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標(biāo)簽 > 光刻機(jī)
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三星3nm工藝投產(chǎn)延遲,新技術(shù)讓芯片功耗下降約50%
4月7日消息,在 5nm 工藝即將大規(guī)模量產(chǎn)的情況下,3nm 工藝就成了臺(tái)積電和三星這兩大芯片代工商關(guān)注的焦點(diǎn)。三星電子旗下的三星晶圓代工,此前設(shè)定的目...
新萊應(yīng)材接受投資者提問(wèn)時(shí)表示,光刻機(jī)領(lǐng)域根據(jù)結(jié)構(gòu)圖紙是有機(jī)會(huì)可以使用到我司的真空系統(tǒng)產(chǎn)品,我們也一直努力試圖跟ASML接觸,同時(shí)也希望能透過(guò)真空技術(shù)與國(guó)...
我們能否用逆向技術(shù)來(lái)復(fù)制荷蘭的光刻機(jī)技術(shù)
從理論上看,使用逆向技術(shù)確實(shí)可以復(fù)制荷蘭ASML的光刻機(jī)技術(shù),但是從實(shí)際出發(fā),這是行不通的,就算把光刻機(jī)的設(shè)計(jì)圖紙給我們,我們也無(wú)法生產(chǎn)。
受疫情影響 ASML宣布下調(diào)Q1季度營(yíng)收預(yù)期
由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多個(gè)行業(yè)的生產(chǎn)、消費(fèi)都受到影響了,半導(dǎo)體行業(yè)也不例外。ASML公司今天宣布下調(diào)Q1季度營(yíng)收預(yù)期,同時(shí)暫停股票回...
疫情導(dǎo)致供應(yīng)鏈被限制,ASML Q1季度營(yíng)收預(yù)期減少1/4
由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多個(gè)行業(yè)的生產(chǎn)、消費(fèi)都受到影響了,半導(dǎo)體行業(yè)也不例外。ASML公司今天宣布下調(diào)Q1季度營(yíng)收預(yù)期,同時(shí)暫停股票回...
中國(guó)的光刻機(jī)與荷蘭光刻機(jī)技術(shù)相比,主要區(qū)別是什么
芯片是半導(dǎo)體里的一個(gè)集大成者,而現(xiàn)在芯片的利用率非常的高,所以要想有一些技術(shù)領(lǐng)域的突破,就勢(shì)必要在芯片領(lǐng)域有所發(fā)展。
如今的7nm EUV 芯片,晶體管多大100億個(gè),它們是怎么樣安上去的呢。晶體管并非是安裝上去的,芯片制造其實(shí)分為沙子-晶圓,晶圓-芯片這樣的過(guò)程,而在...
我國(guó)光刻機(jī)技術(shù)處于一個(gè)什么水平,未來(lái)發(fā)展將會(huì)何如
我國(guó)的光刻機(jī)目前能做的只有90nm制程,而荷蘭的ASML 最新EUV工藝光刻機(jī)可以做到7nm制程、6nm制程、5nm制程,并且一臺(tái)頂級(jí)的光刻機(jī)需要上萬(wàn)個(gè)...
極紫外光刻機(jī)想要突破3納米,需要開(kāi)發(fā)全新的材料
臺(tái)積電即將量產(chǎn)全球最先進(jìn)的 5nm 工藝技術(shù),在摩爾定律看似順?biāo)焱七M(jìn)下,材料技術(shù)發(fā)展的重重阻礙卻在臺(tái)面下暗潮洶涌。
我國(guó)的光刻機(jī)與光刻膠迎來(lái)了發(fā)展的黃金期
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展落后,這是已經(jīng)形成的共識(shí),也是以美國(guó)為首的西方國(guó)家打壓我們的重點(diǎn)領(lǐng)域,因?yàn)楸凰麄兡米×似叽?,一時(shí)間,讓不過(guò)人感覺(jué)我們的發(fā)展陷入了困境。
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造設(shè)備中價(jià)格占比最大,也是最核心的設(shè)備,是附加價(jià)值極高的產(chǎn)品,被譽(yù)為是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。
LGD引進(jìn)尼康步進(jìn)式光刻機(jī) 以加快將業(yè)務(wù)重心轉(zhuǎn)向OLED
3 月 18 日訊,據(jù)韓媒報(bào)道,LG Display 計(jì)劃本月從尼康引進(jìn)步進(jìn)式光刻機(jī),用于坡州市 P10 工廠內(nèi)的 10.5 代 OLED 產(chǎn)線,以加快...
LG Display計(jì)劃從尼康引進(jìn)一臺(tái)步進(jìn)式光刻機(jī) 加快將業(yè)務(wù)重心轉(zhuǎn)向OLED
據(jù)韓媒etnews報(bào)道,業(yè)內(nèi)人士透露,LG Display計(jì)劃本月從尼康引進(jìn)一臺(tái)步進(jìn)式光刻機(jī),用于坡州市P10工廠內(nèi)的10.5代OLED產(chǎn)線。據(jù)悉,該公...
2020-03-18 標(biāo)簽:OLED光刻機(jī)LG Display 672 0
光刻機(jī)能干什么_英特爾用的什么光刻機(jī)_光刻機(jī)在芯片生產(chǎn)有何作用
光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一,其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外,還有用于封裝的光刻機(jī),或者是用于LED制造領(lǐng)域的投...
光刻機(jī)是誰(shuí)發(fā)明的_中國(guó)光刻機(jī)與荷蘭差距
光刻機(jī)是集成電路制造中最精密復(fù)雜、難度最高、價(jià)格最昂貴的設(shè)備,用于在芯片制造過(guò)程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉(zhuǎn)移。集成電路在制作過(guò)程中經(jīng)歷材料制備、掩...
光刻機(jī)中國(guó)能造嗎_為什么中國(guó)生產(chǎn)不了光刻機(jī)
,中國(guó)最好的光刻機(jī)廠商上海微電子裝備有限公司(SMEE)已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機(jī)中,性能最好的SSA600/20工藝只能達(dá)到90nm,相當(dāng)于2004年上市的奔騰...
ASML研發(fā)下一代EUV光刻機(jī):分辨率提升70% 逼近1nm極限
一、2021年的交付量將是2019年的兩倍左右 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在推出兩代極紫外光刻機(jī)之后,阿斯麥公司又已在研發(fā)下一代極紫外光刻機(jī),計(jì)劃2022年年初開(kāi)...
2020-03-18 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 3075 0
近日,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)公司2019年的年報(bào)中披露了關(guān)于下一代EUV極紫光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)程,預(yù)計(jì)2022年年初開(kāi)始出貨,2024年實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。
曝ASML新一代EUV光刻機(jī)預(yù)計(jì)2022年開(kāi)始出貨 將進(jìn)一步提升光刻機(jī)的精度
在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)...
ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī) 分辨率能提升70%左右
在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)...
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