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      標簽　>　光刻機

      光刻機

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      光刻機資訊

      芯片的極限是多少納米

      　目前手機處理器的工藝制程是7nm，臺積電也即將量產(chǎn)5nm芯片，未來還有2nm甚至1nm芯片的出現(xiàn)。臺積電的研發(fā)負責(zé)人曾在談?wù)摪雽?dǎo)體工藝極限的問題時，認...

      2022-06-24 標簽：芯片光刻機2nm 2.6萬 0

      半導(dǎo)體設(shè)備將再度面臨交期延長至18~30個月？

      市調(diào)機構(gòu)TrendForce在最新研報指出，半導(dǎo)體設(shè)備又再度面臨交期延長至18~30個月不等的困境。

      2022-06-23 標簽：高通光刻機EUV 2310 0

      2nm芯片是極限嗎

      2nm芯片是極限嗎 去年IBM公布的2nm芯片一時轟動了世界，而當(dāng)時的三星和臺積電還在苦苦研發(fā)3nm技術(shù)。 到了現(xiàn)在，三星和臺積電的3nm技術(shù)終于要在下...

      2022-06-23 標簽：臺積電光刻機ASML 5263 0

      ASML的High-NA光刻機居然只賣出5臺，大多芯片廠商不為所動

      在電子化程度如此高的現(xiàn)在，人們身邊的電子設(shè)備比比皆是，而它們又都離不開芯片?，F(xiàn)在芯片制程技術(shù)也處于飛速發(fā)展的階段，芯片巨頭臺積電和三星都將在今年下半年開...

      2022-06-22 標簽：光刻機ASML 1899 0

      流片為什么這么貴？如何降低流片成本？

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      　掩膜版的質(zhì)量會直接影響光刻的質(zhì)量，掩膜版上的制造缺陷和誤差也會伴隨著光刻工藝被引入到芯片制造中。因此，掩膜版是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。

      2022-06-21 標簽：芯片制造光刻機流片 4880 0

      “缺芯”浪潮持續(xù)發(fā)酵 國內(nèi)市場是何現(xiàn)狀

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      中國芯片公司數(shù)量的暴增，到底是真實的繁榮還是浮躁的“財富密碼”？

      2022-06-20 標簽：光刻機5G芯片 1962 0

      全球芯片供給過剩跡象明顯，ASML內(nèi)藏隱憂

      　ASML的主要產(chǎn)品是光刻機，而光刻機的客戶相當(dāng)有限，其中最先進的EUV光刻機客戶如今更是剩下臺積電、三星和Intel三家，如此情況下決定ASML業(yè)績的...

      2022-06-20 標簽：光刻機EUVASML 1929 0

      荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機

      據(jù)CNBC報道稱，世界聞名的先進光刻機智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機。

      2022-06-18 標簽：馬達光刻機 2171 0

      臺積電將于2024年引進ASML最新EUV光刻機，主要用于相關(guān)研究

      日前，在臺積電召開的會議上，有一名高管稱臺積電將于2024年引進ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機。 會議中，該高管稱：為了滿足客戶所...

      2022-06-17 標簽：臺積電光刻機ASML 7269 0

      英特爾的Intel 4能對標臺積電的4nm嗎？

      其實早在一個月前，英特爾的Intel?4工藝的情報就被陸續(xù)爆料出來了，只不過近日在VLSI22論壇上，其詳細情報終于解禁，我們也得以看看英特爾版的7nm...

      2022-06-15 標簽：英特爾臺積電光刻機 4881 0

      佳能新發(fā)售KrF半導(dǎo)體光刻機的Grade10升級包

      佳能新發(fā)售KrF半導(dǎo)體光刻機的Grade10升級包

      佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF※1半導(dǎo)體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級配件包（以下簡稱“Grade10”升級包）。K...

      2022-06-14 標簽：佳能光刻機 2890 0

      面對芯片制裁 俄正式出手

      氖氣在空氣中的占比僅為十萬分之一，并且氖氣的沸點極低，從空氣中分流提取高純度氖氣難度非常高，并且相關(guān)的設(shè)備和技術(shù)是絕對保密的。

      2022-06-08 標簽：臺積電光刻機ASML 1787 0

      三星董事李在镕親自拜訪ASML，只為爭取到EUV光刻機

      據(jù)外媒報道稱，三星電子公司董事李在镕今天將起身前往荷蘭拜訪光刻機廠商ASML，此舉表明三星很有可能會大量采購光刻機。 據(jù)了解，李在镕將會在荷蘭待上11天...

      2022-06-07 標簽：三星電子光刻機ASML 1538 0

      不只是光刻機，還有這一半導(dǎo)體材料依賴進口

      在半導(dǎo)體生產(chǎn)制造領(lǐng)域，如今可以說是沒有光刻機寸步難行。即便如此，有了制造設(shè)備，沒有材料的支撐也是造不出芯的。今天，我們就來講講半導(dǎo)體材料中的高純石英。 ...

      2022-06-06 標簽：半導(dǎo)體半導(dǎo)體材料光刻機 4342 0

      ASML正致力于新一代High-NA光刻機制造，每臺預(yù)計售價4億美元

      近日，據(jù)外媒路透社報道稱，全球最先進的光刻機生產(chǎn)廠商ASML正致力于進行新一代光刻機的制造，預(yù)計第一臺會在明年完工，將在2025能夠正式投入使用，每臺新...

      2022-05-22 標簽：光刻機ASML 4435 0

      關(guān)于EUV光刻機的缺貨問題

      關(guān)于EUV光刻機的缺貨問題

      臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。

      2022-05-13 標簽：光刻機EUV三星 2779 0

      基于面光源的自由曲面光學(xué)技術(shù)

      虹科定制的高穩(wěn)定UV-LED采用了超高穩(wěn)定度光源驅(qū)動技術(shù)具有≥99.92%的穩(wěn)定性與>96%的光均勻性在流體力學(xué)飛行器PSP測試系統(tǒng)中大放異彩。

      2022-04-26 標簽：光刻機光學(xué)技術(shù)面光源 2609 0

      中國超導(dǎo)量子芯片研發(fā)進入國產(chǎn)自主化的發(fā)展道路

      在浙江大學(xué)召開的超導(dǎo)量子芯片學(xué)術(shù)成果研討會上，朱詩堯教授介紹了“莫干1號”、“天目1號”兩款國產(chǎn)超導(dǎo)量子芯片。

      2022-04-25 標簽：光刻機量子芯片 4523 0

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