解光刻機(jī)的工作原理

  是的!光刻機(jī)本身的原理,其實(shí)和相機(jī)非常相似,同學(xué)們可以把光刻機(jī)就想成是一臺(tái)巨大的單反相。機(jī)。相機(jī)的原理,是被攝物體被光線照射所反射的光線,透過相機(jī)的...

2022-11-21 標(biāo)簽:光刻機(jī) 8377 0

看一下EUV光刻的整個(gè)過程

EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù),簡單來說,就是以極紫外光作“刀”,對(duì)芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻,讓芯片上的電路變成人...

2022-10-10 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUVASML 6250 0

一文解析UCIe技術(shù)細(xì)節(jié)

UCIe[4]是一種開放的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)互連,為異構(gòu)芯片間提供了高帶寬、低延遲、高電源效率和高性價(jià)比的封裝內(nèi)連接,以滿足整個(gè)計(jì)算系統(tǒng)的需求。

2022-10-10 標(biāo)簽:封裝光刻機(jī)異構(gòu)芯片 3534 0

高數(shù)值孔徑 EUV 系統(tǒng)的好處

隨著光刻膠層變得更薄,整體光刻膠的特性變得不那么重要,并且光刻膠(暴露與否)與顯影劑和底層之間的界面變得更加重要。

2022-09-21 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV光刻膠 1226 0

光刻工藝的8個(gè)基本步驟 光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理

摩爾定律 Intel創(chuàng)始人之一摩爾1964年提出,大約每隔12個(gè)月: 1)。芯片能力增加一倍、芯片價(jià)格降低- -倍; 2)。廣大用戶的福音、行業(yè)人...

2022-08-29 標(biāo)簽:光刻光刻機(jī) 1.2萬 0

EUV光刻技術(shù)出現(xiàn)新的挑戰(zhàn):3nm節(jié)點(diǎn)的金屬間距約為22nm

22 nm 節(jié)距quasar illumination的較小部分使得最低衍射級(jí)避免了遮擋可以安全使用,但填充的pupil不到 20%,這再次意味著額外的...

2022-08-10 標(biāo)簽:光刻機(jī)光刻技術(shù)EUV 1486 0

SPM光刻工藝的研究報(bào)告

SPM光刻工藝的研究報(bào)告

在這篇文章中,我們?nèi)A林科納演示了在鈦薄膜上形成納米尺度陽極氧化物的設(shè)備,以及在接觸或半接觸模式下使用NTMDT公司的求解器PROTM AFM對(duì)其進(jìn)行表征。

2022-02-08 標(biāo)簽:電極光刻光刻機(jī) 2160 0

一文詳解光刻機(jī)的工作原理

一文詳解光刻機(jī)的工作原理

光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。

2020-10-16 標(biāo)簽:光刻機(jī) 31.5萬 1

ASML光刻機(jī)的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)解析

ASML光刻機(jī)的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)解析

光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過...

2020-10-09 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASML 1.1萬 0

光刻機(jī)市場(chǎng)簡析 國產(chǎn)光刻機(jī)今年能否進(jìn)入實(shí)際生產(chǎn)環(huán)節(jié)

光刻機(jī)市場(chǎng)簡析 國產(chǎn)光刻機(jī)今年能否進(jìn)入實(shí)際生產(chǎn)環(huán)節(jié)

中科院去年宣布進(jìn)軍光刻機(jī),相信在量子芯片、光子芯片、第三代半導(dǎo)體等領(lǐng)域中國可以實(shí)現(xiàn)彎道超車的。

2021-01-20 標(biāo)簽:光刻機(jī)28nmASML 7174 0

提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)及光刻機(jī)的發(fā)展情況

提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)及光刻機(jī)的發(fā)展情況

作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一,光刻機(jī)一次次革命性的突破,使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況...

2020-08-28 標(biāo)簽:光刻機(jī) 1.4萬 1

中國半導(dǎo)體設(shè)備現(xiàn)在的狀態(tài)到底是怎么樣的

半導(dǎo)體設(shè)備位于整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的上游,在新建晶圓廠中半導(dǎo)體設(shè)備支出的占比普遍達(dá)到 80%。一條晶圓制造新建產(chǎn)線的資本支出占比如下:廠房 20%、晶圓制造...

2020-01-21 標(biāo)簽:電子元器件半導(dǎo)體光刻機(jī) 6438 0

光刻技術(shù)的原理詳細(xì)說明

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)...

2019-12-21 標(biāo)簽:芯片集成電路光刻機(jī) 2.3萬 0

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